Objetivos de pulverización catódica con magnetrón circular de vacío ideal, objetivo de pulverización catódica de TANTALIO (Ta), 3'' de diámetro x 0,25'' de espesor, 99,95 por ciento de pureza

Este producto es un objetivo de pulverización catódica de TANTALIO-Ta con magnetrón circular, con un diámetro de 3'' x 0,25'' de espesor. Tiene una pureza del 99,95%.

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TANTALIO -Ta

Los blancos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se utilizan ampliamente para la deposición de películas delgadas en diversas industrias de alta tecnología debido a las excelentes propiedades mecánicas, químicas y eléctricas del tantalio. A continuación, se incluye un resumen conciso de los blancos de pulverización catódica de tantalio en películas delgadas:

1. Propiedades del material:
Punto de fusión alto: el tantalio tiene un punto de fusión excepcionalmente alto (~3017 °C), lo que lo hace estable en condiciones de alta temperatura.
Resistencia a la corrosión: El tantalio es químicamente inerte y altamente resistente a la corrosión por ácidos, lo que lo hace ideal para capas protectoras y de barrera.
Ductilidad y resistencia: el tantalio es fuerte y dúctil, lo que permite la formación de películas delgadas y duraderas.
Conductividad eléctrica: El tantalio es un material conductor, lo que lo hace adecuado para su uso en aplicaciones eléctricas y microelectrónicas.

2. Métodos de deposición:
Pulverización catódica de CC: dado que el tantalio es conductor, la pulverización catódica de CC se utiliza a menudo para la deposición de películas delgadas, lo que permite una mayor tasa de deposición en comparación con la pulverización catódica de RF.
Pulverización catódica por radiofrecuencia: la pulverización catódica por radiofrecuencia también se puede utilizar si es necesario, en particular en configuraciones de deposición complejas, pero la pulverización catódica por CC es más común para el tantalio.
Pulverización catódica reactiva: el tantalio se utiliza con frecuencia en la pulverización catódica reactiva para formar compuestos de tantalio, como el pentóxido de tantalio (Ta ₂ O ₅ ), para aplicaciones específicas.

3. Aplicaciones:
Microelectrónica: El tantalio se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores y circuitos integrados. Se emplean películas delgadas de tantalio como capas de barrera en las interconexiones de cobre para evitar la difusión del cobre en el silicio u otras capas.
Condensadores: Las películas delgadas de tantalio se utilizan en los condensadores de tantalio, donde proporcionan alta capacitancia y confiabilidad, especialmente en dispositivos pequeños.
Recubrimientos protectores: Debido a su excelente resistencia a la corrosión, el tantalio se utiliza como recubrimiento protector en entornos químicos agresivos, incluso en la industria de procesamiento químico y en los implantes biomédicos.
Recubrimientos ópticos: El tantalio se utiliza en algunos recubrimientos ópticos por su resistencia mecánica y durabilidad, aunque su uso principal en óptica proviene de compuestos como Ta ₂ O ₅ .

4. Propiedades de la película:
Resistencia mecánica: Las películas delgadas de tantalio proporcionan recubrimientos fuertes y resistentes al desgaste, útiles en aplicaciones de protección.
Resistencia a la corrosión y la oxidación: las películas de tantalio resisten la oxidación y la corrosión, lo que las hace adecuadas para entornos de alto rendimiento.
Capas de barrera: el tantalio se utiliza con frecuencia como barrera de difusión en microelectrónica para evitar la migración de metales (por ejemplo, cobre) y mejorar la longevidad del dispositivo.
Conductividad eléctrica: La conductividad del tantalio lo hace ideal para su uso en circuitos y componentes electrónicos, como resistencias, electrodos y transistores de película delgada.

5. Deposición reactiva:
Pentóxido de tantalio (Ta ₂ O ₅ ): El tantalio a menudo se pulveriza en un entorno reactivo con oxígeno para formar películas delgadas de Ta ₂ O ₅ , que se utilizan en recubrimientos ópticos y capas dieléctricas debido a su alta constante dieléctrica y transparencia óptica.

6. Desafíos:
Envenenamiento del objetivo: en los procesos de pulverización reactiva, el envenenamiento del objetivo puede ocurrir cuando se forman compuestos no metálicos (por ejemplo, óxidos) en el objetivo de tantalio, lo que reduce la eficiencia de la pulverización.
Estrés en películas: Las películas de tantalio pueden desarrollar estrés interno durante la deposición, lo que puede afectar la adhesión y el rendimiento de la película.

Resumen:
Los blancos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se utilizan principalmente en microelectrónica, recubrimientos protectores y condensadores debido a su alta resistencia a la corrosión, conductividad y durabilidad mecánica. Las películas delgadas de tantalio son cruciales para las capas de barrera en circuitos integrados, barreras de difusión en interconexiones de cobre y en electrodos de condensadores. La pulverización catódica _de CC se utiliza normalmente para una deposición eficiente, mientras que la pulverización catódica reactiva puede formar compuestos de tantalio como _Ta2O5 , que se utilizan ampliamente en recubrimientos ópticos y dieléctricos.