ExploraVAC PVD-Box-Coater, 20 Zoll kubischer Edelstahl, Metallabscheidung aus der Gasphase, forensische VMD, dünner Metallfilm, thermische Verdampfungsabscheidung, Co-Abscheidung, 4 thermische Boote, automatischer manueller Betriebsmodus, Touchscreen-Schnittstelle. Dieses Box-Vakuum-Coater-System ist für den forensischen Metallabscheidungsprozess (VMD) konzipiert, insbesondere für die Entwicklung latenter Fingerabdrücke in einer Laborumgebung. Die Kammer hat ein Volumen von 20 x 20 x 20 Zoll und ist aus Edelstahl gefertigt. Sie besitzt 4 thermische Verdampfungsquellen: für Verdampfungsboote, -stäbe oder -tiegel. Sie ist mit vielen Funktionen ausgestattet, darunter einem 6-Zoll-Rotationssubstrathalter für flache Substrate wie Stoffe, Glas und Papier. Dieser ist austauschbar gegen eine horizontal eingespannte Spindel für unregelmäßige Proben wie Patronenhülsen, Wassergläser, Messer, Türklinken und Waffen. Es besitzt 2 Strahlungsheizgeräte für Substratplatten, 2 Inficon QCM-Sensoren, einen eingebauten Dickenregler mit manuellen und automatischen Prozessmodi. Der Abscheidungsprozess kann sequentiell oder als 2-Taschen-Co-Abscheidung erfolgen. Weitere Merkmale sind 2 reaktive Gaseinlassöffnungen für die Abscheidung, ein Türsichtfenster mit Schwerkraftverschluss und Kammerbeleuchtung zur Beobachtung der Druckentwicklung, pneumatische Quellen- und Substratverschlüsse, wassergekühlte Elektrodendurchführungen, ausfallsichere Mechanismen, visuelle und akustische Statusanzeigen in Form von Stapellichtern und Alarmen. Das System umfasst ein integriertes 15,5-Zoll-Touchscreen-Display, das mit einer nicht ablaufenden Basisversion der AutoExplor™-Software ausgestattet ist und von einem integrierten Windows-Computer ausgeführt wird, der alle Kammer- und Abscheidungsprozessfunktionen steuern kann. Alle elektronischen Komponenten sind UL-zertifiziert für Nordamerika. Das System verfügt über 2 Bootsquellenstromversorgungen (4 kW, 400 A), 2 Variacs – 45 A. Das System ist mit direkter scheinbarer Bootsleistung, Spannungs- und Laststrommessmodulen und einer Anzeigeeinheit im Unterschrank ausgestattet. Das System kann gängige Metalle für VMD verdampfen: Gold, Kupfer, Nickel, Zink, Chrom, Aluminium. Die Kammer wird bei richtiger Konditionierung von einer Edwards nXDS20i Trockenscrollpumpe grob gepumpt und von einer Pfeiffer HiPace 300 Turbomolekularpumpe fein gepumpt, bis ein Basisdruck von 3 x 10-7 Torr erreicht ist. Wir können Rezepte für Ihre VMD-Prozesse anpassen. Wir testen Ihre Prozesse vor dem Versand gründlich. Auf Anfrage wird auch eine persönliche oder virtuelle Schulung des SOP angeboten. Unser System wird standardmäßig mit einer einjährigen Garantie geliefert. Die Lieferzeit beträgt 90 Tage nach Bestätigung der Bestellung. ExploraVAC PVD Box Coater, 20 Zoll: Vollständig geschlossene, 20 Zoll große, geschweißte SS-Vakuumkammer mit Innenabschirmungen 4 Quellen, 1,0 cm³, 2 - 4 Zoll Boote - Wolfram, Molybdän, Tantal, Stäbe, Tiegel VMD-Metalle: Au, Zn, Cu, Ni, Ti, Cr, Al, Sn, Ag, In Rotierender Substrathalter/Spindel Pneumatische Verschlüsse 2 QCM-Sensoren Substrat-Strahlungsheizungen Tür mit 6 Zoll Sichtfenster mit Schwerkraftverschluss Schnellverschluss der Vordertür durch Sichtfenster LED-Kammerbeleuchtung 15,5 Zoll LCD-Touchscreen-Display Edwards nXDS20i Trocken-Scroll-Vakuumpumpe Pfeiffer HiPace 300 Turbopumpe Messung und Anzeige der scheinbaren Bootsleistung Leistung der Verdampferquelle - 4 kVA, 400 A Visuelle und akustische Betriebsstatusanzeigen Ausfallsichere Mechanismen Übersicht über thermische PVD ein PVD-Prozess. Thermische