Cibles de pulvérisation magnétron circulaires à vide idéales, cible de pulvérisation NIOBIUM - Nb, diamètre de 3'' x épaisseur de 0,25", pureté de 99,95 pour cent

Ce produit est une cible de pulvérisation magnétron circulaire NIOBIUM - Nb, d'un diamètre de 3'' x 0,25" d'épaisseur. Il est pur à 99,95 %.

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NIOBIUM - Nb

Les cibles de pulvérisation en niobium (Nb) sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces en raison des propriétés électriques, mécaniques et supraconductrices uniques du niobium. Voici un résumé concis des cibles de pulvérisation en niobium dans les couches minces :

1. Propriétés matérielles :
Point de fusion élevé : le niobium a un point de fusion élevé (~ 2477 °C), ce qui le rend adapté aux applications à haute température.
Résistance à la corrosion : Le niobium résiste à l’oxydation et à la corrosion, en particulier dans les environnements acides.
Supraconductivité : Le niobium est un matériau clé dans les applications supraconductrices, notamment en raison de sa température critique (Tc) élevée et de sa capacité à transporter des courants supraconducteurs importants.
Conductivité électrique : Le niobium est un matériau conducteur, ce qui le rend utile dans les applications électroniques et électriques à couches minces.

2. Méthodes de dépôt :
Pulvérisation CC : Le niobium étant conducteur, la pulvérisation magnétron CC est couramment utilisée, offrant des taux de dépôt efficaces.
Pulvérisation RF : la pulvérisation RF peut être utilisée pour des applications spécialisées ou en conjonction avec la pulvérisation réactive pour former des composés de niobium.
Pulvérisation réactive : le niobium peut être pulvérisé dans une atmosphère réactive (par exemple, avec de l'oxygène ou de l'azote) pour former de l'oxyde de niobium (Nb2O5) ou du nitrure de niobium (NbN) pour des applications spécifiques.

3. Applications :
Films supraconducteurs : Le niobium est un matériau clé dans les films supraconducteurs, qui sont utilisés dans les dispositifs d'interférence quantique supraconducteurs (SQUID), les circuits supraconducteurs et les accélérateurs de particules.
Microélectronique : Les films minces de niobium sont utilisés dans les condensateurs, les interconnexions et comme barrières de diffusion en microélectronique en raison de leur excellente conductivité et stabilité.
Revêtements optiques : Le niobium est utilisé dans les revêtements réfléchissants et les filtres optiques. La pulvérisation réactive forme du pentoxyde de niobium (Nb2O5), qui est utilisé dans les revêtements optiques à indice élevé.
Revêtements protecteurs : La résistance du niobium à la corrosion et à l’oxydation le rend utile pour les revêtements protecteurs dans le traitement chimique et les applications hautes performances.
Nitrure de niobium (NbN) : Formé par pulvérisation réactive, le NbN est utilisé dans les films supraconducteurs, les revêtements durs et les couches résistantes à l'usure.

4. Propriétés du film :
Supraconductivité : les films minces de niobium présentent une supraconductivité à basse température, ce qui les rend essentiels dans l'informatique quantique et les circuits supraconducteurs hautes performances.
Résistance à la corrosion : les films de niobium offrent une excellente protection contre la corrosion, en particulier dans les environnements agressifs, ce qui les rend utiles pour les couches de protection et de barrière.
Propriétés optiques : Les films d'oxyde de niobium (Nb2O5) ont un indice de réfraction élevé (~ 2,2) et sont utilisés dans les revêtements optiques.
Résistance mécanique : Les films de niobium sont solides et durables, ce qui les rend adaptés aux applications où une résistance à l'usure est nécessaire.

5. Dépôt réactif :
Pentoxyde de niobium (Nb2O5) : Formé par pulvérisation réactive avec de l'oxygène, le Nb2O5 est utilisé dans les revêtements optiques, les diélectriques et les condensateurs en raison de sa constante diélectrique élevée et de sa transparence optique.
Nitrure de niobium (NbN) : les films NbN sont utilisés dans les applications supraconductrices, ainsi que dans les revêtements durs pour les outils de coupe et les surfaces résistantes à l'usure.

6. Défis :
Empoisonnement de la cible : Dans la pulvérisation réactive, un empoisonnement de la cible peut se produire, où des composés non métalliques (par exemple, des oxydes ou des nitrures) se forment sur la cible, réduisant l'efficacité de la pulvérisation.
Contrainte interne : les films de niobium peuvent développer des contraintes internes lors du dépôt, ce qui peut affecter les propriétés mécaniques et l'adhérence du film.

Résumé:
Les cibles de pulvérisation en niobium (Nb) sont largement utilisées dans les films minces pour des applications en supraconductivité, microélectronique, revêtements optiques et couches protectrices. La pulvérisation CC est couramment utilisée pour déposer des films minces de niobium, tandis que la pulvérisation réactive est utilisée pour former des composés de niobium comme le Nb2O5 (revêtements optiques, diélectriques) et le NbN (films supraconducteurs, revêtements durs). Les films minces de niobium sont appréciés pour leurs propriétés supraconductrices, leur résistance à la corrosion et leur durabilité mécanique dans diverses industries.

Remarques :
Il est recommandé d'utiliser des plaques de support métalliques ou élastomères pour tous les matériaux cibles diélectriques, car ces matériaux présentent des caractéristiques qui ne se prêtent pas à la pulvérisation cathodique, telles que la fragilité et une faible conductivité thermique. Ces cibles sont plus sensibles aux chocs thermiques en raison de leur faible conductivité thermique et peuvent donc nécessiter des procédures spécifiques de montée et de descente en puissance lors des étapes de démarrage et d'arrêt.