Pfeiffer Vacuum 1504X V2 SC CC S EE 1 2 E 100, Bombas de vácuo Roots multiestágio seco Pfeiffer-Adixen, Bombas de vácuo Roots multiestágio seco Pfeiffer Adixen,  PN  F4XC7SEE12E2113

Esses Pfeiffer Vacuum 1504X V2 SC CC S EE 1 2 E 100  tem número de peça F4XC7SEE12E2113, são novos e vêm com completo Pfeiffer Vacuum garantia. As bombas de vácuo semicondutoras secas da série A3P para serviços médios Pfeiffer Adixen são baseadas na comprovada tecnologia Roots de múltiplos estágios. O interior das bombas é resistente a gases corrosivos. Por esse motivo, as bombas apresentam alta confiabilidade em processos de serviço médio. Os três modelos disponíveis da série oferecem uma ampla gama de velocidades de bombeamento e, portanto, atendem à maioria dos requisitos para bombas de vácuo de serviço médio na indústria de semicondutores. A série Pfeiffer Adixen A3P é adequada para operação em salas limpas e está em conformidade com os padrões CE e Semi S2.

As bombas secas se diferenciam pela alta confiabilidade para aplicações em processos de serviço médio. As bombas da série possuem sensor de temperatura e descarga de gás inerte. Baixa emissão de ruído e baixo nível de vibração são outras características da série Pfeiffer Adixen A3P.

As bombas de vácuo de semicondutores secos das séries de processos severos Pfeiffer Adixen ADH, A4H e A4X são processos químicos usados, por exemplo, nas indústrias de semicondutores e revestimentos. Esses processos são severos porque principalmente meios agressivos e corrosivos são usados e processados sob vácuo. Esses meios possuem os mais altos requisitos para o design e a qualidade dos sistemas de processo. Os processos típicos de serviços severos são gravação, deposição de vapor químico (CVD), deposição de camada atômica (ALD), bem como deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD).

Como produtos químicos agressivos e corrosivos são usados em processos severos, as bombas de vácuo e os componentes devem ser resistentes à corrosão. Nas aplicações das indústrias de semicondutores e revestimentos, há frequentemente um aumento na ocorrência de pó, o que pode levar ao acúmulo nas bombas de vácuo. Assim, deve-se ter certeza de que as bombas de processo utilizadas são adequadas para esta quantidade de pó. Para melhor evitar a condensação no interior das bombas, o gás de purga é utilizado em combinação com um sofisticado gerenciamento de temperatura.

Mais informações sobre estesPfeiffer Vacuum 1504X V2 SC CC S EE 1 2 E 100  pode ser encontrado baixando o catálogo em PDF e os documentos abaixo. Basta abrir o pdf catálogo abaixo, execute a busca em pdf (ctrl F) e procure pelo F4XC7SEE12E2113.