Verdampfung Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist eine einfache Methode, um dünne Materialfilme in einer Vakuumumgebung auf Substrate abzuscheiden. Mit dieser Methode können sowohl metallische als auch nichtmetallische Filme abgeschieden werden. Während des Abscheidungsprozesses wird ein Material thermisch erhitzt, bis es schmilzt und verdampft. Dann steigt der Dampf auf und kondensiert auf einem kühleren Substrat, wo er einen dünnen Film bildet. Einige Materialien wie Cr sublimieren einfach, ohne zu schmelzen, wodurch der optimale Abscheidungsdampfdruck erreicht wird. Die mittlere freie Weglänge der Dampfmoleküle muss lang genug sein, um Kollisionen mit Restgasen in der Kammer zu vermeiden. Dies wird erreicht, indem sichergestellt wird, dass der Basisdruck unter einen berechneten Schwellenwert fällt, bevor mit der Verdampfung begonnen wird. Unsere Kammern werden von Pfeiffer HiPace Turbomolekularpumpen innerhalb weniger Minuten auf unter 10-7 Torr feingepumpt. Bei diesem Gasdruck erhöht sich die mittlere freie Weglänge des Dampfes auf über 40 Zoll, was etwa viermal so viel ist wie die Wurfweite des Abscheidungsprozesses. Dies gewährleistet eine effiziente und kontaminationsfreie Abscheidung unserer Systeme. Ein QCM-Sensor ist ein üblicher Schichtdickenmonitor, der in PVD-Kammern eingebaut wird, um ständig Rückmeldung über die Abscheidungsrate und Schichtdicke zu geben. Anwendung: Forensik, Fingerabdruckabbildung mittels Vakuummetallabscheidung (VMD)Die Fingerabdruckabbildung ist ein leistungsstarkes Werkzeug, das von Strafverfolgungsbehörden und anderen damit verbundenen Regierungsbehörden und privaten Organisationen bei ihren forensischen Kriminalermittlungen eingesetzt wird. Bei der Vakuummetallabscheidung (VMD) wird ein Paar metallischer Dünnschichten verwendet, um latente Fingerabdrücke zu beschichten und zu entwickeln, die auf Materialien vorhanden sein können, die an einem Tatort sichergestellt wurden. Fingerabdruckrückstände bestehen hauptsächlich aus organischen Verbindungen wie Schweiß, Ölen und anderen Körpersekreten. Diese Substanzen bilden eine Schicht, die sich physikalisch und chemisch von Substraten wie Papier, Glas, Stoffen, Holz und metallischen Oberflächen unterscheidet. Bei der VMD wird normalerweise zuerst Gold abgeschieden, gefolgt von Zink. Chrom, Silber, Zinn, Kupfer und Aluminium wurden ebenfalls zur Entwicklung latenter Fingerabdrücke verwendet. Abbildung 2. (a) Latente Fingerabdrücke, die durch VMD auf einer Patronenhülse, einem Dollarschein, Fensterglas und einer Papierquittung eines Fast-Food-Ladens entwickelt wurden. (b) Mikroskopbild von entwickelten Fingerabdrücken, das Bereiche zeigt, aus denen DNA für weitere forensische Analysen extrahiert werden kann. Zink ist ein Metall und verbindet sich nicht effektiv mit den organischen Materialien der Fingerabdruckrückstände. Daher wird bei der VMD-Technik zur Entwicklung latenter Fingerabdrücke oft zuerst ein Goldfilm aufgebracht, hauptsächlich um die Haftung zu verbessern und den Kontrast zu erhöhen, wobei Gold einen kontrastreichen Hintergrund vor den Fingerabdruckrückständen erzeugt. Die Anregung der beschichteten Filme im Bereich von 300 – 400 nm liefert die besten visuellen Ergebnisse der Abdrücke. Wenn eine zweite Metallschicht (normalerweise Zink) aufgebracht wird, hebt sie die Rillen des Fingerabdrucks hervor, indem sie stärker an den rückstandsfreien Bereichen haftet und ein klares und deutliches Muster erzeugt, das für forensische Analysen verwendet werden kann. Gold ist außerdem chemisch inert und reagiert nicht mit