Edwards iXH 100 HARSH Trockenvakuumpumpe 200-230 VAC 50/60 Hz 3 Ph.
Edwards-Teilenummer AC010A121000. Die Edwards iXH 100 ist eine neue Reihe trockener Pumpen, die für die umweltfreundliche Fertigung und die Verarbeitung aggressiver chemischer Prozesse entwickelt wurden. Der effiziente Roots-Mechanismus nutzt sehr wenig Energie und reduziert die Eingangsleistung drastisch auf 1,3 kW, 60 % weniger als bei der vorherigen Generation von Trockenpumpen, wodurch die Umweltbelastung verringert und die Betriebskosten gesenkt werden. Verbesserungen der Gasbarrieretechnologie und des thermischen Designs ermöglichen eine viermal höhere Korrosionsbeständigkeit als Produkte der iH-Serie. Fortschrittliche Pulverhandhabungsfunktionen bedeuten, dass iXH maximale Zuverlässigkeit und längere Pumpenlebensdauer für mehrschichtige Ätzprozesse sowie einen reduzierten Stromverbrauch für CVD-Prozesse bietet, insbesondere bei HARSH Chemicals.
Die Pumpen der Edwards iXH 100-Serie sind kompakt und leichtgewichtig, kombiniert mit außergewöhnlich geringem Geräusch- und Vibrationspegel, was iXH zur vielseitigsten chemischen Trockenpumpe im Edwards-Sortiment macht. iXH wird Ihre Erwartungen an die Trockenvakuumpumpentechnologie verändern und echte Vorteile und längere Betriebszeiten bei minimaler Umweltbelastung bieten. iXH-Pumpen sind für den Einsatz in den meisten Halbleiterprozessen konzipiert und sorgen gleichzeitig für eine deutliche Reduzierung der Eingangsleistung. Dieses Modell verfügt NICHT über eine Druckerhöhungspumpe für zusätzliche Leistung. Die vollständige Bedienungsanleitung finden Sie unter DOWNLOADS.
Funktionen und Vorteile:- Hauptsächlich für raue chemische Anwendungen
- Spitzensaugvermögen 100 m3/h-1 (59 CFM)
- Enddruck 1,5 x 10-2 Torr
- Keine vorbeugende Wartung erforderlich
- Enthält nur die Primärpumpe
- 3/8 Zoll Quick Connect Wasserfüllungen
- Passende Hälften für Wasser- und Stromanschlüsse
- SS-Wasserkühlsystem
- Multimode-44-slm-Gasmodul
ANWENDUNGEN:- Ladesperre
- Überweisen
- Meteorologie
- Lithografie
- PVD-Prozess mit physikalischer Gasphasenabscheidung
- Vorreinigung durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD).
- Schnelle thermische Ausheilung RTA
- Abstreifen/Veraschen
- Radierung
- Implantatquelle
- High-Density Plasma Chemical Vapour Deposition HDP CVD
- Schnelle thermische Verarbeitung RTP
- Subatmosphärische chemische Gasphasenabscheidung (SACVD).
- Chemische Wolframdampfabscheidung WCVD
- Modifizierte chemische Gasphasenabscheidung (MCVD).
- Plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD).
- Chemische Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD).