Système de revêtement sous vide en boîte ExploraVAC PVD, acier inoxydable cubique de 20 pouces, dépôt de métal en phase vapeur, VMD médico-légal, film mince métallique, dépôt par évaporation thermique, co-dépôt, 4 nacelles thermiques, mode de fonctionnement manuel automatique, interface à écran tactile Ce système de revêtement sous vide en boîte est conçu pour le processus de dépôt de métal en phase vapeur (VMD) médico-légal, en particulier le développement d'empreintes digitales latentes dans un environnement de laboratoire. La chambre a un volume cubique de 20 x 20 x 20 pouces et est en acier inoxydable. Il dispose de 4 sources d'évaporation thermique : pour les nacelles d'évaporation, les tiges ou les creusets. Il est équipé de nombreuses fonctionnalités, notamment un porte-substrat rotatif de 6 pouces pour les substrats plats comme les tissus, le verre et le papier. Il est interchangeable avec une broche à mandrin horizontal pour les échantillons irréguliers comme les douilles de balle, les verres à eau, les couteaux, les poignées de porte et les armes. Il dispose de 2 radiateurs à plaque de substrat, de 2 capteurs Inficon QCM, d'un contrôleur d'épaisseur intégré avec modes de processus manuel et automatique. Le processus de dépôt peut être séquentiel ou codéposition à 2 poches. Les autres caractéristiques sont 2 ports d'entrée de gaz de dépôt réactif, une porte d'observation avec obturateur à gravité et un éclairage de la chambre pour observer le développement des impressions, des obturateurs pneumatiques de source et de substrat, des traversées d'électrodes refroidies par eau, des mécanismes de sécurité, des indicateurs d'état visuels et sonores sous forme de voyants lumineux et d'alarmes. Le système comprend un écran tactile intégré de 15,5 pouces équipé d'une version de base non expirante du logiciel AutoExplor™, exécuté par un ordinateur Windows embarqué qui peut contrôler toutes les fonctions de la chambre et du processus de dépôt. Tous les composants électroniques sont certifiés UL pour l'Amérique du Nord. Le système dispose de 2 alimentations de source de bateau (4 kW, 400 A), 2 variacs - 45 A. Le système est installé avec une puissance apparente directe du bateau, des modules de mesure de tension et de courant de charge et une unité d'affichage dans l'armoire inférieure. Le système peut vaporiser des métaux courants pour VMD : or, cuivre, nickel, zinc, chrome, aluminium. La chambre est pompée grossièrement par une pompe à spirale sèche Edwards nXDS20i et pompée finement par une pompe moléculaire turbo Pfeiffer HiPace 300 à une pression de base de 3 x 10-7 Torr lorsqu'elle est correctement conditionnée. Nous pouvons personnaliser les recettes pour vos processus VMD. Nous testons minutieusement vos processus avant l'expédition. Une formation en personne ou virtuelle sur le SOP est également proposée sur demande. Notre système est accompagné d'une garantie standard d'un an. Le délai de livraison est de 90 jours après confirmation de la commande. ExploraVAC PVD Box Coater, 20 pouces : Chambre à vide soudée en acier inoxydable de 20 pouces entièrement fermée avec protections intérieures 4 sources, 1,0 cc, 2 - nacelles de 4 pouces - tungstène, molybdène, tantale, tiges, creusets Métaux VMD : Au, Zn, Cu, Ni, Ti, Cr, Al, Sn, Ag, In Porte-substrat rotatif/broche Obturateurs pneumatiques 2 capteurs QCM Éléments chauffants radiants pour substrat Porte avec hublot de 6 pouces avec obturateur par gravité Fermeture de porte avant à loquet rapide à travers le hublot Éclairage LED de la chambre Écran tactile LCD de 15,5 pouces Pompe à vide à spirale sèche Edwards nXDS20i Pompe turbo Pfeiffer HiPace 300 Mesure et affichage de la puissance apparente de la nacelle Puissance de la source de l'évaporateur - 4 kVA, 400 A Indicateurs d'état de fonctionnement visuels et sonores Mécanismes de sécurité intégrée Présentation du PVD thermiqueFigure 1. Schéma de principe de l'évaporation thermique du matériau cible dans un Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une méthode simple utilisée pour déposer des couches minces de matériau sur des substrats dans un environnement sous vide. Des films métalliques et non métalliques peuvent être déposés par cette méthode. Pendant le processus de dépôt, un matériau est chauffé thermiquement jusqu'à ce qu'il fonde et se vaporise, puis la vapeur se soulève et se condense sur un substrat plus