Machine d'enduction sous vide ExploraVAC PVD, acier inoxydable cubique de 20 pouces, dépôt de métal en phase vapeur, VMD médico-légal, couche mince métallique, dépôt par évaporation thermique, co-dépôt, 4 bateaux thermiques, mode de fonctionnement manuel automatique, interface à écran tactile. Ce système d'enduction sous vide en boîte est conçu pour le processus médico-légal de dépôt de métal en phase vapeur (VMD), en particulier le développement d'empreintes digitales latentes dans un environnement de laboratoire. La chambre mesure 20 x 20 x 20 pouces au cube et est en acier inoxydable. Il dispose de 4 sources d'évaporation thermique : soit pour des bateaux d'évaporation, des tiges ou des creusets. Il est équipé de nombreuses fonctionnalités, notamment un support de substrat rotatif de 6 pouces pour les substrats plats comme les tissus, le verre et le papier. Ceci est interchangeable avec une broche à serrage horizontal pour les échantillons irréguliers comme les douilles de balles, les verres à eau, les couteaux, les poignées de porte et les armes. Il dispose de 2 radiateurs radiants à plaques de substrat, de 2 capteurs Inficon QCM, d'un contrôleur d'épaisseur intégré avec modes de traitement manuel et automatique. Le processus de dépôt peut être séquentiel ou co-dépôt à 2 poches. Les autres caractéristiques sont 2 ports d'entrée de gaz de dépôt réactif, une fenêtre de porte avec obturateur par gravité et éclairage de la chambre pour observer le développement des impressions, des obturateurs pneumatiques pour la source et le substrat, des traversées d'électrodes refroidies à l'eau, des mécanismes de sécurité, des indicateurs d'état visuels et audio sous forme de lumières de pile et d'alarmes. . Le système comprend un écran tactile intégré de 15,5 pouces équipé d'une version de base non expirante du logiciel AutoExplor™, géré par un ordinateur Windows embarqué qui peut contrôler toutes les fonctions de la chambre et du processus de dépôt. Tous les composants électroniques sont certifiés UL pour l'Amérique du Nord. Le système dispose de 2 sources d'alimentation pour bateau (4 kW, 400 A), de 2 variateurs – 45 A. Le système est installé avec des modules de mesure de la puissance apparente directe du bateau, de la tension et du courant de charge et une unité d'affichage dans l'armoire inférieure. Le système peut vaporiser des métaux courants pour le VMD : or, cuivre, nickel, zinc, chrome, aluminium. La chambre est pompée grossièrement par une pompe à spirale sèche Edwards nXDS20i et pompée finement par une pompe turbomoléculaire Pfeiffer HiPace 300 jusqu'à une pression de base de 3 x 10-7 Torr lorsqu'elle est correctement conditionnée. Nous pouvons personnaliser les recettes pour vos processus VMD. Nous testons minutieusement vos processus avant l’expédition. Une formation en personne ou virtuelle du SOP est également proposée sur demande. Notre système est livré avec une garantie standard d’un an. Le délai de livraison est de 90 jours après confirmation du bon de commande. Machine d'enduction PVD ExploraVAC, 20 pouces : Chambre à vide en acier inoxydable soudée de 20 po entièrement fermée avec boucliers intérieurs 4 sources, 1,0 cc, 2 bateaux de 4 pouces - tungstène, molybdène, tantale, tiges, creusets Métaux VMD : Au, Zn, Cu, Ni, Ti, Cr, Al, Sn, Ag, In Support de substrat rotatif/broche Volets pneumatiques 2 capteurs QCM Radiateurs radiants à substrat Porte avec fenêtre de 6'' avec obturateur à gravité Fermeture de la porte avant à verrouillage rapide via la fenêtre Éclairage de la chambre à LED Écran tactile LCD de 15,5'' Affichage à l'écran Pompe à vide à défilement sec Edwards nXDS20i Pompe turbo Pfeiffer HiPace 300 Mesure et affichage de la puissance apparente du bateau Puissance de la source de l'évaporateur - 4 kVA, 400 A Indicateurs visuels et audio d'état de fonctionnement Mécanismes de sécurité Présentation du PVD thermiqueFigure 1. Schéma de principe de l'évaporation thermique du matériau cible dans un bateau pendant un processus PVD. Le dépôt physique en phase vapeur par évaporation thermique (PVD) est une méthode simple utilisée pour déposer de minces films de matériau sur des substrats dans un environnement sous vide. Des films métalliques et non métalliques peuvent être déposés par cette méthode. Au