Pfeiffer Vacuum POMPA 1204H V2 SC T LS 3 2 CV, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer-Adixen, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer Adixen,  PN  F4HG1TLS3212110

Questi Pfeiffer Vacuum POMPA 1204H V2 SC T LS 3 2 CV  avere il numero di parte F4HG1TLS3212110, sono nuovi e vengono forniti completi Pfeiffer Vacuum garanzia. Le pompe per vuoto a secco a semiconduttori della serie Pfeiffer Adixen per carichi medi A3P si basano sulla comprovata tecnologia Roots multistadio. L'interno delle pompe è resistente ai gas corrosivi. Per questo motivo, le pompe hanno un'elevata affidabilità nei processi a carico medio. I tre modelli disponibili della serie offrono un ampio spettro di velocità di pompaggio e quindi coprono la maggior parte dei requisiti delle pompe per vuoto per carichi medi nell'industria dei semiconduttori. La serie Pfeiffer Adixen A3P è adatta per il funzionamento in una camera bianca ed è conforme agli standard CE e Semi S2.

Le pompe a secco si distinguono per la loro elevata affidabilità per applicazioni in processi a carico medio. Le pompe della serie sono dotate di sensore di temperatura e lavaggio con gas inerte. Una bassa emissione di rumore e un basso livello di vibrazioni sono ulteriori caratteristiche della serie Pfeiffer Adixen A3P.

Le pompe per vuoto a semiconduttore a secco della serie Pfeiffer Adixen ADH, A4H e A4X per processi gravosi sono processi chimici utilizzati, ad esempio, nell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti. Questi processi sono difficili perché vengono utilizzati principalmente mezzi aggressivi e corrosivi e lavorati sotto vuoto. Questi fluidi hanno i requisiti più elevati per la progettazione e la qualità dei sistemi di processo. I tipici processi per impieghi gravosi sono l'incisione, la deposizione chimica da fase vapore (CVD), la deposizione di strati atomici (ALD) e la deposizione chimica da fase vapore organico di metalli (MOCVD).

Poiché nei processi gravosi vengono utilizzati prodotti chimici aggressivi e corrosivi, le pompe per vuoto e i componenti devono essere resistenti alla corrosione. Nelle applicazioni dell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti si verifica spesso una maggiore presenza di polvere, che può portare ad un accumulo nelle pompe per vuoto. Pertanto è necessario assicurarsi che le pompe di processo utilizzate siano adatte a questa quantità di polvere. Per evitare al meglio la formazione di condensa all'interno delle pompe, viene utilizzato il gas di spurgo in combinazione con una sofisticata gestione della temperatura.

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