Turbobomba Pfeiffer HiPace 1200 DN200 Paquete de entrada ISO-F 200 con unidad de accionamiento TC 1200 OmniControl 001 y refrigeración por agua

Este paquete de bomba turbo Pfeiffer HiPace 1200 con brida de entrada DN200 ISO-F 200 tiene una velocidad de bombeo de 1300 litros por segundo (l/s), una presión final de 7,5 x 10 ^-8 Torr y tiene una unidad de refrigeración por agua pre- instalado. La bomba tiene una unidad de accionamiento de bomba electrónica TC 1200 montada en la parte inferior integrada. Este paquete incluye una unidad de control de pantalla OmniControl 001 con pantalla LED grande que se alimenta de la bomba a través de un cable de comunicaciones RS485, también incluido. Para proteger la bomba de los desechos, también forma parte de este paquete un protector contra astillas con malla fina (0,8 mm). Este paquete de bomba turbo no incluye una bomba de vacío preliminar, líneas de vacío preliminar, cámara de vacío, manómetros de medición de presión ni válvulas. Algunas actualizaciones pueden incluir: una caja de relés de bomba de respaldo, ventilación de solenoide o válvulas de purga de gas de sellado. Todos estos artículos están disponibles y vendidos por separado por Ideal Vacuum.

Acerca de la bomba turbo HiPace 1200 con brida ISO-F 200
Las bombas de alto vacío turbomoleculares HiPace 1200 de Pfeiffer con brida de entrada ISO-F 200 y brida de salida KF-40 tienen una velocidad de bombeo de 1300 litros por segundo (l/s) y una presión final de 7,5 x 10 ^-8 Torr. La bomba se puede montar desde la vertical (brida de alto vacío en la parte superior) hasta 90° (horizontal). La potencia de entrada de 100 - 120/200 - 240 VCA 50/60 a un máximo de 1350 vatios se suministra directamente a la bomba con el cable de alimentación de entrada NEMA 5-15P a Hastings HAN 3 incluido. Esta bomba Pfeiffer HiPace 1200 viene con una unidad de accionamiento TC 1200 integrada montada lateralmente en la bomba. El TC 1200 tiene un puerto de alimentación y comunicación RS485 (M12), un conector D-sub para operación remota y dos puertos de accesorios M12 para equipos adicionales. Esta bomba turbo HiPace 1200 con entrada ISO-F 200 y unidad de accionamiento TC 1200 viene de serie con refrigeración por agua y tiene el número de pieza PM P06 001 de Pfeiffer.

Acerca de la unidad de control de variadores OmniControl 001
El controlador de turbobomba Pfeiffer OmniControl 001 puede montarse sobre un banco o en bastidor y está diseñado para operar turbobombas Pfeiffer HiPace 1200 que tienen la unidad de accionamiento TC 1200 integrada. La unidad de accionamiento OmniControl 001 recibe energía de la bomba y no tiene una fuente de alimentación integrada. El OmniControl 001 puede controlar todos los parámetros principales de la turbobomba HiPace 1200 a través de un cable de interfaz RS485 de 3 metros de largo incluido. Dado que no tiene su propia fuente de alimentación, el OmniControl 001 es muy compacto y tiene el número de pieza de Pfeiffer PE D40 100 0.

Acerca de la unidad de refrigeración por agua
La refrigeración por agua es estándar en las turbobombas HiPace 1200. La unidad de refrigeración por agua tiene conectores de ajuste a presión para las mangueras de suministro y descarga (manguera de plástico de 10 mm de diámetro exterior). Las conexiones de las mangueras se pueden desenroscar y quitar para hacer uso de las roscas G 1/4” integradas.

Las aplicaciones para este paquete incluyen:

• Espectrometría de masas
• Espectrometría de masas por cromatografía de gases (GC/MS)
• Espectrometría de masas de cromatografía líquida (LC/MS)
• Espectrometría de masas de plasma acoplado inductivamente (ICP-MS)
• Espectrometría de masas de tiempo de vuelo (TOF)

Vacío en Investigación y Desarrollo:

• Física de altas energías
• Tecnología de fusión
• Investigación general de UHV
• Fuentes de luz de sincrotrón Aceleradores de partículas

Instrumentos de nanotecnología:

• Microscopio de electrones
• Microscopía electrónica de barrido (SEM)
• Microscopía electrónica de transmisión (TEM)
• Sistemas de haz de iones enfocados (FIB)
• Análisis de superficie
• Fabricación de semiconductores

Procesamiento de vacío industrial:

• Deposición de película delgada:
• Equipos de revestimiento de vidrio (vidrio arquitectónico y automotriz, pantallas planas)
• Producción de células solares de película delgada (fotovoltaica)
• Medios de datos ópticos (CD, DVD, discos magnetoópticos)
• Medios de almacenamiento magnético
• Tratamientos superficiales
• Recubrimiento óptico (oftálmico, optoelectrónico de precisión)
• Recubrimiento de rollo/cinta en películas o láminas

Procesamiento de dispositivos:

• Fabricación de tubos de imagen para televisores y monitores
• Evacuación de lámparas (iluminación de autopista, beamers)
• Tubos de rayos X y dispositivos de electrones

Procesos Generales:

• Hornos de Vacío
• Metalurgia

Este paquete se almacena en nuestro inventario como un kit, compuesto de muchas piezas separadas, y cada una se enumera en nuestra sección Disponibilidad de componentes del kit a continuación. Los manuales de instrucciones de funcionamiento están disponibles en las descargas.