cours du processus de dépôt, un matériau est chauffé thermiquement jusqu'à ce qu'il fonde et se vaporise, puis la vapeur se décolle et se condense sur un substrat plus froid, formant un film mince. Certains matériaux comme le Cr se subliment simplement sans fondre, atteignant ainsi la pression de vapeur de dépôt optimale. Le libre parcours moyen des molécules de vapeur doit être suffisamment long pour éviter les collisions avec les gaz résiduels dans la chambre. Ceci est réalisé en s'assurant que la pression de base tombe en dessous d'un seuil calculé avant de lancer l'évaporation. Nos chambres sont pompées par les pompes turbomoléculaires Pfeiffer HiPace jusqu'à une température inférieure à 10-7 Torr en quelques minutes. À cette pression de gaz, le libre parcours moyen de la vapeur est augmenté au-delà de 40 pouces, ce qui est environ quatre fois supérieur au processus de dépôt. distance de projection. Cela garantit un dépôt efficace et sans contamination de nos systèmes. Un capteur QCM est un moniteur d'épaisseur de film commun intégré aux chambres PVD pour donner en permanence des informations sur le taux de dépôt et l'épaisseur du film. Application : médecine légale, imagerie des empreintes digitales à l'aide du dépôt de métal sous vide (VMD). L'imagerie des empreintes digitales est un outil puissant utilisé par les forces de l'ordre et d'autres agences gouvernementales associées et organisations privées dans leurs enquêtes médico-légales. Dans le dépôt de métal sous vide (VMD), une paire de films minces métalliques est utilisée pour recouvrir et développer des empreintes digitales latentes qui peuvent être présentes sur des matériaux récupérés sur une scène de crime. Les résidus d’empreintes digitales sont principalement composés de composés organiques tels que la sueur, les huiles et autres sécrétions corporelles. Ces substances créent une couche physiquement et chimiquement différente des substrats tels que le papier, le verre, les tissus, le bois et les surfaces métalliques. Dans VMD, normalement le premier film déposé est l’or, suivi du zinc. Le chrome, l'argent, l'étain, le cuivre, l'aluminium ont également été utilisés pour développer des empreintes digitales latentes. Figure 2. (a) Empreintes digitales latentes développées par VMD sur une douille de balle, un billet d'un dollar, une vitre et un reçu papier d'un fast-food. (b) Image au microscope d'empreintes digitales développées montrant des régions où l'ADN peut être extrait pour une analyse médico-légale plus approfondie. Le zinc, étant un métal, ne se lie pas efficacement aux matériaux organiques résiduels des empreintes digitales. Par conséquent, dans la technique VMD pour le développement d’empreintes latentes, un film d’or est souvent déposé en premier, principalement pour améliorer l’adhésion et le contraste, l’or créant un fond très contrasté par rapport aux résidus d’empreintes digitales. L'excitation des films enduits dans une plage de 300 à 400 nm donne les meilleurs résultats visuels des marques d'impression. Lorsqu'une deuxième couche métallique (généralement du zinc) est déposée, elle met en valeur les crêtes de l'empreinte digitale en adhérant plus fortement aux zones sans résidus, créant ainsi un motif clair et distinct qui peut être utilisé pour une analyse médico-légale. L'or est également chimiquement inerte et ne réagit pas avec les résidus d'empreintes digitales ou les couches métalliques ultérieures. Cela permet de préserver l'intégrité de l'empreinte latente, garantissant un développement précis et fiable et une récupération de l'ADN (Figure 2 (b). Figure 3. Empreintes digitales sur une vitre développées par VMD à l'aide d'une pile de films de cuivre et de chrome sur ExploraVAC PVD Box Coater. L'image a été traitée par un logiciel de traitement d'image pour améliorer le contraste. Il s'est avéré jusqu'à présent la seule méthode capable de développer des impressions sur des tissus et de grands éléments de preuve comme de la literie ou des objets à conviction qui ont vieilli pendant plusieurs mois comme une arme jetée sous l'eau. Cela rend cet outil utile pour tenter de résoudre des affaires criminelles froides avec des pièces à conviction physiques nouvellement découvertes. CATÉGORIES D'ARTICLE SEMI-POREUX NON POREUX DIVERS.