froid, formant un film mince. Certains matériaux comme le Cr se subliment simplement sans fondre, ce qui permet d'obtenir la pression de vapeur de dépôt optimale. Le libre parcours moyen des molécules de vapeur doit être suffisamment long pour éviter les collisions avec les gaz résiduels dans la chambre. Pour cela, il faut s'assurer que la pression de base tombe en dessous d'un seuil calculé avant de lancer l'évaporation. Nos chambres sont pompées finement par des pompes turbo moléculaires Pfeiffer HiPace jusqu'à moins de 10-7 Torr en quelques minutes. À cette pression de gaz, le libre parcours moyen de la vapeur est augmenté au-delà de 40 pouces, ce qui est environ quatre fois plus grand que la distance de projection du processus de dépôt. Cela garantit un dépôt efficace et sans contamination de nos systèmes. Un capteur QCM est un moniteur d'épaisseur de film commun intégré dans les chambres PVD pour donner en permanence un retour d'information sur le taux de dépôt et l'épaisseur du film. Application : criminalistique, imagerie des empreintes digitales à l'aide du dépôt de métal sous vide (VMD) L'imagerie des empreintes digitales est un outil puissant utilisé par les forces de l'ordre et d'autres agences gouvernementales associées et organisations privées dans leurs enquêtes criminelles médico-légales. Dans le dépôt de métal sous vide (VMD), une paire de films minces métalliques est utilisée pour recouvrir et développer des empreintes digitales latentes qui peuvent être présentes sur des matériaux récupérés sur une scène de crime. Les résidus d'empreintes digitales sont principalement composés de composés organiques tels que la sueur, les huiles et d'autres sécrétions corporelles. Ces substances créent une couche qui est physiquement et chimiquement différente des substrats tels que le papier, le verre, les tissus, le bois et les surfaces métalliques. Dans le VMD, le premier film à être déposé est normalement l'or, suivi du zinc. Le chrome, l'argent, l'étain, le cuivre, l'aluminium ont également été utilisés pour développer des empreintes digitales latentes. Figure 2. (a) Empreintes digitales latentes développées par VMD sur une douille de balle, un billet d'un dollar, une vitre et un reçu papier de restauration rapide. (b) Image au microscope des empreintes digitales développées montrant les régions où l'ADN peut être extrait pour une analyse médico-légale plus poussée. Le zinc, étant un métal, ne se lie pas efficacement aux matières organiques résiduelles des empreintes digitales. Par conséquent, dans la technique VMD pour le développement d'empreintes digitales latentes, un film d'or est souvent déposé en premier, principalement pour améliorer l'adhérence et le contraste, l'or créant un arrière-plan à contraste élevé par rapport aux résidus d'empreintes digitales. L'excitation des films revêtus à une plage de 300 à 400 nm donne les meilleurs résultats visuels des marques d'empreintes. Lorsqu'une deuxième couche métallique (généralement du zinc) est déposée, elle met en évidence les crêtes de l'empreinte digitale en adhérant plus fortement aux zones sans résidus, créant un motif clair et distinct qui peut être utilisé pour une analyse médico-légale. L'or est également chimiquement inerte et ne réagit pas avec les résidus d'empreintes digitales ou les couches métalliques ultérieures. Cela permet de préserver l'intégrité de l'empreinte digitale latente, garantissant un développement précis et fiable et une récupération de l'ADN (Figure 2(b). Figure 3. Empreintes digitales sur vitre développées par VMD à l'aide d'une pile de films de cuivre et de chrome sur ExploraVAC PVD Box Coater. L'image a été traitée par un logiciel de traitement d'image pour améliorer le contraste. VMD s'est avéré être la seule méthode jusqu'à présent capable de développer des empreintes sur des tissus et de gros éléments de preuve comme de la literie ou des pièces à conviction qui ont vieilli pendant plusieurs mois comme une arme jetée sous l'eau. Cela rend cet outil utile pour essayer de résoudre des affaires criminelles non résolues avec des pièces à conviction physiques nouvellement découvertes. CATÉGORIES D'ARTICLES POREUX SEMI-POREUX NON POREUX DIVERS

