Alvos de pulverização catódica circular de magnetron de vácuo ideal, TANTALUM - Alvo de pulverização catódica Ta, 3'' de diâmetro x 0,25" de espessura, 99,95 por cento de pureza

Este produto é um alvo de pulverização catódica de magnetron circular TANTALUM -Ta, com 3'' de diâmetro x 0,25" de espessura. É 99,95% puro.

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TÂNTALO -Ta

Alvos de pulverização catódica de tântalo (Ta) são amplamente usados para deposição de película fina em várias indústrias de alta tecnologia devido às excelentes propriedades mecânicas, químicas e elétricas do tântalo. Aqui está um resumo conciso de alvos de pulverização catódica de tântalo em películas finas:

1. Propriedades do material:
Alto ponto de fusão: o tântalo tem um ponto de fusão excepcionalmente alto (~3017 °C), o que o torna estável em condições de alta temperatura.
Resistência à corrosão: o tântalo é quimicamente inerte e altamente resistente à corrosão por ácidos, o que o torna ideal para camadas de proteção e barreira.
Ductilidade e resistência: o tântalo é forte e dúctil, permitindo a formação de películas finas e duráveis.
Condutividade elétrica: O tântalo é um material condutor, o que o torna adequado para uso em aplicações elétricas e microeletrônicas.

2. Métodos de deposição:
Pulverização catódica CC: como o tântalo é condutor, a pulverização catódica CC é frequentemente usada para deposição de película fina, o que permite uma taxa de deposição mais alta em comparação à pulverização catódica RF.
Pulverização catódica de RF: a pulverização catódica de RF também pode ser usada se necessário, especialmente em configurações de deposição complexas, mas a pulverização catódica de CC é mais comum para tântalo.
Pulverização catódica reativa: o tântalo é frequentemente usado em pulverização catódica reativa para formar compostos de tântalo, como o pentóxido de tântalo (Ta ₂ O ₅ ), para aplicações específicas.

3. Aplicações:
Microeletrônica: O tântalo é amplamente usado na fabricação de semicondutores e circuitos integrados. Filmes finos de tântalo são empregados como camadas de barreira em interconexões de cobre para evitar a difusão do cobre em silício ou outras camadas.
Capacitores: Filmes finos de tântalo são usados em capacitores de tântalo, onde fornecem alta capacitância e confiabilidade, especialmente em dispositivos pequenos.
Revestimentos protetores: Devido à sua excelente resistência à corrosão, o tântalo é usado como revestimento protetor em ambientes químicos agressivos, incluindo na indústria de processamento químico e implantes biomédicos.
Revestimentos ópticos: O tântalo é usado em alguns revestimentos ópticos por sua resistência mecânica e durabilidade, embora seu uso principal em óptica venha de compostos como Ta ₂ O ₅ .

4. Propriedades do filme:
Resistência mecânica: filmes finos de tântalo fornecem revestimentos fortes e resistentes ao desgaste, úteis em aplicações de proteção.
Resistência à corrosão e oxidação: os filmes de tântalo resistem à oxidação e à corrosão, tornando-os adequados para ambientes de alto desempenho.
Camadas de barreira: O tântalo é frequentemente usado como uma barreira de difusão em microeletrônica para evitar a migração de metais (por exemplo, cobre) e aumentar a longevidade do dispositivo.
Condutividade elétrica: A condutividade do tântalo o torna ideal para uso em circuitos e componentes eletrônicos, como resistores, eletrodos e transistores de película fina.

5. Deposição reativa:
Pentóxido de tântalo (Ta ₂ O ₅ ): O tântalo é frequentemente pulverizado em um ambiente reativo com oxigênio para formar filmes finos de Ta ₂ O ₅ , que são usados em revestimentos ópticos e camadas dielétricas devido à sua alta constante dielétrica e transparência óptica.

6. Desafios:
Envenenamento do alvo: Em processos de pulverização catódica reativa, o envenenamento do alvo pode ocorrer quando compostos não metálicos (por exemplo, óxidos) se formam no alvo de tântalo, reduzindo a eficiência da pulverização catódica.
Estresse em filmes: filmes de tântalo podem desenvolver estresse interno durante a deposição, o que pode afetar a adesão e o desempenho do filme.

Resumo:
Alvos de pulverização catódica de tântalo (Ta) são usados principalmente em microeletrônica, revestimentos de proteção e capacitores devido à sua alta resistência à corrosão, condutividade e durabilidade mecânica. Filmes finos de tântalo são cruciais para camadas de barreira em circuitos integrados, barreiras de difusão em interconexões de cobre e em eletrodos de capacitores. A pulverização catódica DC é normalmente usada para deposição eficiente, enquanto a pulverização catódica reativa pode formar compostos de tântalo como Ta ₂ O ₅ , que são amplamente usados em revestimentos ópticos e dielétricos.