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Fonte de plasma remota do descontaminador XEI Scientific Evactron E50 E-TC comumente usada para preparação de amostras e substratos SEM, TEM, ALD e PVD

Doença:
  Novo
Número da peça:
  P1013571
Garantia:
  1-Year Limited Warranty

Disponível agora   1  

Oferta: €27,937.20

Fonte de plasma remota do descontaminador XEI Scientific Evactron E50 E-TC comumente usada para preparação de amostras e substratos SEM, TEM, ALD e PVD 27937.2
Moeda: Euro (Euro)

Descrição

Fonte de plasma remota do descontaminador XEI Scientific Evactron E50 E-TC comumente usada para preparação de amostras e substratos SEM, TEM, ALD e PVD.

O sistema descontaminador XEI Scientific Evactron E50 E-TC consiste em: Fonte radical de plasma remota Evactron E50 E-TC, com opção de purga de gás, controlador de montagem em rack Evactron E50 E-TC, interface touchpad Evactron E50 E-TC, usuário do sistema manual e conjunto de cabos Evactron E50. Estes são componentes integrados de nossos sistemas de limpeza e descontaminação de plasma Ideal Vacuum PlasmaVAC P50W, que é um produto ideal para preparação de amostras de microscopia eletrônica de varredura (SEM) e transmissão (TEM). A limpeza do plasma é uma etapa vital, pois remove contaminantes orgânicos das superfícies das amostras, melhorando a qualidade da imagem e a precisão da análise.

A Limpeza de Plasma é vital para remover a contaminação por hidrocarbonetos de amostras e substratos utilizados em:
  • Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV)
  • Microscopia Eletrônica de Transmissão (TEM)
  • Espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS)
  • Espectroscopia de raios X (EDX)
  • Feixe de íons focado em crio-plasma (Cryo-PFIB)
  • Deposição de Camada Atômica (ALD)
  • Deposição Física de Vapor (PVD)
  • Litografia Ultravioleta Extrema (EUVL)

Especificações do tratamento de superfície Evactron E50 E-TC :
  • Fonte remota de plasma da XEI Scientific
  • Modelo Evactron E50 E-TC
  • Potência ajustável entre 35 a 75 Watts
  • Máximo de 50 Watts de operação contínua
  • Frequência RF em 13,56 MHz
  • Duas opções de filtro de entrada de gás: tamanhos de poro de 3 nm e 0,5 µm
  • Os tamanhos de poro de 3 nm seguem a diretiva SEMI F38-0699 da indústria de semicondutores
  • Testado com gases O2, CDA, Ar/H2, Ar/O2, N2/H2 e N2.
  • Controlador de interface de usuário Evactron dedicado
  • Armazenamento de configurações do usuário
  • Receitas, potência, ciclos e duração da limpeza

A limpeza de plasma é uma técnica amplamente utilizada em microscopia, incluindo Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e Microscopia Eletrônica de Transmissão (TEM), para preparar e descontaminar amostras. Ele remove efetivamente contaminantes orgânicos das superfícies das amostras, melhorando a qualidade da imagem e a precisão da análise. Veja como funciona a limpeza de plasma para amostras SEM e TEM:

1. Princípio da Limpeza Plasma
A limpeza por plasma utiliza plasma, um gás altamente ionizado, para remover contaminantes. O plasma é gerado pela aplicação de um campo eletromagnético de alta frequência a um gás de baixa pressão, geralmente oxigênio, argônio ou hidrogênio. O processo cria íons, elétrons e espécies neutras que são altamente reativas.

2. Remoção de contaminantes
    No processo de limpeza de plasma:
  • Remoção Física : Os íons energéticos no plasma bombardeiam a superfície da amostra, eliminando fisicamente os contaminantes.
  • Reações Químicas : Espécies reativas no plasma podem interagir quimicamente com contaminantes. Por exemplo, os radicais de oxigênio podem oxidar materiais orgânicos, transformando-os em compostos voláteis que são facilmente removidos.

3. Aplicação em SEM e TEM
    Para amostras SEM:
  • Descontaminação : A limpeza com plasma remove resíduos orgânicos como impressões digitais, óleos e partículas transportadas pelo ar que podem obscurecer detalhes ou interferir nos feixes de elétrons.
  • Imagem aprimorada : Ao limpar a superfície, o tratamento com plasma reduz os efeitos de carga e melhora a resolução e o contraste das imagens SEM e TEM.
  • Resolução e contraste aprimorados : uma superfície de amostra limpa permite uma melhor interação entre os elétrons e a amostra, o que é fundamental para obter imagens de alta resolução e alto contraste em SEM e TEM.
  • Preparação para revestimento : É frequentemente usado antes da aplicação de revestimentos condutores em amostras não condutoras, garantindo que o revestimento adira bem e seja uniforme.

4. Vantagens de usar a limpeza por plasma
  • Suave nas amostras : Ao contrário dos métodos de limpeza química, a limpeza com plasma geralmente não é destrutiva para a superfície da amostra.
  • Rápido e Eficiente : O processo pode levar de alguns minutos a uma hora, dependendo do nível de contaminação e do tamanho da amostra.
  • Versátil : Eficaz em uma variedade de materiais, incluindo metais, cerâmicas e amostras biológicas.

Folheto

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Ideal Vacuum Products , LLC
5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, Novo México 87109-5805 USA

Telefone: (505) 872-0037
Fax: (505) 872-9001
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