Fingerabdruckrückständen oder den nachfolgenden Metallschichten. Dies hilft, die Integrität des latenten Fingerabdrucks zu bewahren und gewährleistet eine genaue und zuverlässige Entwicklung und DNA-Wiederherstellung (Abbildung 2(b). Abbildung 3. Fingerabdrücke auf Fensterglas, entwickelt von VMD mithilfe eines Kupfer- und Chromfilmstapels auf einem ExploraVAC PVD Box Coater. Das Bild wurde mit einer Bildverarbeitungssoftware bearbeitet, um den Kontrast zu verbessern. VMD ist bisher nachweislich die einzige Methode, mit der Abdrücke auf Stoffen und großen Beweisstücken wie Bettzeug oder Beweisstücken entwickelt werden können, die mehrere Monate lang gealtert sind, wie z. B. eine unter Wasser geworfene Waffe. Dies macht dieses Tool nützlich, wenn versucht wird, ungelöste Kriminalfälle mit neu entdeckten physischen Beweisstücken aufzuklären. ARTIKELKATEGORIENPORÖS HALBPORÖS NICHT PORÖS SONSTIGES

Thermischer MBraun-Verdampfer – MB Evap S/A, Dünnschicht-Co-Depositionssystem, Edelstahlglocke – 13 x 17 Zoll, 4 Wärmequellen und 2 Inficon QCM-Dickenmonitore mit neuem Pfeiffer HiPace 300 Turbo, generalüberholt. Diese generalüberholte Mbraun Evap S/A-Vakuumbeschichtungskammer (Baujahr 2012) ist mit einer brandneuen HiPace 300-Turbopumpe und einer brandneuen Edwards 12-Rotationsvorvakuumpumpe ausgestattet. Das Gerät ist in ausgezeichnetem Betriebszustand. Das Innere der Kammer wurde sandgestrahlt, um alle möglichen Verunreinigungen aus der vorherigen Verwendung zu entfernen. Das Gerät eignet sich für die thermische Verdampfung von Metallen mit hohem Schmelzpunkt und Dielektrika wie Gold, Titan und Oxiden. Es verfügt über eine Edelstahlglocke mit einem Durchmesser von 13 Zoll und einer Höhe von 17 Zoll. Die maximale Verdampfungsdistanz beträgt 10 Zoll bei Rotation des Substrathalters und kann ohne Substratrotationsbaugruppe auf 12 Zoll erhöht werden, geeignet für die Abhebemetallabscheidung. Der Substrathalter kann maximal 4 x 4 Zoll große Proben mit Rotation während der Abscheidung bzw. 6 x 6 Zoll große Proben ohne Rotation aufnehmen. Die Kammer hat 4 thermische Verdampfungsquellen mit einer Ladekapazität von jeweils etwa 1 cm³. Dieser thermische Verdampfer von MBraun ist mit vielen Funktionen ausgestattet, darunter einem neuen, individuell angefertigten 4-Zoll-Rotationssubstrathalter. Er hat 2 Inficon QCM-Sensoren und zwei neue installierte Quarzkristalle, einen Inficon SQC-310C Co-Depositionscontroller mit manuellen und automatischen Prozessmodi. Der Abscheidungsprozess kann sequentiell oder als Co-Deposition erfolgen. Zu den weiteren Merkmalen gehören ein 6-Zoll-Sichtfenster zur Beobachtung des Beschichtungsfortschritts, pneumatische Quellen- und Substratverschlüsse, Ausfallsicherungsmechanismen, ein optischer Sicherheitsvorhang sowie visuelle und akustische Statusanzeigen in Form von Alarmen. Dieser MBraun-Verdampfer wurde 2012 hergestellt und verfügt über die folgenden Merkmale und Fähigkeiten: Edelstahlglockenkammer (13 Zoll Durchmesser x 17 Zoll Höhe) Die Werkzeugabmessungen betragen 48 Zoll L x 32 Zoll B x 80 Zoll H 4 Zoll rotierender Substrathalter (24-VDC-Stromversorgung nicht im Lieferumfang enthalten) 4 Widerstandsheiztaschen 10 Zoll Verdampfungswurfweite Motorisierter Glockenkammerheber 2 QCM-Filmdickensensoren und ein SQC-310C-Copositionsregler von Inficon Pneumatische Quellen- und Substratverschlüsse 6-Zoll-Sichtfenster Touchscreen-GUI-Bildschirm Pfeiffer HiPace 300 Turbopumpe Optionale Messung und Anzeige der scheinbaren Bootsleistung (nicht im Lieferumfang enthalten) Optionales Thermoelement und Anzeige der