Edwards iXM 200 Trockenvakuumpumpe, Halbleiterkorrosionsbeständigkeit, 200–230 VAC, 50/60 Hz, 3-phasig. PN: A56106958

Die Edwards iXM 200 ist eine neue Trockenpumpenreihe für die umweltfreundliche Fertigung. Dank des effizienten Roots-Mechanismus mit sehr geringem Energieverbrauch konnte die Eingangsleistung drastisch auf 1,3 kW reduziert werden – 60 % weniger als bei der vorherigen Trockenpumpengeneration. Dies reduziert die Umweltbelastung und senkt die Betriebskosten. Gasbarrieretechnologie und verbessertes thermisches Design sorgen für eine viermal höhere Korrosionsbeständigkeit als bei Produkten der iH-Serie. Dank fortschrittlicher Pulverhandhabungsfunktionen bietet die iXM maximale Zuverlässigkeit und eine längere Pumpenlebensdauer für Mehrschichtätzprozesse sowie einen reduzierten Stromverbrauch für CVD-Prozesse.

Die Pumpen der Edwards iXM 200-Serie zeichnen sich durch ihre kompakte und leichte Bauweise sowie ihre außergewöhnlich geringe Geräuschentwicklung und Vibration aus. Damit ist die iXM die vielseitigste Trockenpumpe im Edwards-Sortiment. Sie übertrifft Ihre Erwartungen an Trockenvakuumpumpentechnologie, bietet echte Vorteile und verlängerte Betriebszeiten bei minimaler Umweltbelastung. iXM-Pumpen sind für den Einsatz in den meisten Halbleiterprozessen konzipiert und ermöglichen eine deutliche Reduzierung der Eingangsleistung. Die vollständige Bedienungsanleitung finden Sie unter DOWNLOADS.

FUNKTIONEN und VORTEILE:

• Vorwiegend für Anwendungen mit sauberen bis leichten aggressiven Chemikalien (siehe Anwendungsspektrum unten)
• Spitzenpumpgeschwindigkeit 200 m3/h-1 (118 CFM)
• Enddruck 1,5 x 10-2 Torr
• Enthält nur die Primärpumpe
• Keine vorbeugende Wartung erforderlich
• 3/8 Zoll Quick Connect Wasserfüllungen
• Wasser- und Stromanschluss-Paarhälften
• SS-Wasserkühlsystem
• Varimode-Gasmodul
  
  ANWENDUNGEN:
  • Ladesperre
  • Überweisen
  • Meteorologie
  • Lithografie
  • Physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD)
  • Vorreinigung durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
  • Schnelles thermisches Tempern (RTA)
  • Streifen/Veraschung
  • Radierung
  • Implantatquelle
  • Chemische Gasphasenabscheidung mit hochdichtem Plasma (HDP, CVD)
  • Schnelle thermische Verarbeitung (RTP)
  • Subatmosphärische chemische Gasphasenabscheidung (SACVD)
  • Chemische Gasphasenabscheidung (WCVD) von Wolfram
  • Modifizierte chemische Gasphasenabscheidung (MCVD)
  • Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
  • Chemische Gasphasenabscheidung (LPCVD) bei niedrigem Druck