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Objetivos de pulverización catódica con magnetrón circular de vacío ideal, TITANIO - Objetivo de pulverización catódica de Ti, 3'' de diámetro x 0,25'' de espesor, 99,995 por ciento de pureza

Condición:
  Nuevo
Número de parte:
  P1013721
Garantía:
  Full Manufacturer's Warranty

Agotado   

Venta: $244,927.50CLP

Objetivos de pulverización catódica con magnetrón circular de vacío ideal, TITANIO - Objetivo de pulverización catódica de Ti, 3'' de diámetro x 0,25'' de espesor, 99,995 por ciento de pureza 244927.5
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Llegada Anticipada   2 on 2024-12-21
Divisa: Chilean Peso (CLP)

Descripción

Objetivos de pulverización catódica con magnetrón circular de vacío ideal, TITANIO - Objetivo de pulverización catódica de Ti, 3'' de diámetro x 0,25'' de espesor, 99,995 por ciento de pureza
Productos de vacío ideales, LLC.

Este producto es un magnetrón circular de TITANIO - Ti para pulverización catódica, con un diámetro de 3'' x 0,25'' de espesor. Tiene una pureza del 99,995%.

Utilizamos una estrategia de precios muy competitiva para garantizar que reciba productos de la más alta calidad al mejor precio posible, brindándole asequibilidad y excelencia en cada compra. Ofrecemos grandes descuentos a todos los clientes, los clientes que realizan pedidos al por mayor disfrutarán de grandes ahorros. Almacenamos grandes cantidades de nuestros productos para brindarles a nuestros clientes un envío garantizado el mismo día después de realizar un pedido. Este corto plazo de entrega es apreciado por todos nuestros clientes que buscan administrar su flujo de efectivo con tiempos de respuesta más rápidos. Nuestros clientes habituales pueden mantener niveles de inventario más bajos, lo que disminuye los costos de almacenamiento y minimiza el riesgo de obsolescencia. Comprar en Ideal Vacuum significa que un cliente recibe su producto más rápidamente, lo que mejora la satisfacción y satisface sus necesidades urgentes. Esto también permite a nuestros clientes mantenerse por delante de su competencia al adaptarse rápidamente a las nuevas tendencias y demandas.

TITANIO - Ti

Los objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) se utilizan ampliamente en la deposición de películas delgadas debido a las excelentes propiedades mecánicas, químicas y físicas del titanio. A continuación, se incluye un resumen de los objetivos de pulverización catódica de titanio en películas delgadas:

1. Propiedades del material:
Alta relación resistencia-peso: el titanio es conocido por su peso ligero y alta resistencia mecánica, lo que lo hace ideal para películas delgadas que requieren durabilidad sin agregar masa significativa.
Resistencia a la corrosión: El titanio es altamente resistente a la corrosión, especialmente en entornos hostiles como el agua de mar y las condiciones ácidas.
Biocompatibilidad: El titanio es biocompatible, lo que lo hace adecuado para su uso en dispositivos médicos y recubrimientos biomédicos.

2. Métodos de deposición:
Pulverización catódica con CC: el titanio es un material conductor, por lo que la pulverización catódica con magnetrón de CC se utiliza comúnmente para una deposición eficiente de películas delgadas.
Pulverización catódica por radiofrecuencia: la pulverización catódica por radiofrecuencia se puede utilizar en casos en los que se requieren pulverización catódica reactiva o estructuras de película delgada más complejas.
Pulverización reactiva: el titanio se pulveriza frecuentemente en presencia de gases reactivos (como oxígeno o nitrógeno) para formar compuestos de titanio como el dióxido de titanio (TiO2) y el nitruro de titanio (TiN).

3. Aplicaciones:
Microelectrónica: El titanio se utiliza en barreras de difusión, capas de adhesión y contactos eléctricos en dispositivos semiconductores. Forma películas delgadas que ayudan a prevenir la difusión del metal en circuitos integrados.
Recubrimientos ópticos: El titanio se utiliza en recubrimientos ópticos, en particular en recubrimientos antirreflejos, como capa protectora duradera. El dióxido de titanio (TiO2) es un material con un alto índice de refracción que se utiliza a menudo en recubrimientos ópticos multicapa.
Recubrimientos protectores: Las películas delgadas de titanio se utilizan comúnmente para recubrimientos resistentes a la corrosión y al desgaste en las industrias aeroespacial, automotriz y química.
Aplicaciones médicas: Debido a su biocompatibilidad, el titanio se utiliza en películas delgadas para implantes, prótesis y dispositivos médicos para mejorar su durabilidad e interacción con los tejidos biológicos.
Catálisis: Las películas delgadas a base de titanio (como TiO2) se utilizan en la fotocatálisis, particularmente en aplicaciones ambientales como la purificación del aire y del agua.

4. Propiedades de la película:
Resistencia mecánica: Las películas de titanio son conocidas por su durabilidad y resistencia, proporcionando resistencia al desgaste y protección mecánica.
Resistencia a la corrosión: Las películas delgadas de titanio son altamente resistentes a la corrosión, lo que las hace ideales para su uso en entornos marinos y otras condiciones químicas agresivas.
Adhesión: Las películas delgadas de titanio a menudo sirven como capas de adhesión para mejorar la unión de otros recubrimientos, especialmente en materiales que naturalmente no se adhieren bien.
Propiedades ópticas: Las películas de dióxido de titanio (TiO2), formadas mediante pulverización catódica reactiva, son altamente transparentes en el rango visible y tienen un alto índice de refracción (~2,5), lo que las hace adecuadas para recubrimientos ópticos.

5. Deposición reactiva:
Dióxido de titanio (TiO2): Formado mediante pulverización reactiva en un entorno de oxígeno, el TiO2 se utiliza en recubrimientos ópticos, células solares y fotocatalizadores debido a su transparencia y alto índice de refracción.
Nitruro de titanio (TiN): Formado mediante la pulverización catódica de titanio en una atmósfera de nitrógeno, el TiN se utiliza en recubrimientos duros, superficies resistentes al desgaste y películas conductoras en microelectrónica.

6. Desafíos:
Oxidación: El titanio es reactivo y se debe tener cuidado para controlar el estado de oxidación, especialmente durante la deposición en entornos reactivos (por ejemplo, formando TiO2 sin sobreoxidar la película).
Estrés en películas: Las películas delgadas de titanio pueden desarrollar estrés interno durante la deposición, lo que puede afectar la adhesión de la película y las propiedades mecánicas.

Resumen:
Los blancos de titanio (Ti) para pulverización catódica se utilizan ampliamente en microelectrónica, recubrimientos ópticos, capas protectoras y dispositivos médicos debido a la alta resistencia, resistencia a la corrosión y biocompatibilidad del titanio. La pulverización catódica con corriente continua se utiliza comúnmente para la deposición de titanio, mientras que la pulverización catódica reactiva permite la formación de compuestos de titanio como TiO2 y TiN, que tienen aplicaciones en óptica, fotocatálisis y recubrimientos duros. Las películas delgadas de titanio proporcionan una excelente resistencia mecánica, resistencia a la corrosión y propiedades de adhesión en una amplia gama de industrias.





Notas:
Se recomienda la unión de placas de soporte de metal o elastómero para todos los materiales de objetivo dieléctricos, ya que estos materiales tienen características que no son susceptibles a la pulverización catódica, como la fragilidad y la baja conductividad térmica. Estos objetivos son más susceptibles al choque térmico debido a su baja conductividad térmica y, por lo tanto, pueden requerir procedimientos específicos de aumento y disminución de la potencia durante los pasos de encendido y apagado.

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