Bootstemperatur (Multimeter nicht im Lieferumfang enthalten) Ausfallsicherungsmechanismen, Beschichtungsrate, Leistung, Türen, Vakuumsicherheitsverriegelungen Visueller und akustischer Laufstatus Anzeigen Elektrisches Versorgungssystem – 3 x 208 V AC, 60 Hz (3Ph/N/PE) Gesamtlast – 16 A 4 Bootsstromquellen – 2 kW, 30 – 1800 °C Bootstemperatur Basisdruck 5 x 10-7 Torr, Pfeiffer-Kaltkathodenvakuummeter muss möglicherweise ausgetauscht werden Max. Betriebsdruck – vom Benutzer eingestellt, 5 x 10-3 Torr Substratmaterial, -form und -größe – Si-Wafer bis zu 4 Zoll Substratrotationsgeschwindigkeit – vom Benutzer eingestellt Größen der Verdampfungsboote/-stäbe – 1 – 4 Zoll Länge, 1 cm³ Ladekapazität Speicherung von 100 Rezepturen, die meisten Rezepte zur Metallfilmabscheidung bereits installiert Manueller und automatischer Betriebsmodus Bootsmaterialien – alle, W, Molybdän, Ta, Tiegel 1 Jahr eingeschränkte Gewährleistung MBraun Evap Coating System

ExploraVAC PVD VLTE Organischer thermischer Verdampfer, 20 Zoll kubischer Edelstahl, Niedertemperaturverdampfer für organische Stoffe, LTE-Abscheidung organischer Farbstoffe, organische Dünnschichtabscheidung für OLEDS-Emissionsschichten, 6 thermische Tiegel. Dieses Box-Vakuumbeschichtungssystem ist für die Vakuum-Niedertemperaturverdampfung und -abscheidung temperaturempfindlicher organischer und organometallischer Verbindungen in einer Laborumgebung konzipiert. Die Kammer hat ein Volumen von 20 x 20 x 20 Zoll und besteht aus Edelstahl. Sie verfügt über 6 thermische Verdampfungstiegel mit einer Ladekapazität von 10 cm³ und einem Gesamtvolumen von 15 cm³. Sie ist mit vielen Funktionen ausgestattet, darunter einem maßgefertigten rotierenden 6-Zoll-Substrathalter. Sie verfügt über 2 Inficon QCM-Sensoren und einen eingebauten Inficon STM-2-Dickenregler mit manuellem und automatischem Prozessmodus. Es besteht die Möglichkeit, bei Bedarf Strahlungsheizkörper für den Substrathalter hinzuzufügen. Der Abscheidungsprozess kann sequentiell oder gleichzeitig erfolgen. Weitere Merkmale sind 2 Einlassöffnungen für reaktive Abscheidungsgase, ein Türsichtfenster mit Schwerkraftverschluss und Kammerbeleuchtung zur Beobachtung des Beschichtungsfortschritts, pneumatische Quellen- und Substratverschlüsse, ausfallsichere Mechanismen, visuelle und akustische Statusanzeigen in Form von Stapellichtern und Alarmen. Das System umfasst ein integriertes 15,5-Zoll-Touchscreen-Display, das mit einer nicht ablaufenden Basisversion der AutoExplor™-Software ausgestattet ist und von einem integrierten Windows-Computer ausgeführt wird, der alle Kammer- und Abscheidungsvorgangsfunktionen steuern kann. Alle elektronischen Komponenten sind UL-zertifiziert für Nordamerika. Das System ist mit direkter scheinbarer Tiegelspulenleistung, Spannungs- und Laststrommessmodulen und einer Anzeigeeinheit im Unterschrank ausgestattet. Das System kann übliche organische und organometallische Materialien wie PMMA, AIQ3, CuPc, MAI, Fulleren - C60 und Perylenderivate wie PTCDA und PDI verdampfen. Eine Vielzahl von organischen Vorläufern für die Abscheidung von dielektrischen Materialien wie SiO2, TiO2, Al2O3 und GeO2 kann ebenfalls verdampft werden. Die Kammer wird bei richtiger Konditionierung von einer Edwards nXDS20i-Trockenscrollpumpe grob gepumpt und von einer Pfeiffer HiPace 300-Turbomolekularpumpe fein gepumpt, bis ein Basisdruck von 3 x 10-7 Torr erreicht ist. Vor der Abscheidung können die Tiegel auf 100 °C erhitzt werden, um die Proben zu trocknen. Eine Kryopumpe ist installiert, um Feuchtigkeit einzufangen. Jede Keramiktiegeltasche