XEI Scientific Evactron E50 E-TC De-Contaminator Remote-Plasmaquelle, häufig verwendet für SEM, TEM, ALD und PVD-Proben- und Substratvorbereitung

Das Dekontaminationssystem Evactron E50 E-TC von XEI Scientific besteht aus: Evactron E50 E-TC Remote-Plasmaradikalquelle mit Gasspüloption, Evactron E50 E-TC Rack-Mount-Controller, Evactron E50 E-TC Touchpad-Schnittstelle, System-Benutzerhandbuch und Evactron E50-Kabelsatz. Diese sind integrierte Komponenten unserer Ideal Vacuum PlasmaVAC P50W Plasmareinigungs- und Dekontaminationssysteme, die ein ideales Produkt für die Probenvorbereitung bei Rasterelektronenmikroskopen (SEM) und Transmissionselektronenmikroskopen (TEM) sind. Die Plasmareinigung ist ein wichtiger Schritt, da sie organische Verunreinigungen von Probenoberflächen entfernt und so die Bildqualität und Analysegenauigkeit verbessert.

Die Plasmareinigung ist von entscheidender Bedeutung für die Entfernung von Kohlenwasserstoffverunreinigungen aus Proben und Substraten, die in folgenden Bereichen verwendet werden:

• Rasterelektronenmikroskopie (REM)
• Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
• Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS)
• Röntgenspektroskopie (EDX)
• Kryo-Plasma Fokussierter Ionenstrahl (Cryo-PFIB)
• Atomlagenabscheidung (ALD)
• Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
• Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUVL)

Spezifikationen zur Oberflächenbehandlung des Evactron E50 E-TC :

• Remote Plasma Source von XEI Scientific
• Modell Evactron E50 E-TC
• Leistung einstellbar zwischen 35 und 75 Watt
• Max. 50 Watt Dauerbetrieb
• HF-Frequenz bei 13,56 MHz
• Zwei Gaseinlassfilteroptionen: 3 nm und 0,5 µm Porengröße
• Die Porengröße von 3 nm entspricht der Richtlinie SEMI F38-0699 der Halbleiterindustrie
• Getestet mit den Gasen O2, CDA, Ar/H2, Ar/O2, N2/H2 und N2.
• Dedizierter Evactron-Benutzeroberflächen-Controller
• Speicherung von Benutzereinstellungen
• Rezepte, Leistung, Zyklen und Reinigungsdauer

Die Plasmareinigung ist eine in der Mikroskopie, einschließlich der Rasterelektronenmikroskopie (REM) und der Transmissionselektronenmikroskopie (TEM), weit verbreitete Technik zur Vorbereitung und Dekontamination von Proben. Sie entfernt effektiv organische Verunreinigungen von Probenoberflächen und verbessert so die Bildqualität und Analysegenauigkeit. So funktioniert die Plasmareinigung für REM- und TEM-Proben:

1. Prinzip der Plasmareinigung
Bei der Plasmareinigung wird Plasma, ein hochionisiertes Gas, zur Entfernung von Verunreinigungen eingesetzt. Plasma wird durch Anlegen eines hochfrequenten elektromagnetischen Felds an ein Niederdruckgas, üblicherweise Sauerstoff, Argon oder Wasserstoff, erzeugt. Der Prozess erzeugt Ionen, Elektronen und neutrale Spezies, die hochreaktiv sind.

2. Entfernung von Schadstoffen

Im Plasmareinigungsprozess:

• Physikalische Entfernung : Die energiereichen Ionen im Plasma bombardieren die Probenoberfläche und zerstäuben Verunreinigungen physikalisch weg.
• Chemische Reaktionen : Reaktive Spezies im Plasma können chemisch mit Verunreinigungen reagieren. Beispielsweise können Sauerstoffradikale organische Materialien oxidieren und sie in flüchtige Verbindungen umwandeln, die leicht entfernt werden können.

3. Anwendung in SEM und TEM

Für SEM-Proben:

• Dekontamination : Durch die Plasmareinigung werden organische Rückstände wie Fingerabdrücke, Öle und in der Luft befindliche Partikel entfernt, die Details verdecken oder Elektronenstrahlen stören können.
• Verbesserte Bildgebung : Durch die Reinigung der Oberfläche reduziert die Plasmabehandlung Aufladungseffekte und verbessert die Auflösung und den Kontrast von SEM- und TEM-Bildern.
• Verbesserte Auflösung und Kontrast : Eine saubere Probenoberfläche ermöglicht eine bessere Wechselwirkung zwischen den Elektronen und der Probe, was für die Erzielung hochauflösender und kontrastreicher Bilder in SEM und TEM entscheidend ist.
• Vorbereitung für die Beschichtung : Wird häufig vor dem Auftragen leitfähiger Beschichtungen auf nicht leitfähige Proben verwendet, um sicherzustellen, dass die Beschichtung gut haftet und gleichmäßig ist.

4. Vorteile der Plasmareinigung

• Schonend für die Proben : Im Gegensatz zu chemischen Reinigungsmethoden ist die Plasmareinigung im Allgemeinen zerstörungsfrei für die Probenoberfläche.
• Schnell und effizient : Der Vorgang kann je nach Kontaminationsgrad und Probengröße einige Minuten bis zu einer Stunde dauern.
• Vielseitig : Wirksam auf einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Metallen, Keramik und biologischen Proben.