Évaporateur thermique organique PVD VLTE ExploraVAC, 20 po en acier inoxydable cubique, évaporateur basse température de composés organiques, dépôt LTE de colorants organiques, dépôt de couches minces organiques pour couches émissives OLEDS, 6 creusets thermiques. Ce système de revêtement sous vide à caisson est conçu pour l'évaporation et le dépôt sous vide à basse température de composés organiques et organométalliques sensibles à la température dans un environnement de laboratoire. La chambre a un volume cubique de 20 x 20 x 20 pouces et est en acier inoxydable. Elle dispose de 6 creusets d'évaporation thermique d'une capacité de chargement de 10 cc et d'un volume total de 15 cc. Il est équipé de nombreuses fonctionnalités, dont un porte-substrat rotatif de 6 pouces fabriqué sur mesure. Il dispose de 2 capteurs Inficon QCM et d'un contrôleur d'épaisseur Inficon STM-2 intégré avec mode de traitement manuel et automatique. Il est possible d'ajouter des radiateurs pour le porte-substrat si nécessaire. Le processus de dépôt peut être séquentiel ou codéposition. Français Les autres caractéristiques sont 2 ports d'entrée de gaz de dépôt réactif, une porte d'observation avec obturateur à gravité et un éclairage de la chambre pour observer la progression du revêtement, une source pneumatique et des obturateurs de substrat, des mécanismes de sécurité intégrée, des indicateurs d'état visuels et sonores sous forme de voyants lumineux et d'alarmes. Le système comprend un écran tactile intégré de 15,5 pouces équipé d'une version de base non expirante du logiciel AutoExplor™, géré par un ordinateur Windows embarqué qui peut contrôler toutes les fonctions de la chambre et du processus de dépôt. Tous les composants électroniques sont certifiés UL pour l'Amérique du Nord. Le système est installé avec des modules de mesure de puissance apparente directe de la bobine de creuset, de tension et de courant de charge et une unité d'affichage dans l'armoire inférieure. Le système peut vaporiser des matériaux organiques et organométalliques courants comme le PMMA, l'AIQ3, le CuPc, le MAI, le fullerène - C60 et les dérivés du pérylène comme le PTCDA et le PDI. Une variété de précurseurs à base organique pour le dépôt de matériaux diélectriques de SiO2, TiO2, Al2O3, GeO2 peuvent également être vaporisés. La chambre est pompée grossièrement par une pompe à spirale sèche Edwards nXDS20i et pompée finement par une pompe turbomoléculaire Pfeiffer HiPace 300 à une pression de base de 3 x 10-7 Torr lorsqu'elle est correctement conditionnée. Avant le dépôt, les creusets peuvent être chauffés à 100 °C pour sécher les échantillons. Une cryopompe est installée pour piéger l'humidité. Chaque poche de creuset en céramique est enveloppée dans une bobine chauffante dotée d'un contrôleur de température PID pour garantir qu'aucune surchauffe de l'échantillon ne se produit. Nous pouvons personnaliser les recettes pour vos processus VLTE. Nous testons minutieusement vos processus avant l'expédition. Une formation en personne ou virtuelle sur le SOP est également fournie sur demande. Notre système est assorti d'une garantie standard d'un an. Le délai de livraison est de 90 jours après confirmation de la commande. Évaporateur thermique organique PVD VLTE ExploraVAC : Chambre à vide en acier inoxydable soudé de 20 po entièrement fermée avec protections intérieures 6 creusets, capacité de charge de 15,0 cc, 10 cc Plage de température du creuset : 30 à 800 °C Compatible avec les creusets en alumine, zircone, tungstène, graphite, quartz Support de substrat rotatif (personnalisé) Obturateurs pneumatiques 2 capteurs QCM Éléments chauffants radiants pour substrat (en option) Porte avec hublot de 6 po avec obturateur par gravité Fermeture de porte avant à loquet rapide à travers le hublot Éclairage LED de la chambre Écran tactile LCD de 15,5 po Pompe à vide à spirale sèche Edwards nXDS20i Pompe turbo Pfeiffer HiPace 300 Mesure et affichage de la puissance apparente de la bobine du creuset Puissance maximale de la bobine - 160 W Contrôle de température PID pour chaque creuset Indicateurs d'état de fonctionnement visuels et sonores Mécanismes de sécurité intégrée Présentation du dépôt par évaporation thermique PVDFigure 1. Schéma de principe du dépôt thermique par évaporation Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une méthode simple utilisée pour déposer des couches minces de matériau sur des substrats dans un environnement sous vide. Des films métalliques et non métalliques peuvent être déposés par cette méthode. Pendant le processus de dépôt, un matériau