ist in eine Heizspule eingewickelt, die über einen PID-Temperaturregler verfügt, um sicherzustellen, dass keine Überhitzung der Probe auftritt. Wir können Rezepte für Ihre VLTE-Prozesse anpassen. Wir testen Ihre Prozesse vor dem Versand gründlich. Auf Anfrage wird auch eine persönliche oder virtuelle Schulung des SOP angeboten. Unser System wird mit einer Standardgarantie von einem Jahr geliefert. Die Lieferzeit beträgt 90 Tage nach Bestätigung der Bestellung. ExploraVAC PVD VLTE Organischer thermischer Verdampfer: Vollständig geschlossene 20" geschweißte SS-Vakuumkammer mit Innenabschirmungen 6 Tiegel, 15,0 cc, 10 cc Ladekapazität Tiegeltemperaturbereich: 30 – 800 °C Kompatibel mit Aluminiumoxid-, Zirkonoxid-, Wolfram-, Graphit-, Quarztiegeln Rotierender Substrathalter (kundenspezifisch) Pneumatische Verschlüsse 2 QCM-Sensoren Substrat-Strahlungsheizungen (optional) Tür mit 6"-Sichtfenster mit Schwerkraftverschluss Schnellverschluss der Vordertür durch Sichtfenster LED-Kammerbeleuchtung 15,5"-LCD-Touchscreen Edwards nXDS20i Trocken-Scroll-Vakuumpumpe Pfeiffer HiPace 300 Turbopumpe Scheinbare Messung und Anzeige der Tiegelspulenleistung Maximale Spulenleistung - 160 W PID-Temperaturregelung für jeden Tiegel Visuelle und akustische Betriebsstatusanzeigen Ausfallsichere Mechanismen PVD-Thermoverdampfungsabscheidung ÜbersichtAbbildung 1. Schematische Darstellung der thermischen Verdampfung des Ziels Material in einem Boot während eines PVD-Prozesses. Thermische Verdampfung Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist eine einfache Methode, mit der dünne Materialfilme in einer Vakuumumgebung auf Substrate aufgebracht werden. Mit dieser Methode können sowohl metallische als auch nichtmetallische Filme aufgebracht werden. Während des Abscheidungsprozesses wird ein Material thermisch erhitzt, bis es schmilzt und verdampft. Dann steigt der Dampf auf und kondensiert auf einem kühleren Substrat, wo er einen dünnen Film bildet. Einige Materialien wie Cr sublimieren einfach, ohne zu schmelzen, wodurch der optimale Abscheidungsdampfdruck erreicht wird. Die mittlere freie Weglänge der Dampfmoleküle muss lang genug sein, um Kollisionen mit Restgasen in der Kammer zu vermeiden. Dies wird erreicht, indem sichergestellt wird, dass der Basisdruck unter einen berechneten Schwellenwert fällt, bevor mit der Verdampfung begonnen wird. Unsere Kammern werden von Pfeiffer HiPace Turbomolekularpumpen innerhalb weniger Minuten auf unter 10-7 Torr feingepumpt. Bei diesem Gasdruck erhöht sich die mittlere freie Weglänge des Dampfes auf über 40 Zoll, was etwa viermal so viel ist wie die Wurfweite des Abscheidungsprozesses. Dies gewährleistet eine effiziente und kontaminationsfreie Abscheidung unserer Systeme. Ein QCM-Sensor ist ein üblicher Filmdickenmonitor, der in PVD-Kammern eingebaut ist, um ständig Rückmeldung über die Abscheidungsrate und Filmdicke zu geben. Prinzip der VLTE für die Abscheidung organischer Materialien Die Vakuumverdampfung mit geringer Wärme (VLTE) ist eine Methode, mit der dünne Materialfilme unter Vakuumbedingungen bei relativ niedrigen Temperaturen auf Substrate abgeschieden werden. Das Ausgangsmaterial wird gerade genug erhitzt, um zu verdampfen, ohne sich zu zersetzen oder zu reagieren. Bei organischen Materialien ist diese Technik besonders nützlich, da viele organische Verbindungen empfindlich auf hohe Temperaturen reagieren und sich bei zu großer Hitze zersetzen können. Bei der VLTE wird das abzuscheidende Material in einem Tiegel unter Vakuum erhitzt, bis es verdampft oder sublimiert. Das Material steht nicht