Fuente de plasma remota descontaminadora XEI Scientific Evactron E50 E-TC comúnmente utilizada para la preparación de muestras y sustratos SEM, TEM, ALD y PVD

El sistema descontaminador Evactron E50 E-TC de XEI Scientific consta de: fuente remota de radicales de plasma Evactron E50 E-TC, con opción de purga de gas, controlador de montaje en bastidor Evactron E50 E-TC, interfaz de panel táctil Evactron E50 E-TC, usuario del sistema manual y juego de cables Evactron E50. Estos son componentes integrados de nuestros sistemas de descontaminación y limpieza de plasma Ideal Vacuum PlasmaVAC P50W, que es un producto ideal para la preparación de muestras de microscopía electrónica de barrido (SEM) y transmisión (TEM). La limpieza con plasma es un paso vital ya que elimina los contaminantes orgánicos de las superficies de las muestras, lo que mejora la calidad de la imagen y la precisión del análisis.

La limpieza con plasma es vital para eliminar la contaminación por hidrocarburos de muestras y sustratos utilizados en:

• Microscopía electrónica de barrido (SEM)
• Microscopía electrónica de transmisión (TEM)
• Espectroscopia fotoelectrónica de rayos X (XPS)
• Espectroscopia de rayos X (EDX)
• Haz de iones enfocado en crioplasma (Cryo-PFIB)
• Deposición de capas atómicas (ALD)
• Deposición física de vapor (PVD)
• Litografía ultravioleta extrema (EUVL)

Especificaciones del tratamiento de superficies Evactron E50 E-TC :

• Fuente de plasma remota de XEI Scientific
• Modelo Evactron E50 E-TC
• Potencia ajustable entre 35 y 75 vatios.
• Máximo de 50 vatios de funcionamiento continuo
• Frecuencia de RF a 13,56 MHz
• Dos opciones de filtro de entrada de gas: tamaños de poro de 3 nm y 0,5 µm
• Los tamaños de poro de 3 nm siguen la directiva SEMI F38-0699 de la industria de semiconductores
• Probado con gases O2, CDA, Ar/H2, Ar/O2, N2/H2 y N2.
• Controlador de interfaz de usuario Evactron dedicado
• Almacenamiento de configuraciones de usuario
• Recetas, potencia, ciclos y duración de la limpieza

La limpieza con plasma es una técnica ampliamente utilizada en microscopía, incluida la microscopía electrónica de barrido (SEM) y la microscopía electrónica de transmisión (TEM), para preparar y descontaminar muestras. Elimina eficazmente los contaminantes orgánicos de las superficies de las muestras, mejorando la calidad de la imagen y la precisión del análisis. Así es como funciona la limpieza con plasma para muestras SEM y TEM:

1. Principio de limpieza con plasma
La limpieza con plasma utiliza plasma, un gas altamente ionizado, para eliminar contaminantes. El plasma se genera aplicando un campo electromagnético de alta frecuencia a un gas a baja presión, comúnmente oxígeno, argón o hidrógeno. El proceso crea iones, electrones y especies neutras que son altamente reactivas.

2. Eliminación de contaminantes

En el proceso de limpieza por plasma:

• Eliminación física : los iones energéticos del plasma bombardean la superficie de la muestra, eliminando físicamente los contaminantes.
• Reacciones químicas : las especies reactivas en el plasma pueden interactuar químicamente con los contaminantes. Por ejemplo, los radicales de oxígeno pueden oxidar materiales orgánicos, convirtiéndolos en compuestos volátiles que se eliminan fácilmente.

3. Aplicación en SEM y TEM

Para muestras SEM:

• Descontaminación : la limpieza con plasma elimina residuos orgánicos como huellas dactilares, aceites y partículas en el aire que pueden oscurecer los detalles o interferir con los rayos de electrones.
• Imágenes mejoradas : al limpiar la superficie, el tratamiento con plasma reduce los efectos de carga y mejora la resolución y el contraste de las imágenes SEM y TEM.
• Resolución y contraste mejorados : una superficie de muestra limpia permite una mejor interacción entre los electrones y la muestra, lo cual es fundamental para lograr imágenes de alta resolución y alto contraste en SEM y TEM.
• Preparación para el recubrimiento : a menudo se usa antes de aplicar recubrimientos conductores a muestras no conductoras, asegurando que el recubrimiento se adhiera bien y sea uniforme.

4. Ventajas de utilizar la limpieza con plasma

• Suave con las muestras : a diferencia de los métodos de limpieza química, la limpieza con plasma generalmente no es destructiva para la superficie de la muestra.
• Rápido y Eficiente : El proceso puede tardar desde unos minutos hasta una hora, dependiendo del nivel de contaminación y el tamaño de la muestra.
• Versátil : eficaz en una variedad de materiales, incluidos metales, cerámicas y muestras biológicas.