Ideale kreisförmige Magnetron-Sputtertargets für Vakuum, Chrom – Cr-Sputtertarget, 3 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke, 99,95 Prozent Reinheit

Bei diesem Produkt handelt es sich um ein kreisförmiges Magnetron-Chrom-Cr-Sputtertarget mit 3 Zoll Durchmesser und 0,25 Zoll Dicke. Es ist zu 99,95 % rein.

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CHROM - Cr

Chrom-Sputtertargets (Cr) werden aufgrund der hervorragenden mechanischen, chemischen und optischen Eigenschaften von Chrom häufig für Dünnschichtbeschichtungen verwendet. Hier ist eine kurze Zusammenfassung von Chrom-Sputtertargets für Dünnschichtbeschichtungen:

1. Materialeigenschaften:
Hohe Härte: Chrom ist ein sehr hartes Material und daher ideal für dünne Filme, bei denen Verschleißfestigkeit und Haltbarkeit erforderlich sind.
Korrosionsbeständigkeit: Chrom verfügt über eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit, insbesondere in rauen Umgebungen, und eignet sich daher gut für Schutzbeschichtungen.
Haftvermittler: Dünne Chromfilme werden häufig verwendet, um die Haftung zwischen verschiedenen Schichten zu verbessern, insbesondere bei Mehrschichtbeschichtungen.

2. Ablagerungsmethoden:
Gleichstromsputtern: Chrom ist ein leitfähiges Material, daher wird zur Abscheidung häufig Gleichstrom-Magnetronsputtern verwendet, um hohe Abscheidungsraten und gleichmäßige Filme sicherzustellen.
HF-Sputtern: HF-Sputtern kann in speziellen Anwendungen, insbesondere in reaktiven Umgebungen zur Bildung von Chromverbindungen, eingesetzt werden.
Reaktives Sputtern: Chrom wird häufig in Gegenwart reaktiver Gase (z. B. Sauerstoff oder Stickstoff) gesputtert, um Chromoxid (Cr2O3) oder Chromnitrid (CrN) zu bilden, die spezielle Verwendungszwecke haben.

3. Anwendungen:
Dekorative Beschichtungen: Chrom wird aufgrund seiner glänzenden, reflektierenden Oberfläche und Haltbarkeit in dekorativen Dünnfilmen für Gegenstände wie Uhren, Schmuck und Autoverkleidungen verwendet.
Schutzbeschichtungen: Dünne Chromschichten bieten Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz und sind daher ideal für Werkzeuge, Maschinenteile und chemische Verarbeitungsgeräte geeignet.
Mikroelektronik: Aufgrund seiner Stabilität und Leitfähigkeit wird Chrom in Dünnschichtwiderständen, elektrischen Kontakten und Diffusionsbarrieren in Halbleiterbauelementen verwendet.
Optische Beschichtungen: Dünne Chromfilme werden in reflektierenden Beschichtungen und Antireflexbeschichtungen für optische Geräte, Spiegel und Filter verwendet.
Hartbeschichtungen: Chromverbindungen wie Chromnitrid (CrN) werden in Hartbeschichtungen für Schneidwerkzeuge, verschleißfeste Oberflächen und mechanische Teile verwendet.

4. Filmeigenschaften:
Mechanische Festigkeit: Dünne Chromschichten sind hart und haltbar und bieten hervorragenden Schutz bei anspruchsvollen Anwendungen wie Werkzeugen und Industrieanlagen.
Korrosionsbeständigkeit: Chromschichten sind oxidations- und korrosionsbeständig und eignen sich daher ideal für Schutzbeschichtungen in Umgebungen mit aggressiven Chemikalien.
Haftung: Chrom wird häufig als Haftschicht in Mehrschichtbeschichtungen verwendet und hilft beim Verbinden von Metallen, Glas und anderen Materialien.
Optische Reflektivität: Dünne Chromfilme bieten eine gute Reflektivität und werden aufgrund ihres glänzenden metallischen Aussehens in optischen und dekorativen Beschichtungen verwendet.

5. Reaktive Abscheidung:
Chromoxid (Cr2O3): Chromoxid wird durch reaktives Sputtern in einer Sauerstoffumgebung hergestellt und aufgrund seiner Härte, Verschleißfestigkeit und seines Korrosionsschutzes in Hochleistungsanwendungen eingesetzt.
Chromnitrid (CrN): CrN wird durch Zerstäuben von Chrom in einer Stickstoffatmosphäre hergestellt und in Hartbeschichtungen für Schneidwerkzeuge und andere verschleißfeste Anwendungen verwendet.

6. Herausforderungen:
Targetvergiftung: Bei reaktiven Sputterprozessen (z. B. bei der Bildung von Cr2O3 oder CrN) kann es zu einer Targetvergiftung kommen, die durch die Bildung nichtmetallischer Verbindungen auf der Targetoberfläche die Sputtereffizienz verringert.
Filmspannung: Bei der Abscheidung können in Chromfilmen innere Spannungen entstehen, die insbesondere bei dicken Schichten die Filmhaftung und die mechanischen Eigenschaften beeinträchtigen.

Zusammenfassung:
Chrom (Cr)-Sputtertargets werden aufgrund ihrer hohen Härte, Korrosionsbeständigkeit und hervorragenden Hafteigenschaften häufig in Dünnschichtbeschichtungen für Schutzschichten, dekorative Oberflächen, optische Beschichtungen und Mikroelektronik verwendet. DC-Sputtern wird typischerweise für eine effiziente Chromabscheidung verwendet, während reaktives Sputtern die Bildung von Verbindungen wie Chromoxid (Cr2O3) und Chromnitrid (CrN) ermöglicht, die in harten Beschichtungen für Schneidwerkzeuge und andere anspruchsvolle Anwendungen verwendet werden. Chromfilme bieten eine Kombination aus Haltbarkeit, Schutz und reflektierenden Eigenschaften, wodurch sie für eine breite Palette von Branchen vielseitig einsetzbar sind.

Hinweise:
Für alle dielektrischen Targetmaterialien wird eine metallische oder elastomere Trägerplattenverbindung empfohlen, da diese Materialien Eigenschaften aufweisen, die sich nicht zum Sputtern eignen, wie z. B. Sprödigkeit und geringe Wärmeleitfähigkeit. Diese Targets sind aufgrund ihrer geringen Wärmeleitfähigkeit am anfälligsten für Thermoschocks und erfordern daher während der Start- und Abschaltschritte möglicherweise spezielle Verfahren zum Hoch- und Herunterfahren der Leistung.