in direktem Kontakt mit dem Heizelement, wie dies bei der herkömmlichen thermischen Verdampfung der Fall ist. Die Vakuumumgebung senkt den Siedepunkt des Materials, sodass es bei einer niedrigeren Temperatur verdampfen kann. Dieser Dampf kondensiert dann auf dem Substrat und bildet einen dünnen Film. Bei organischen Materialien wird dieser Prozess sorgfältig kontrolliert, um eine Zersetzung zu verhindern und einen hochwertigen Film sicherzustellen. Der Betriebstemperaturbereich des VTLE-Prozesses geht bis etwa 800 °C, oberhalb dessen die meisten thermisch stabilen organischen Verbindungen zu zerfallen beginnen, wodurch sich die chemische Struktur der Filmbeschichtung verändert und Filmdefekte entstehen. Beispiele für organische Dünnschichtbeschichtungsmaterialien für VLTE Abbildung 2. Aluminiumtris(chinolin-8-olat) AlQ3AlQ3 ist ein gelbes Pulver mit einem Schmelzpunkt von 410 – 430 °C. AlQ3 wird häufig als Elektronentransportschicht in OLEDs verwendet. Es erleichtert den Transport von Elektronen von der Kathode zur Emissionsschicht. AlQ3 kann auch als Material für die Emissionsschicht dienen, wo es bei der Rekombination von Elektronen und Löchern Licht emittiert. Es strahlt normalerweise grünes Licht aus. Abbildung 3. Perylen-Derivate Perylen-Derivate sind eine Klasse organischer Verbindungen, die von Perylen abgeleitet sind und aufgrund ihrer hervorragenden Ladungstransport- und Lichtemissionseigenschaften häufig in organischen Photovoltaikprodukten und Photodetektoren verwendet werden. Ein Beispiel für ein Perylenderivat ist Perylentetracarbonsäuredianhydrid (PTCDA). PTCDA ist ein dunkelrotes Pulver mit einem Schmelzpunkt von 403 °C. Es wird in organischen Feldeffekttransistoren (OFETs), organischen Photovoltaiken (OPVs) und organischen Leuchtdioden (OLEDs) verwendet. Es hat eine hohe thermische Stabilität, eine gute Elektronenbeweglichkeit und eine starke Absorption im sichtbaren Spektrum. Wird verwendet, um Beschichtungen rotes Pigment zu verleihen. Abbildung 4. Fulleren – C60Fullerene, z. B. C60, haben eine tiefviolette Farbe und einen Schmelzpunkt von ~600 °C (sublimieren). Fullerene werden häufig als Elektronenakzeptoren in organischen Photovoltaiken und OPVs verwendet. Sie nehmen Elektronen vom Donormaterial auf und ermöglichen so eine effiziente Ladungstrennung und -transport. Sie haben eine hohe Elektronenaffinität und -beweglichkeit, was die Gesamteffizienz von Solarzellen verbessert. C60 wird auch häufig bei der Herstellung von Perowskit-Solarzellen, Fotodetektoren, organischen Leuchtdioden (OLEDs) und organischen Feldeffekttransistoren (OFETs) verwendet. Abbildung 5. Polymethylmethacrylat (PMMA)PMMA ist ein transparentes thermoplastisches Polymer, das in optischen Beschichtungen und als Resistmaterial in der Lithografie verwendet wird und bei 160 °C schmilzt. PMMA wird häufig als positiver Resist in der Elektronenstrahllithografie verwendet. Bei Einwirkung eines Elektronenstrahls erfährt PMMA eine Kettenspaltung, wodurch die belichteten Bereiche in einer Entwicklerlösung besser löslich werden. Dadurch können hochauflösende Muster auf Substraten erzeugt werden. PMMA kann verwendet werden, um Muster auf Substraten zu bilden, indem es UV-Licht ausgesetzt wird, gefolgt von einer Entwicklung, um die belichteten Bereiche zu entfernen. Es wird auch als dielektrisches Material in elektronischen und optoelektronischen Geräten verwendet, wo PMMA als Isolierschicht zwischen leitfähigen Schichten oder Komponenten fungiert. Es hat den Vorteil, eine gute elektrische Isolierung zu bieten und kann in dünnen, gleichmäßigen