est chauffé thermiquement jusqu'à ce qu'il fonde et se vaporise, puis la vapeur se soulève et se condense sur un substrat plus froid, formant un film mince. Certains matériaux comme le Cr se subliment simplement sans fondre, ce qui permet d'obtenir la pression de vapeur de dépôt optimale. Le libre parcours moyen des molécules de vapeur doit être suffisamment long pour éviter les collisions avec les gaz résiduels dans la chambre. Pour cela, il faut s'assurer que la pression de base tombe en dessous d'un seuil calculé avant de lancer l'évaporation. Nos chambres sont pompées finement par des pompes turbo moléculaires Pfeiffer HiPace jusqu'à moins de 10-7 Torr en quelques minutes. À cette pression de gaz, le libre parcours moyen de la vapeur est augmenté au-delà de 40 pouces, ce qui est environ quatre fois plus grand que la distance de projection du processus de dépôt. Cela garantit un dépôt efficace et sans contamination de nos systèmes. Un capteur QCM est un moniteur d'épaisseur de film commun intégré dans les chambres PVD pour donner en permanence un retour d'information sur la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film. Principe du VLTE pour le dépôt de matériaux organiques L'évaporation thermique à basse température sous vide (VLTE) est une méthode utilisée pour déposer des films minces de matériaux sur des substrats dans des conditions de vide à des températures relativement basses. Le matériau source est chauffé juste assez pour s'évaporer sans se décomposer ni réagir. Lorsqu'il s'agit de matériaux organiques, cette technique est particulièrement utile car de nombreux composés organiques sont sensibles aux températures élevées et peuvent se dégrader s'ils sont exposés à trop de chaleur. Dans le VLTE, le matériau à déposer est chauffé dans un creuset sous vide jusqu'à ce qu'il s'évapore ou se sublime. Le matériau n'est pas en contact direct avec l'élément chauffant comme c'est le cas dans l'évaporation thermique classique. L'environnement sous vide réduit le point d'ébullition du matériau, lui permettant de s'évaporer à une température plus basse. Cette vapeur se condense ensuite sur le substrat, formant un film mince. Français Pour les matériaux organiques, ce processus est soigneusement contrôlé pour éviter la décomposition et garantir un film de haute qualité. La plage de températures de fonctionnement du processus VTLE va jusqu'à environ 800 °C, au-dessus de laquelle la plupart des composés organiques thermiquement stables commencent à se décomposer, modifiant la structure chimique du revêtement du film, entraînant des défauts du film. Exemples de matériaux de revêtement de film mince à base organique VLTE Figure 2. Tris(quinolin-8-olate) d'aluminium AlQ3AlQ3 est une poudre jaune avec un point de fusion de 410 à 430 °C. AlQ3 est couramment utilisé comme couche de transport d'électrons dans les OLED. Il facilite le transport des électrons de la cathode à la couche émissive. AlQ3 peut également servir de matériau de couche émissive, où il émet de la lumière lors de la recombinaison des électrons et des trous. Il émet généralement de la lumière verte. Figure 3. Dérivés du pérylène Les dérivés du pérylène sont une classe de composés organiques dérivés du pérylène, souvent utilisés dans les photodétecteurs et les photovoltaïques organiques en raison de leurs excellentes propriétés de transport de charge et d'émission de lumière. Un exemple de dérivé du pérylène est le dianhydride tétracarboxylique de pérylène (PTCDA). Le PTCDA est une poudre rouge foncé avec un point de fusion de 403 °C. Il est utilisé dans les transistors à effet de champ organiques (OFET), les photovoltaïques organiques (OPV) et les diodes électroluminescentes organiques (OLED). Il a une stabilité thermique élevée, une bonne mobilité des électrons et une forte absorption dans le spectre visible. Utilisé pour donner un pigment rouge aux revêtements. Figure 4. Fullerène - C60 Les fullerènes, par exemple le C60, ont une couleur violet foncé et un point de fusion d'environ 600 °C (sublimes). Les fullerènes sont couramment utilisés comme accepteurs d'électrons dans les photovoltaïques organiques, les OPV. Ils acceptent les électrons du matériau donneur, facilitant ainsi la séparation et le transport efficaces des charges. Ils ont une affinité et une mobilité électroniques élevées, ce qui améliore l'efficacité globale des cellules solaires. Le