理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、酸化アルミニウム - Al ₂ O ₃スパッタリングターゲット、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.99 パーセント、OFHC 銅バッキングプレートに金属結合

この製品は、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン酸化アルミニウム - Al ₂ O ₃スパッタリング ターゲットです。純度は 99.99% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。

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酸化アルミニウム - Al ₂ O ₃

1. 屈折率: 屈折率: ~1.63 (550 nm で)、低から中程度の屈折率の材料です。この特性により、反射防止コーティング、誘電体ミラー、フィルターなどの多層光学コーティングに適しています。

2. 光学的透明性：透過ウィンドウ：Al ₂ O _{3 は}、約 200 nm から約 5 µm までの紫外線 (UV) から赤外線 (IR) の範囲で高い透明性を備えています。このため、UV、可視光線、IR 波長でのさまざまな光学用途に適しています。

3. 機械的特性: Al ₂ O ₃は極めて硬く、耐摩耗性に優れているため、機械的ストレスを受ける表面の保護コーティングや耐摩耗層に最適です。また、機械的強度が高いため、過酷な環境でのマイクロエレクトロニクスや保護コーティングにも適しています。

4. 化学的および熱的安定性: Al ₂ O _{3 は}化学的に非常に不活性で、腐食や酸化に耐性があるため、化学的に厳しい環境での使用に適しています。熱的安定性も高いため、高温の用途に適しています。

5. 誘電特性: 高誘電率: Al ₂ O _{3 は}比較的高い誘電率 (約 9) を持ち、ゲート誘電体や電子アプリケーションのコンデンサーとして有用です。半導体デバイスでは優れた絶縁層として機能し、優れた電気絶縁性と熱安定性を提供します。

6. 堆積方法: Al ₂ O ₃薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング、原子層堆積 (ALD)、熱蒸発など、さまざまな方法で堆積できます。ALD は、半導体やナノテクノロジーの用途における超薄型コンフォーマルコーティングに特に適しています。

7. 用途: 光学コーティング: Al ₂ O ₃は、反射防止コーティング、光学部品の保護コーティング、多層誘電体ミラーの一部として一般的に使用されています。マイクロエレクトロニクス: Al2O3 は、MOSFET のゲート絶縁体、コンデンサ、半導体デバイスのパッシベーション層として広く使用されています。保護コーティング: 硬度と耐摩耗性、耐薬品性があるため、工業用途で表面を保護するために使用されます。バリアコーティング: Al ₂ O _{3 は}優れた拡散バリアを提供し、パッケージング層や防湿層に使用されます。

まとめ：
酸化アルミニウム (Al ₂ O ₃ ) は、光学的透明性、機械的耐久性、化学的不活性、誘電特性を備えた薄膜の多用途材料です。光学コーティング、マイクロエレクトロニクス、保護層、バリアコーティングに広く使用されており、半導体デバイスから耐摩耗コーティングや光学素子まで幅広い用途に使用されています。透明性と安定性を兼ね備えているため、さまざまな業界で高性能コーティングに不可欠な材料となっています。

注:
すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。