理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、タンタル酸化物 - Ta ₂ O ₅スパッタリングターゲット、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.995 パーセント、OFHC 銅バッキングプレートに金属結合

この製品は、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン タンタル酸化物 (Ta ₂ O ₅₎スパッタリング ターゲットです。純度は 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。

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酸化タンタル - Ta ₂ O ₅
五酸化タンタル
五酸化タンタル (Ta ₂ O ₅ ) は、タンタルと酸素からなる無機化合物です。高屈折率、優れた化学的安定性、誘電特性で知られる白色の結晶性粉末です。Ta ₂ O _{5 は、}そのユニークな特性の組み合わせにより、光学および電子アプリケーションで広く使用されています。

五酸化タンタル (Ta ₂ O ₅ ) は、光学的、電子的、誘電的特性に優れているため、薄膜コーティングに広く使用されています。その汎用性と安定した高品質のフィルムを形成する能力により、さまざまな高性能アプリケーションに最適です。

1. 高屈折率コーティング: Ta ₂ O ₅は、レンズ、ミラー、フィルターの多層光学コーティングに使用されます。その高屈折率により、精密な反射防止コーティングと高反射コーティングを作成できます。
2. 反射防止コーティング: 屈折率の低い材料と組み合わせて使用し、レンズやディスプレイの光透過率を高める反射防止コーティングを生成します。
3. バリア層: 多層構造における酸化や腐食に対する保護層として使用されます。
4. 電気光学およびフォトニックデバイス:

五酸化タンタルは、高屈折率（550 nm で約 2.1 ～ 2.2）、誘電強度、化学的安定性のユニークな組み合わせにより、光学、電子工学、フォトニクスの薄膜コーティングに欠かせない材料となり、高性能デバイスやシステムの開発を可能にします。

堆積方法:
Ta2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (タンタルと酸素ガスを使用)、電子ビーム蒸着を使用して堆積できます。また、マイクロエレクトロニクスの精密なコンフォーマルコーティングには、原子層堆積 (ALD) を使用して堆積されます。

注:
すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。