Schichten aufgebracht werden. Aufgrund seiner hervorragenden optischen Klarheit und Lichtdurchlässigkeit eignet sich PMMA für optische Beschichtungen. Anwendungen: Niedertemperaturverdampfung organischer Materialien (VLTE) 1. Organische Photovoltaik (OPV): Organische Dünnschichten werden in Solarzellen verwendet, um Licht zu absorbieren und in Elektrizität umzuwandeln. VLTE ermöglicht die präzise Abscheidung aktiver Schichten und verbessert so die Effizienz von OPV. 2. Organische Dünnschichttransistoren (OTFT): Werden in flexibler Elektronik und Displays verwendet. VLTE bietet hochwertige organische Halbleiterschichten für eine bessere Geräteleistung. 3. Sensoren: Organische Materialien können in chemischen und biologischen Sensoren verwendet werden. VLTE ermöglicht die Abscheidung empfindlicher organischer Schichten, die mit Zielanalyten interagieren können. 4. Organische Laser: Entwicklung organischer Halbleiterlaser für den Einsatz in verschiedenen optischen Anwendungen. Erfordert eine präzise Kontrolle über die Dicke und Zusammensetzung der organischen Schicht, die durch VLTE erreicht werden kann. 5. Organische Leuchtdioden (OLEDs): VLTE wird verwendet, um organische Schichten in OLEDs abzuscheiden, die für Displays und Beleuchtung entscheidend sind. Es gewährleistet gleichmäßige dünne Filme, die für eine effiziente Lichtemission und Geräteleistung notwendig sind. Die Anordnung der Schichten in einer einfachen OLED (Organische Leuchtdiode) kann von unten nach oben wie folgt beschrieben werden: Abbildung 6. Grundstruktur einer organischen LeuchtdiodeSubstrat: Dieses besteht normalerweise aus Glas oder einem flexiblen Kunststoffmaterial und bietet der OLED mechanischen Halt. Anode: Eine transparente Schicht, normalerweise aus Indiumzinnoxid (ITO), die Licht durchlässt und positive Ladungsträger (Löcher) in das Gerät injiziert. Lochtransportschicht (HTL): Diese Schicht erleichtert den Transport von Löchern von der Anode zur Emissionsschicht. Emissionsschicht (EML): Der Kern der OLED, in dem Licht erzeugt wird. Diese Schicht enthält die organischen Moleküle oder Polymere, die Licht emittieren, wenn an die Elektroden eine Spannung angelegt wird. Elektronentransportschicht (ETL): Diese Schicht erleichtert den Transport von Elektronen von der Kathode zur Emissionsschicht.Kathode: Eine Metallschicht, die normalerweise aus Materialien wie Aluminium oder Kalzium besteht und Elektronen in das Gerät injiziert. OLEDs (Organische Leuchtdioden) haben aufgrund ihrer leuchtenden Farben, ihres hohen Kontrasts, ihrer Flexibilität und Energieeffizienz vielfältige Anwendungsmöglichkeiten. Zu den wichtigsten Anwendungen gehören: Bildschirme: Smartphones: High-End-Displays. Fernseher: Überragende Bildqualität. Tragbare Geräte: Smartwatches und Fitness-Tracker. Monitore: Professionelle visuelle Arbeit. Digital Signage: Öffentliche Werbung und Informationsanzeigen. Flexible Displays: Faltbare und aufrollbare Bildschirme. ZusammenfassungDie Vakuumverdampfung mit geringer Wärme ist eine wichtige Technik für die Abscheidung organischer Dünnschichten, da sie Vorteile in Bezug auf Temperaturkontrolle und Filmgleichmäßigkeit bietet. Sie spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung fortschrittlicher organischer elektronischer und optoelektronischer Geräte, trotz Herausforderungen im Zusammenhang mit Materialempfindlichkeit und Prozesskomplexität. Die richtige Optimierung und Kontrolle der Abscheidungsparameter ist unerlässlich, um hochwertige Filme zu erzielen und die Leistung und Zuverlässigkeit organischer Geräte sicherzustellen.