Cibles de pulvérisation magnétron circulaires à vide idéales, TITANE - Cible de pulvérisation Ti, 3'' de diamètre x 0,25" d'épaisseur, pureté de 99,995 pour cent

Ce produit est une cible de pulvérisation TITANE - Ti magnétron circulaire, d'un diamètre de 3'' x 0,25" d'épaisseur. Il est pur à 99,995 %.

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TITANE - Ti

Les cibles de pulvérisation en titane (Ti) sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces en raison des excellentes propriétés mécaniques, chimiques et physiques du titane. Voici un résumé des cibles de pulvérisation en titane dans les couches minces :

1. Propriétés matérielles :
Rapport résistance/poids élevé : le titane est connu pour sa légèreté et sa résistance mécanique élevée, ce qui le rend idéal pour les films minces qui nécessitent une durabilité sans ajouter de masse significative.
Résistance à la corrosion : Le titane est très résistant à la corrosion, en particulier dans les environnements difficiles tels que l’eau de mer et les conditions acides.
Biocompatibilité : Le titane est biocompatible, ce qui le rend adapté à une utilisation dans les dispositifs médicaux et les revêtements biomédicaux.

2. Méthodes de dépôt :
Pulvérisation CC : le titane est un matériau conducteur, c'est pourquoi la pulvérisation magnétron CC est couramment utilisée pour un dépôt efficace de couches minces.
Pulvérisation RF : la pulvérisation RF peut être utilisée dans les cas où une pulvérisation réactive ou des structures à couches minces plus complexes sont nécessaires.
Pulvérisation réactive : le titane est fréquemment pulvérisé en présence de gaz réactifs (tels que l'oxygène ou l'azote) pour former des composés de titane comme le dioxyde de titane (TiO2) et le nitrure de titane (TiN).

3. Applications :
Microélectronique : le titane est utilisé dans les barrières de diffusion, les couches d'adhésion et les contacts électriques des dispositifs semi-conducteurs. Il forme des films minces qui aident à empêcher la diffusion du métal dans les circuits intégrés.
Revêtements optiques : Le titane est utilisé dans les revêtements optiques, notamment dans les revêtements antireflets, comme couche protectrice durable. Le dioxyde de titane (TiO2) est un matériau à indice de réfraction élevé souvent utilisé dans les revêtements optiques multicouches.
Revêtements protecteurs : les films minces de titane sont couramment utilisés pour les revêtements résistants à la corrosion et à l'usure dans les industries aérospatiale, automobile et chimique.
Applications médicales : En raison de sa biocompatibilité, le titane est utilisé dans les films minces pour les implants, les prothèses et les dispositifs médicaux afin d'améliorer leur durabilité et leur interaction avec les tissus biologiques.
Catalyse : Les films minces à base de titane (tels que TiO2) sont utilisés en photocatalyse, notamment dans les applications environnementales comme la purification de l'air et de l'eau.

4. Propriétés du film :
Résistance mécanique : Les films de titane sont connus pour leur durabilité et leur résistance, offrant une résistance à l'usure et une protection mécanique.
Résistance à la corrosion : les films minces de titane sont très résistants à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une utilisation dans les environnements marins et autres conditions chimiques agressives.
Adhérence : Les films minces de titane servent souvent de couches d'adhérence pour améliorer la liaison d'autres revêtements, en particulier sur des matériaux qui ne se lient pas naturellement bien.
Propriétés optiques : Les films de dioxyde de titane (TiO2), formés par pulvérisation réactive, sont très transparents dans le domaine visible et ont un indice de réfraction élevé (~ 2,5), ce qui les rend adaptés aux revêtements optiques.

5. Dépôt réactif :
Dioxyde de titane (TiO2) : Formé par pulvérisation réactive dans un environnement d'oxygène, le TiO2 est utilisé dans les revêtements optiques, les cellules solaires et les photocatalyseurs en raison de sa transparence et de son indice de réfraction élevé.
Nitrure de titane (TiN) : Formé par pulvérisation de titane dans une atmosphère d'azote, le TiN est utilisé dans les revêtements durs, les surfaces résistantes à l'usure et les films conducteurs en microélectronique.

6. Défis :
Oxydation : Le titane est réactif et il faut veiller à contrôler l'état d'oxydation, en particulier lors du dépôt dans des environnements réactifs (par exemple, en formant du TiO2 sans suroxyder le film).
Contrainte dans les films : les films minces en titane peuvent développer des contraintes internes pendant le dépôt, ce qui peut affecter l'adhérence et les propriétés mécaniques du film.

Résumé:
Les cibles de pulvérisation en titane (Ti) sont largement utilisées dans la microélectronique, les revêtements optiques, les couches protectrices et les dispositifs médicaux en raison de la résistance élevée du titane, de sa résistance à la corrosion et de sa biocompatibilité. La pulvérisation CC est couramment utilisée pour le dépôt de titane, tandis que la pulvérisation réactive permet la formation de composés de titane comme TiO2 et TiN, qui ont des applications dans l'optique, la photocatalyse et les revêtements durs. Les couches minces de titane offrent une excellente résistance mécanique, une résistance à la corrosion et des propriétés d'adhérence dans un large éventail d'industries.

Remarques :
Il est recommandé d'utiliser des plaques de support métalliques ou élastomères pour tous les matériaux cibles diélectriques, car ces matériaux présentent des caractéristiques qui ne se prêtent pas à la pulvérisation cathodique, telles que la fragilité et une faible conductivité thermique. Ces cibles sont plus sensibles aux chocs thermiques en raison de leur faible conductivité thermique et peuvent donc nécessiter des procédures spécifiques de montée et de descente en puissance lors des étapes de démarrage et d'arrêt.