Ideale kreisförmige Magnetron-Sputtertargets für Vakuum, TITAN - Ti-Sputtertarget, 3 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke, 99,995 Prozent Reinheit

Bei diesem Produkt handelt es sich um ein kreisförmiges Magnetron-Sputtertarget aus TITAN - Ti mit einem Durchmesser von 3 Zoll und einer Dicke von 0,25 Zoll. Es ist zu 99,995 % rein.

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TITAN - Ti

Aufgrund der hervorragenden mechanischen, chemischen und physikalischen Eigenschaften von Titan werden Titan-Sputtertargets (Ti) häufig bei der Dünnschichtabscheidung verwendet. Hier ist eine Übersicht über Titan-Sputtertargets für Dünnschichten:

1. Materialeigenschaften:
Hohes Verhältnis von Festigkeit zu Gewicht: Titan ist für sein geringes Gewicht und seine hohe mechanische Festigkeit bekannt, was es ideal für dünne Filme macht, die langlebig sein müssen, ohne nennenswerte Masse hinzuzufügen.
Korrosionsbeständigkeit: Titan ist äußerst korrosionsbeständig, insbesondere in rauen Umgebungen wie Meerwasser und sauren Bedingungen.
Biokompatibilität: Titan ist biokompatibel und daher für den Einsatz in medizinischen Geräten und biomedizinischen Beschichtungen geeignet.

2. Ablagerungsmethoden:
Gleichstromsputtern: Titan ist ein leitfähiges Material, daher wird für die effiziente Dünnschichtabscheidung häufig Gleichstrom-Magnetronsputtern verwendet.
HF-Sputtern: HF-Sputtern kann in Fällen verwendet werden, in denen reaktives Sputtern oder komplexere Dünnschichtstrukturen erforderlich sind.
Reaktives Sputtern: Titan wird häufig in Gegenwart reaktiver Gase (wie Sauerstoff oder Stickstoff) gesputtert, um Titanverbindungen wie Titandioxid (TiO2) und Titannitrid (TiN) zu bilden.

3. Anwendungen:
Mikroelektronik: Titan wird in Diffusionsbarrieren, Haftschichten und elektrischen Kontakten in Halbleiterbauelementen verwendet. Es bildet dünne Filme, die dazu beitragen, die Metalldiffusion in integrierten Schaltkreisen zu verhindern.
Optische Beschichtungen: Titan wird in optischen Beschichtungen, insbesondere in Antireflexbeschichtungen, als dauerhafte Schutzschicht verwendet. Titandioxid (TiO2) ist ein Material mit hohem Brechungsindex, das häufig in mehrschichtigen optischen Beschichtungen verwendet wird.
Schutzbeschichtungen: Dünne Titanfilme werden häufig für korrosionsbeständige und verschleißfeste Beschichtungen in der Luft- und Raumfahrt, der Automobilindustrie und der chemischen Industrie verwendet.
Medizinische Anwendungen: Aufgrund seiner Biokompatibilität wird Titan in dünnen Filmen für Implantate, Prothesen und medizinische Geräte verwendet, um deren Haltbarkeit und Interaktion mit biologischem Gewebe zu verbessern.
Katalyse: Dünne Filme auf Titanbasis (wie TiO2) werden in der Photokatalyse verwendet, insbesondere in Umweltanwendungen wie der Luft- und Wasserreinigung.

4. Filmeigenschaften:
Mechanische Festigkeit: Titanfolien sind für ihre Haltbarkeit und Festigkeit bekannt und bieten Verschleißfestigkeit sowie mechanischen Schutz.
Korrosionsbeständigkeit: Dünne Titanfilme sind äußerst korrosionsbeständig und daher ideal für den Einsatz in Meeresumgebungen und anderen aggressiven chemischen Bedingungen geeignet.
Haftung: Dünne Titanfilme dienen häufig als Haftschichten, um die Bindung anderer Beschichtungen zu verbessern, insbesondere bei Materialien, die von Natur aus nicht gut haften.
Optische Eigenschaften: Durch reaktives Sputtern gebildete Titandioxidfilme (TiO2) sind im sichtbaren Bereich hochtransparent und haben einen hohen Brechungsindex (~2,5), wodurch sie sich für optische Beschichtungen eignen.

5. Reaktive Abscheidung:
Titandioxid (TiO2): TiO2 wird durch reaktives Sputtern in einer Sauerstoffumgebung hergestellt und wird aufgrund seiner Transparenz und seines hohen Brechungsindex in optischen Beschichtungen, Solarzellen und Photokatalysatoren verwendet.
Titannitrid (TiN): TiN wird durch Sputtern von Titan in einer Stickstoffatmosphäre hergestellt und wird in Hartbeschichtungen, verschleißfesten Oberflächen und leitfähigen Filmen in der Mikroelektronik verwendet.

6. Herausforderungen:
Oxidation: Titan ist reaktiv und es muss darauf geachtet werden, den Oxidationszustand zu kontrollieren, insbesondere während der Abscheidung in reaktiven Umgebungen (z. B. Bildung von TiO2 ohne Überoxidation des Films).
Spannungen in Filmen: Bei der Abscheidung können in dünnen Titanfilmen innere Spannungen entstehen, die die Filmhaftung und die mechanischen Eigenschaften beeinträchtigen können.

Zusammenfassung:
Aufgrund der hohen Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Biokompatibilität von Titan werden Titan-Sputtertargets (Ti) häufig in der Mikroelektronik, optischen Beschichtungen, Schutzschichten und medizinischen Geräten eingesetzt. DC-Sputtern wird häufig zur Titanabscheidung verwendet, während reaktives Sputtern die Bildung von Titanverbindungen wie TiO2 und TiN ermöglicht, die in der Optik, Photokatalyse und bei Hartbeschichtungen Anwendung finden. Dünne Titanfilme bieten in einer Vielzahl von Branchen hervorragende mechanische Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hafteigenschaften.

Hinweise:
Für alle dielektrischen Targetmaterialien wird eine metallische oder elastomere Trägerplattenverbindung empfohlen, da diese Materialien Eigenschaften aufweisen, die sich nicht zum Sputtern eignen, wie z. B. Sprödigkeit und geringe Wärmeleitfähigkeit. Diese Targets sind aufgrund ihrer geringen Wärmeleitfähigkeit am anfälligsten für Thermoschocks und erfordern daher während der Start- und Abschaltschritte möglicherweise spezielle Verfahren zum Hoch- und Herunterfahren der Leistung.