Pfeiffer Vacuum IS2 M4 MATTSON ASPEN, Pompes à vide à racines sèches multi-étages Pfeiffer-Adixen, Pompes à vide à racines sèches multi étages Pfeiffer Adixen,  PN  107199

Ces Pfeiffer Vacuum IS2 M4 MATTSON ASPEN  avoir un numéro de pièce 107199, sont neufs et livrés avec Pfeiffer Vacuum garantie. Les pompes à vide sèches à semi-conducteurs de la série A3P de service moyen Pfeiffer Adixen sont basées sur la technologie Roots multi-étages éprouvée. L'intérieur des pompes est résistant aux gaz corrosifs. Pour cette raison, les pompes ont une grande fiabilité dans les processus à usage moyen. Les trois modèles disponibles de la série offrent un large spectre de vitesses de pompage et couvrent ainsi la plupart des exigences des pompes à vide de puissance moyenne dans l'industrie des semi-conducteurs. La série Pfeiffer Adixen A3P est adaptée au fonctionnement en salle blanche et est conforme aux normes CE et Semi S2.

Les pompes sèches se distinguent par leur grande fiabilité pour les applications dans les processus de service moyen. Les pompes de la série sont équipées d'un capteur de température et d'un rinçage au gaz inerte. Une faible émission sonore et un faible niveau de vibrations sont d'autres caractéristiques de la série Pfeiffer Adixen A3P.

Les pompes à vide à semi-conducteurs secs des séries Pfeiffer Adixen ADH, A4H et A4X pour procédés difficiles sont des procédés chimiques utilisés, par exemple, dans les industries des semi-conducteurs et des revêtements. Ces processus sont difficiles car des fluides principalement agressifs et corrosifs sont utilisés et traités sous vide. Ces fluides répondent aux exigences les plus élevées en matière de conception et de qualité des systèmes de processus. Les processus difficiles typiques sont la gravure, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt de couche atomique (ALD) ainsi que le dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD).

Étant donné que des produits chimiques agressifs et corrosifs sont utilisés dans des processus difficiles, les pompes à vide et leurs composants doivent être résistants à la corrosion. Dans les applications des industries des semi-conducteurs et des revêtements, on constate fréquemment une présence accrue de poudre, ce qui peut conduire à une accumulation dans les pompes à vide. Il faut donc s'assurer que les pompes de procédé utilisées sont adaptées à cette quantité de poudre. Afin d'éviter au mieux la condensation à l'intérieur des pompes, du gaz de purge est utilisé en combinaison avec une gestion sophistiquée de la température.

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