ヤマト ADP-200C 真空乾燥オーブン、0.35 立方フィート (10 リットル)、最高温度 240 °C、0.75 Torr まで 115 VAC

ヤマト ADP-21 レガシー真空オーブンは真空コミュニティで非常に人気がありましたが、現在は新しいヤマト ADP 200C に置き換えられています。 ADP-200C は、古い ADP-21 真空オーブンを直接置き換えるものです。新しいヤマト ADP-200C と現在生産中止になっているレガシー ADP-21 モデルの簡単な比較をいくつか示したいと思います。

新しい ADP200C には、ADP-21 と次のような違いがあります。

• ヨーロッパ諸国での販売のための CE マーク
• 動作温度範囲は +5 °C ～ 240 °C ではなく、+20 °C ～ 240 °C
• 新しい VS4 コントローラーによるプログラム可能な機能
• コントロールパネルのデジタル表示
• より大きな真空ポートとパージポート、18mm

Yamaha ADP-200C は、室温 +20 °C ～ 240 °C (最大 465° F) の温度範囲と、大気から 0.75 Torr の真空範囲で動作します。この真空オーブンはこのシリーズの中で最小のオーブンで、内容積 0.35 立方フィート (10 リットル) のコンパクトな設計に基づいて構築されています。内部の真空容器は 304 ステンレス鋼で作られており、アルミニウムの取り外し可能な棚が付いています。真空ドアには、シリコン製の真空シールを備えた厚さ 12 mm の強化ガラス製の大きな観察窓が付いています。これらの真空オーブンは優れた温度安定性と 150 C で +/- 1.5 °C の精度を備えており、70 分以内に最高動作温度に到達できます。真空バルブと通気バルブはオーブンの上部にあり、真空ホース接続用の 18 mm ホースバーブが付いています。 Yamaha ADP-200C は設置面積が小さく (16.81x17.6x21.06 インチ)、50/60 Hz および 7 アンペアで 115 VAC を必要とします。弊社 Web サイトで別途提供されているのは、ヤマト ADP-210C です。これは ADP-200C とすべて同じ仕様ですが、動作するには 220 VAC 50/60 Hz および 4 アンペアが必要です。完全な仕様書とオペレーター取扱説明書 (PDF 形式) は以下からダウンロードできます (利用可能なダウンロードを参照)。

究極の静かな動作の真空ポンプ装置が必要ですか?当社の Varian 周波数制御オイルシールロータリーベーンおよびドライスクロール真空ポンプをご覧ください。オーブンが真空に達すると、ポンプの速度が低下し、非常に静かに動作します。これにより電力が節約され（通常の固定周波数ポンプが 800 ワットを使用するところ、180 ワットという低電力が観測されています）、実験室を研究や研究のための図書館として使用できるようになります。追加の利点として、周波数制御ポンプはより低温で動作し、実験室への熱の寄与が少なくなり、回転速度が遅いとポンプ部品の機械的磨耗があまり起こらないため、保守の必要性が少なくなります。当社では、この Web サイトで販売されている Varian TriScroll 300 および 600 Inverter ドライ スクロール、および Varian HS452 および HS652 油封ロータリー ベーン ポンプを提供しています。 (これらの真空ポンプの詳細については、以下の関連セクションを参照してください。)

真空オーブンの用途:

• 水分測定
• 固体のガス抜き
• 老化試験
• メッキ
• 耐薬品性の研究
• 紙の乾燥
• ゴムと繊維
• 乾燥する
• 乾式滅菌
• ガスを放出する液体
• 真空保管
• 電子プロセス制御

いくつかの例：

• 水分測定- 真空オーブンを乾燥する前にサンプルの固形分と水分含有量を重量で測定するための典型的な医薬品製造アプリケーション
• 真空乾燥- 食品プロセス工学と乳製品技術、スキムミルク、フルクリームミルク、ホエーパウダーの乾燥手順
• 真空オーブン脱泡– 電子部品鋳造時の脱泡、エポキシ樹脂硬化前の脱泡、チタン粉末の脱水
• 最新の高分子材料の開発- 高分子膜の開発: 真空中での乾燥、コンディショニング、脱気および重合