Cibles de pulvérisation magnétron circulaires sous vide idéales, titane - Cible de pulvérisation Ti, 3'' de diamètre x 0,25" d'épaisseur, pureté de 99,995 %

Ce produit est une cible de pulvérisation TITANE - Ti à magnétron circulaire, d'un diamètre de 3'' x 0,25" d'épaisseur. Il est pur à 99,995 %.

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TITANE - Ti

Les cibles de pulvérisation cathodique en titane (Ti) sont largement utilisées pour le dépôt de couches minces en raison de ses excellentes propriétés mécaniques, chimiques et physiques. Voici un aperçu des cibles de pulvérisation cathodique en titane pour couches minces :

1. Propriétés du matériau :
Rapport résistance/poids élevé : le titane est connu pour sa légèreté et sa résistance mécanique élevée, ce qui le rend idéal pour les films minces qui nécessitent une durabilité sans ajouter de masse significative.
Résistance à la corrosion : Le titane est très résistant à la corrosion, en particulier dans les environnements difficiles tels que l’eau de mer et les conditions acides.
Biocompatibilité : Le titane est biocompatible, ce qui le rend adapté à une utilisation dans les dispositifs médicaux et les revêtements biomédicaux.

2. Méthodes de dépôt :
Pulvérisation CC : le titane est un matériau conducteur, c'est pourquoi la pulvérisation magnétron CC est couramment utilisée pour un dépôt efficace de couches minces.
Pulvérisation RF : la pulvérisation RF peut être utilisée dans les cas où une pulvérisation réactive ou des structures à couches minces plus complexes sont nécessaires.
Pulvérisation réactive : le titane est fréquemment pulvérisé en présence de gaz réactifs (tels que l'oxygène ou l'azote) pour former des composés de titane comme le dioxyde de titane (TiO2) et le nitrure de titane (TiN).

3. Applications :
Microélectronique : Le titane est utilisé dans les barrières de diffusion, les couches d'adhésion et les contacts électriques des semi-conducteurs. Il forme des couches minces qui contribuent à empêcher la diffusion du métal dans les circuits intégrés.
Revêtements optiques : Le titane est utilisé dans les revêtements optiques, notamment les revêtements antireflets, comme couche protectrice durable. Le dioxyde de titane (TiO2) est un matériau à indice de réfraction élevé, souvent utilisé dans les revêtements optiques multicouches.
Revêtements protecteurs : les films minces de titane sont couramment utilisés pour les revêtements résistants à la corrosion et à l'usure dans les industries aérospatiale, automobile et chimique.
Applications médicales : En raison de sa biocompatibilité, le titane est utilisé dans les films minces pour les implants, les prothèses et les dispositifs médicaux afin d'améliorer leur durabilité et leur interaction avec les tissus biologiques.
Catalyse : Les films minces à base de titane (tels que TiO2) sont utilisés en photocatalyse, notamment dans les applications environnementales comme la purification de l'air et de l'eau.

4. Propriétés du film :
Résistance mécanique : Les films de titane sont connus pour leur durabilité et leur résistance, offrant une résistance à l'usure et une protection mécanique.
Résistance à la corrosion : les films minces de titane sont très résistants à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une utilisation dans les environnements marins et autres conditions chimiques agressives.
Adhérence : Les films minces de titane servent souvent de couches d'adhérence pour améliorer la liaison d'autres revêtements, en particulier sur des matériaux qui ne se lient pas naturellement bien.
Propriétés optiques : Les films de dioxyde de titane (TiO2), formés par pulvérisation réactive, sont très transparents dans le domaine visible et ont un indice de réfraction élevé (~ 2,5), ce qui les rend adaptés aux revêtements optiques.

5. Dépôt réactif :
Dioxyde de titane (TiO2) : Formé par pulvérisation réactive dans un environnement d'oxygène, le TiO2 est utilisé dans les revêtements optiques, les cellules solaires et les photocatalyseurs en raison de sa transparence et de son indice de réfraction élevé.
Nitrure de titane (TiN) : Formé par pulvérisation de titane dans une atmosphère d'azote, le TiN est utilisé dans les revêtements durs, les surfaces résistantes à l'usure et les films conducteurs en microélectronique.

6. Défis :
Oxydation : Le titane est réactif et il faut veiller à contrôler l'état d'oxydation, en particulier lors du dépôt dans des environnements réactifs (par exemple, en formant du TiO2 sans suroxyder le film).
Contrainte dans les films : les films minces en titane peuvent développer une contrainte interne pendant le dépôt, ce qui peut affecter l'adhérence et les propriétés mécaniques du film.

Résumé:
Les cibles de pulvérisation cathodique en titane (Ti) sont largement utilisées en microélectronique, dans les revêtements optiques, les couches protectrices et les dispositifs médicaux en raison de sa grande solidité, de sa résistance à la corrosion et de sa biocompatibilité. La pulvérisation cathodique CC est couramment utilisée pour le dépôt de titane, tandis que la pulvérisation cathodique réactive permet la formation de composés de titane comme TiO2 et TiN, utilisés en optique, en photocatalyse et dans les revêtements durs. Les couches minces de titane offrent d'excellentes propriétés de résistance mécanique, de résistance à la corrosion et d'adhérence dans un large éventail d'industries.

Remarques :
Le collage de plaques de support métalliques ou élastomères est recommandé pour tous les matériaux cibles diélectriques, car ces matériaux présentent des caractéristiques qui les rendent difficiles à pulvériser, telles que la fragilité et une faible conductivité thermique. Ces cibles sont particulièrement sensibles aux chocs thermiques en raison de leur faible conductivité thermique et peuvent donc nécessiter des procédures spécifiques de montée et de descente en puissance lors des phases de démarrage et d'arrêt.