理想的な真空 PVD 材料、ハフニウム ペレット - Hf、純度 99.95% (3N5)、ハフニウム融点 2227 °C、ペレット サイズ 1 - 6 mm、100 グラム、熱蒸発材料、電子ビーム蒸着材料、ハフニウム金属薄膜、部品番号: P1013584
アイディアル バキューム プロダクツ LLC.当社はお客様のプロセスに適した高品質の PVD 蒸発材料を供給します。
この製品は、1 x 6 mm サイズの高純度ハフニウム ペレット (99.95%) 100 グラム入りのボトルで、PET プラスチック ボトルで出荷されます。これらのペレットの密度は 13.31 g/cc、融点は 2,227 °C、蒸気圧は 3,090 °C で 10-4 Torr です。熱膨張係数は 5.9 x 10-6/K、Z 比は 0.36 です。
当社は、お客様が最高品質の製品を可能な限り最高の価値で確実に受け取れるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しています。これにより、すべての購入において、お手頃価格と優れた品質の両方を実現しています。当社はすべてのお客様に割引を提供しており、大量注文のお客様には、さらに大きな割引をお楽しみいただけます。当社は PVD 蒸着材料の在庫を大量に保有しているため、ほとんどの注文は注文当日に発送されます。この短いリードタイムは、キャッシュフローを管理し、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減したいすべてのお客様に喜ばれています。Ideal Vacuum から購入すると、お客様は製品を迅速に受け取り、満足度を高めながら、緊急の在庫ニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争相手に先んじることができます。
価格保証
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ハフニウム
ハフニウムは、高い融点、優れた耐腐食性、安定した酸化物を形成する能力などの独自の特性により、薄膜用途において貴重な材料です。
ハフニウムの薄膜応用- エレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクス: ゲート誘電体: 酸化ハフニウム (HfO2) は、トランジスタの high-k (高誘電率) ゲート誘電体材料として、現代の半導体デバイスで広く使用されています。これは、高度な CMOS テクノロジー ノードで二酸化シリコン (SiO2) に代わるもので、ゲート リークを低減し、電子部品のさらなる小型化を可能にします。
コンデンサ: HfO2 はコンデンサにも利用されており、高い誘電率により小さな体積で大きな静電容量を実現し、さまざまな電子機器の性能を向上させます。
- 耐摩耗コーティング: 機械用途: ハフニウム薄膜は、過酷な条件にさらされる機械部品の耐摩耗コーティングとして使用されます。このフィルムは、硬くて耐久性のある表面を提供することで、これらの部品の寿命を延ばすのに役立ちます。
- 原子力用途: 制御棒コーティング: ハフニウムは中性子吸収能力に優れているため、原子炉の制御棒に使用される材料として好まれています。ハフニウムまたはその合金の薄膜が制御棒に適用され、その性能と寿命が向上します。
- 光学用途: 高屈折率層: 酸化ハフニウムの薄膜は光学コーティング、特に反射防止コーティング、ミラー、レンズに使用されます。可視および近赤外線領域における高屈折率と透明性により、これらの用途に最適です。
レーザーコーティング: HfO2 は、劣化することなく高レーザー出力に耐える能力があるため、レーザー光学系のコーティングに使用され、高出力レーザーシステムの耐久性と性能を保証します。
ハフニウムは、高誘電率、耐腐食性、高屈折率、極限条件下での安定性というユニークな組み合わせにより、薄膜用途において非常に用途の広い材料となっています。電子機器、光学、保護コーティング、原子力技術、触媒の分野で幅広く使用されており、これらの分野の進歩に大きく貢献しています。
Ideal Vacuum Products は、非常に競争力のある価格と短いリードタイムで、幅広いサイズの蒸発材料を供給しています。また、お客様の特定の要件を満たすカスタムペレットサイズの注文も受け付けています。お問い合わせは、当社の営業チームまでご連絡ください。