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Ideale Vakuum-HAFNIUM-Pellets – Hf, 100 Gramm, 99,95 Prozent Reinheit, Hafnium-Schmelzpunkt 2227 °C, 1 – 6 mm Pellets, PVD-Aufdampfmaterialien, Hafnium-Dünnfilme

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Ideale Vakuum-HAFNIUM-Pellets – Hf, 100 Gramm, 99,95 Prozent Reinheit, Hafnium-Schmelzpunkt 2227 °C, 1 – 6 mm Pellets, PVD-Aufdampfmaterialien, Hafnium-Dünnfilme

Zustand:

Neu

Artikelnummer:

P1013584

Garantie:

Full Manufacturer's Warranty

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An Verkauf: €833.47

Währung: Euro (Euro)

Beschreibung

Ideale Vakuum-PVD-Materialien, Hafniumpellets – Hf, 99,95 % (3N5) Reinheit, Hafniumschmelzpunkt 2227 °C, 1 – 6 mm Pelletgröße, 100 Gramm, Materialien für thermische Verdampfung, Materialien für Elektronenstrahlabscheidung, dünne Hafniummetallfilme, Teilenummer: P1013584
Ideal Vacuum Products, LLC.

Wir liefern hochwertige PVD-Aufdampfmaterialien für Ihren Prozess.

Bei diesem Produkt handelt es sich um eine Flasche mit 100 Gramm hochreiner Hafniumpellets (99,95 %) mit einer Größe von 1 x 6 mm, die in PET-Plastikflaschen geliefert werden. Diese Stücke haben eine Dichte von 13,31 g/cm³, einen Schmelzpunkt von 2.227 °C und einen Dampfdruck von 10-4 Torr bei 3.090 °C. Ihr Wärmeausdehnungskoeffizient beträgt 5,9 x 10-6/K und ihr Z-Verhältnis beträgt 0,36.

Wir verwenden eine sehr wettbewerbsfähige Preisstrategie, um sicherzustellen, dass Sie Produkte von höchster Qualität zum bestmöglichen Preis erhalten, sodass Sie bei jedem Einkauf sowohl Erschwinglichkeit als auch Exzellenz genießen. Wir bieten jedem Kunden Rabatte, und Kunden, die Großbestellungen aufgeben, erhalten noch höhere Rabatte. Wir führen einen großen Lagerbestand an PVD-Verdampfungsmaterialien, sodass die meisten Bestellungen noch am selben Tag versandt werden. Diese kurze Vorlaufzeit wird von all unseren Kunden geschätzt, die ihren Cashflow verwalten, niedrige Lagerbestände aufrechterhalten und Lagerkosten senken möchten. Wenn ein Kunde bei Ideal Vacuum kauft, erhält er sein Produkt schnell, was die Zufriedenheit steigert und gleichzeitig seinen dringenden Lagerbedarf deckt. Dies ermöglicht es unseren Kunden auch, ihrer Konkurrenz einen Schritt voraus zu sein, indem sie sich schnell an neue Trends und Anforderungen anpassen.

Preisgarantie
Wir möchten Ihnen den besten Gegenwert für Ihren Einkauf bieten. Wenn Sie einen identischen Artikel bei einem Mitbewerber zu einem günstigeren Preis finden, passen wir den Preis aktiv an. Geben Sie uns einfach die relevanten Details und wir sorgen dafür, dass Sie ein besseres Angebot erhalten.

Hafnium
Hafnium ist aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften, wie hohem Schmelzpunkt, hervorragender Korrosionsbeständigkeit und der Fähigkeit zur Bildung stabiler Oxide, ein wertvolles Material in Dünnschichtanwendungen.

Dünnschichtanwendungen von Hafnium

Elektronik und Mikroelektronik: Gate-Dielektrika: Hafniumoxid (HfO2) wird in modernen Halbleiterbauelementen häufig als High-k-Gate-Dielektrikum (hohe Dielektrizitätskonstante) in Transistoren verwendet. Es ersetzt Siliziumdioxid (SiO2) in Knoten moderner CMOS-Technologie, um Gate-Leckagen zu reduzieren und eine weitere Miniaturisierung elektronischer Komponenten zu ermöglichen.
Kondensatoren: HfO2 wird auch in Kondensatoren verwendet, wo seine hohe Dielektrizitätskonstante eine höhere Kapazität in einem kleineren Volumen ermöglicht und so die Leistung verschiedener elektronischer Geräte verbessert.

Verschleißfeste Beschichtungen: Mechanische Anwendungen: Dünne Hafniumfilme werden als verschleißfeste Beschichtungen auf mechanischen Komponenten aufgebracht, die extremen Bedingungen ausgesetzt sind. Die Filme tragen dazu bei, die Lebensdauer dieser Komponenten zu verlängern, indem sie eine harte, langlebige Oberfläche bieten.

Nukleare Anwendungen: Steuerstabbeschichtungen: Hafniums Fähigkeit, Neutronen zu absorbieren, macht es zu einem bevorzugten Material in Kernreaktoren, wo es in Steuerstäben verwendet wird. Dünne Filme aus Hafnium oder seinen Legierungen werden auf Steuerstäbe aufgetragen, um deren Leistung und Lebensdauer zu verbessern.

Optische Anwendungen: Schichten mit hohem Brechungsindex: Dünne Filme aus Hafniumoxid werden in optischen Beschichtungen verwendet, insbesondere in Antireflexbeschichtungen, Spiegeln und Linsen. Aufgrund seines hohen Brechungsindex und seiner Transparenz im sichtbaren und nahen Infrarotbereich ist es ideal für diese Anwendungen.
Laserbeschichtungen: HfO2 wird in Beschichtungen für Laseroptiken verwendet, da es hoher Laserleistung standhält, ohne nachzulassen, und so Haltbarkeit und Leistung in Hochleistungslasersystemen gewährleistet.

Hafniums einzigartige Kombination aus hoher Dielektrizitätskonstante, Korrosionsbeständigkeit, hohem Brechungsindex und Stabilität unter extremen Bedingungen macht es zu einem äußerst vielseitigen Material für Dünnschichtanwendungen. Es wird häufig in der Elektronik, Optik, bei Schutzbeschichtungen, in der Nukleartechnik und in der Katalyse eingesetzt und trägt erheblich zu Fortschritten in diesen Bereichen bei.

Ideal Vacuum Products bietet eine große Auswahl an Verdampfungsmaterialien zu einem sehr wettbewerbsfähigen Preis und mit kurzer Lieferzeit. Wir nehmen auch kundenspezifische Pellet-Größenbestellungen entgegen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Bei Fragen wenden Sie sich bitte an unser Vertriebsteam.

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