C60 est également largement utilisé dans la production de cellules solaires à pérovskite, de photodétecteurs, de diodes électroluminescentes organiques (OLED) et de transistors à effet de champ organiques (OFET). Figure 5. Polyméthacrylate de méthyle (PMMA) Le PMMA est un polymère thermoplastique transparent utilisé dans les revêtements optiques et comme matériau de réserve en lithographie, avec un point de fusion de 160 °C. Le PMMA est largement utilisé comme réserve positive en lithographie par faisceau d'électrons. Lorsqu'il est exposé à un faisceau d'électrons, le PMMA subit une scission de chaîne, rendant les zones exposées plus solubles dans une solution de développement. Cela permet la création de motifs haute résolution sur des substrats. Le PMMA peut être utilisé pour former des motifs sur des substrats par exposition à la lumière UV, suivie d'un développement pour éliminer les zones exposées. Français Il est également utilisé comme matériau diélectrique dans les dispositifs électroniques et optoélectroniques où le PMMA agit comme couche isolante entre les couches conductrices ou les composants. Il a l'avantage de fournir une bonne isolation électrique et peut être déposé en couches minces et uniformes. L'excellente clarté optique et les propriétés de transmission de la lumière du PMMA le rendent adapté aux revêtements optiques. Applications : Évaporation à basse température de matériaux organiques (VLTE) 1. Photovoltaïque organique (OPV) : Des films minces organiques sont utilisés dans les cellules solaires pour absorber la lumière et la convertir en électricité. Le VLTE permet le dépôt précis de couches actives, améliorant ainsi l'efficacité des OPV. 2. Transistors à couches minces organiques (OTFT) : Utilisés dans l'électronique flexible et les écrans. Le VLTE fournit des couches semi-conductrices organiques de haute qualité pour de meilleures performances des appareils. 3. Capteurs : Les matériaux organiques peuvent être utilisés dans les capteurs chimiques et biologiques. Le VLTE permet le dépôt de films organiques sensibles qui peuvent interagir avec les analytes cibles. 4. Lasers organiques : Développement de lasers à semi-conducteurs organiques destinés à être utilisés dans diverses applications optiques. Nécessite un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film organique, réalisable grâce à la technologie VLTE. 5. Diodes électroluminescentes organiques (OLED) : La technologie VLTE est utilisée pour déposer des couches organiques dans les OLED, qui sont essentielles pour les écrans et l'éclairage. Elle garantit des couches minces uniformes nécessaires à une émission de lumière efficace et aux performances de l'appareil. La disposition des couches dans une OLED (diode électroluminescente organique) simple peut être décrite comme suit, de bas en haut : Figure 6. Structure de base d'une diode électroluminescente organique Substrat : Il est généralement constitué de verre ou d'un matériau plastique flexible, fournissant un support mécanique à l'OLED. Anode : Une couche transparente, généralement constituée d'oxyde d'étain et d'indium (ITO), qui laisse passer la lumière et injecte des porteurs de charge positifs (trous) dans l'appareil. Couche de transport de trous (HTL) : Cette couche facilite le transport des trous de l'anode à la couche émissive. Couche émissive (EML) : Le cœur de l'OLED où la lumière est générée. Cette couche contient les molécules organiques ou polymères qui émettent de la lumière lorsqu'une tension est appliquée sur les électrodes. Couche de transport d'électrons (ETL) : Cette couche facilite le transport des électrons de la cathode à la couche émissive. Cathode : Une couche métallique, généralement constituée de matériaux comme l'aluminium ou le calcium, qui injecte des électrons dans l'appareil. Les OLED (diodes électroluminescentes organiques) ont diverses applications en raison de leurs couleurs vives, de leur contraste élevé, de leur flexibilité et de leur efficacité énergétique. Les principales applications comprennent : Écrans d'affichage : Smartphones : Écrans haut de gamme. Téléviseurs : Qualité d'image supérieure. Appareils portables : Montres intelligentes et trackers de fitness. Moniteurs : Travail visuel professionnel. Affichage numérique : Publicité publique et affichages d'informations. Écrans flexibles : Écrans pliables et enroulables. RésuméL'évaporation thermique basse sous vide est une technique essentielle pour le dépôt de couches minces organiques, offrant des avantages en termes de contrôle de la température et d'uniformité du film. Elle joue un rôle essentiel dans la production de dispositifs électroniques et optoélectroniques organiques avancés, malgré les défis liés à la sensibilité des matériaux et à la complexité des processus. Une optimisation et un contrôle appropriés des paramètres de dépôt sont essentiels pour obtenir des films de haute qualité et garantir les performances et la fiabilité des dispositifs à base organique.

Évaporateur thermique MBraun - MB Evap S/A, système de co-dépôt de couches minces, chambre à cloche en acier inoxydable - 13 x 17 pouces, 4 sources thermiques et 2 moniteurs d'épaisseur Inficon QCM avec nouveau Pfeiffer HiPace 300 Turbo, remis à neuf. Cette chambre de revêtement sous vide Mbraun Evap S/A remise à neuf (année de fabrication 2012) est équipée d'une toute nouvelle pompe turbo HiPace 300 et d'une toute nouvelle pompe d'ébauche rotative Edwards 12. L'outil est en excellent état de fonctionnement. L'intérieur de la chambre a été sablé pour éliminer tous les contaminants possibles d'une utilisation précédente. L'outil est adapté à l'évaporation thermique de métaux à point de fusion élevé et de diélectriques comme l'or, le titane et les oxydes. Il est doté d'une chambre à cloche en acier inoxydable de 13" de diamètre x 17" de hauteur. La distance de projection d'évaporation maximale est de 10" avec rotation du support de substrat, elle peut être augmentée à 12" sans ensemble de rotation du substrat, adaptée au dépôt de métal par décollage. Le support de substrat peut prendre un maximum de tailles d'échantillon de 4" x 4" avec rotation pendant le dépôt ou des échantillons de 6" x 6" sans rotation. La chambre dispose de 4 sources d'évaporation thermique qui ont une capacité de chargement d'environ 1 cc chacune. Cet évaporateur thermique MBraun est équipé de nombreuses fonctionnalités, dont un nouveau support de substrat rotatif de 4 pouces fabriqué sur mesure. Il dispose de 2 capteurs Inficon QCM et de deux nouveaux cristaux de quartz installés, d'un contrôleur de co-dépôt Inficon SQC-310C avec modes de processus manuel et automatique. Le processus de dépôt peut être séquentiel ou co-dépôt. Français Les autres caractéristiques comprennent une fenêtre de visualisation de 6" pour observer la progression du revêtement, une source pneumatique et des obturateurs de substrat, des mécanismes de sécurité intégrée, un rideau de sécurité optique, des indicateurs d'état visuels et sonores sous forme d'alarmes. Cet évaporateur MBraun a été fabriqué en 2012 et présente les caractéristiques et capacités suivantes :Chambre à cloche en acier inoxydable (13" de diamètre x 17" de hauteur) Les dimensions de l'outil sont de 48"L x 32"W x 80" H Porte-substrat rotatif de 4" (alimentation 24 V CC non incluse) 4 poches de chauffage résistives Distance de projection d'évaporation de 10" Palan motorisé pour chambre à cloche 2 capteurs d'épaisseur de film QCM et un contrôleur de codéposition SQC-310C d'Inficon Source pneumatique et obturateurs de substrat Fenêtre de visualisation de 6" Écran tactile GUI Pompe turbo Pfeiffer HiPace 300 Mesure et affichage de la puissance apparente du bateau en option (non inclus) Thermocouple et lecture de la température du bateau en option (multimètre non inclus) Mécanismes de sécurité intégrée, taux de dépôt, alimentation, portes, verrouillages de sécurité sous vide Indicateurs d'état de fonctionnement visuels et sonores Système d'alimentation électrique - 3 x 208 V CA, 60 Hz (3Ph/N/PE) Charge totale - 16 A 4 sources d'alimentation du bateau - 2 kW, température du bateau de 30 à 1 800 °C Pression de base 5 x 10-7 Torr, la jauge à vide à cathode froide Pfeiffer peut devoir être remplacée Pression de service maximale - définie par l'utilisateur, 5 x 10-3 Torr Matériau du substrat, forme et taille - plaquettes de silicium jusqu'à 4" Vitesse de rotation du substrat - définie par l'utilisateur Tailles des nacelle/tiges d'évaporation - 1 - 4" de longueur, capacité de charge de 1 cc Stockage de 100 recettes, la plupart des recettes de dépôt de film métallique déjà installées Mode de fonctionnement manuel et automatique Matériaux du bateau - tous, W, Moly, Ta, creusets Garantie limitée d'un an Système de revêtement par évaporation MBraun