Évaporateur thermique organique ExploraVAC PVD VLTE, acier inoxydable cubique de 20", évaporateur de matières organiques basse température, dépôt LTE de colorants organiques, dépôt de couches minces organiques pour couches émissives OLEDS, 6 creusets thermiques. Ce système d'enduction sous vide en boîte est conçu pour l'évaporation sous vide à basse température et le dépôt de composés organiques et organométalliques sensibles à la température dans un environnement de laboratoire. La chambre mesure 20 x 20 x 20 pouces au cube et est en acier inoxydable. Il dispose de 6 creusets d'évaporation thermique d'une capacité de chargement de 10 cc et d'un volume total de 15 cc. Il est équipé de nombreuses fonctionnalités, notamment un support de substrat rotatif de 6 pouces sur mesure. Il dispose de 2 capteurs Inficon QCM et d'un contrôleur d'épaisseur Inficon STM-2 intégré avec mode de traitement manuel et automatique. Il est possible d'ajouter des radiateurs radiants pour le support de substrat si nécessaire. Le processus de dépôt peut être séquentiel ou co-dépôt. Les autres caractéristiques sont 2 ports d'entrée de gaz de dépôt réactif, une fenêtre de porte avec obturateur gravitationnel et éclairage de la chambre pour observer la progression du revêtement, des obturateurs pneumatiques pour la source et le substrat, des mécanismes de sécurité, des indicateurs d'état visuels et audio sous forme de voyants lumineux et d'alarmes. Le système comprend un écran tactile intégré de 15,5 pouces équipé d'une version de base non expirante du logiciel AutoExplor™, géré par un ordinateur Windows embarqué qui peut contrôler toutes les fonctions de la chambre et du processus de dépôt. Tous les composants électroniques sont certifiés UL pour l'Amérique du Nord. Le système est installé avec des modules de mesure de puissance de bobine de creuset apparente directe, de tension et de courant de charge et une unité d'affichage dans l'armoire inférieure. Le système peut vaporiser des matériaux organiques et organométalliques courants comme le PMMA, l'AIQ3, le CuPc, le MAI, le fullerène - C60 et les dérivés du pérylène comme le PTCDA et le PDI. Une variété de précurseurs à base organique pour le dépôt de matériaux diélectriques de SiO2, TiO2, Al2O3, GeO2 peuvent également être vaporisés. La chambre est pompée grossièrement par une pompe à spirale sèche Edwards nXDS20i et pompée finement par une pompe turbomoléculaire Pfeiffer HiPace 300 jusqu'à une pression de base de 3 x 10-7 Torr lorsqu'elle est correctement conditionnée. Avant le dépôt, les creusets peuvent être chauffés à 100 °C pour sécher les échantillons. Une cryopompe est installée pour piéger l'humidité. Chaque poche de creuset en céramique est enveloppée dans un serpentin chauffant doté d'un contrôleur de température PID pour garantir qu'aucune surchauffe de l'échantillon ne se produise. Nous pouvons personnaliser les recettes pour vos processus VLTE. Nous testons minutieusement vos processus avant l’expédition. Une formation en personne ou virtuelle du SOP est également proposée sur demande. Notre système est livré avec une garantie standard d’un an. Le délai de livraison est de 90 jours après confirmation du bon de commande. Évaporateur thermique organique ExploraVAC PVD VLTE : Chambre à vide en acier inoxydable soudée de 20 po entièrement fermée avec protections intérieures 6 creusets, 15,0 cc, capacité de charge de 10 cc Plage de température du creuset : 30 - 800 °C Compatible avec les creusets rotatifs en alumine, zircone, tungstène, graphite et quartz Support de substrat (personnalisé) Volets pneumatiques 2 capteurs QCM Radiateurs radiants à substrat (en option) Porte avec fenêtre de 6'' avec obturateur à gravité Fermeture de la porte avant à verrouillage rapide via la fenêtre Éclairage de la chambre à LED Écran tactile LCD de 15,5" Pompe à vide à défilement sec Edwards nXDS20i Pfeiffer HiPace Pompe Turbo 300 Mesure et affichage de la puissance apparente de la bobine du creuset Puissance maximale de la bobine - 160 W Contrôle de la température PID pour chaque creuset Indicateurs visuels et audio d'état de fonctionnement Mécanismes de sécurité intégrée Dépôt par évaporation thermique PVD PrésentationFigure 1. Schéma de principe de l'évaporation thermique du matériau cible dans un bateau pendant un Processus PVD. Le dépôt physique en phase vapeur par évaporation thermique (PVD) est une méthode simple utilisée pour déposer de fines couches de matériau sur des substrats dans un environnement sous vide. Des films métalliques et non métalliques peuvent être déposés par cette méthode. Au cours du processus de dépôt, un matériau est chauffé thermiquement jusqu'à ce qu'il fonde et se vaporise, puis la vapeur se décolle et se condense sur un substrat plus froid, formant un film mince. Certains matériaux comme le Cr se subliment simplement sans fondre, atteignant ainsi la pression de vapeur de dépôt optimale. Le libre parcours moyen des molécules de vapeur doit être suffisamment long pour éviter les collisions avec les gaz résiduels dans la chambre. Ceci est réalisé en s'assurant que la pression de base tombe en dessous d'un seuil calculé avant de lancer l'évaporation. Nos chambres sont pompées par les pompes turbomoléculaires Pfeiffer HiPace jusqu'à une température inférieure à 10-7 Torr en quelques minutes. À cette pression de gaz, le libre parcours moyen de la vapeur est augmenté au-delà de 40 pouces, ce qui est environ quatre fois supérieur au processus de dépôt. distance de projection. Cela garantit un dépôt efficace et sans contamination de nos systèmes. Un capteur QCM est un moniteur d'épaisseur de film commun intégré aux chambres PVD pour donner en permanence des informations sur le taux de dépôt et l'épaisseur du film. Principe du VLTE pour le dépôt de matières organiques L'évaporation thermique sous vide (VLTE) est une méthode utilisée pour déposer des films minces de matériaux sur des substrats sous vide à des températures relativement basses. Le matériau source est chauffé juste assez pour s’évaporer sans se décomposer ni réagir. Lorsqu’il s’agit de matières organiques, cette technique est particulièrement utile car de nombreux composés organiques sont sensibles aux températures élevées et peuvent se dégrader s’ils sont exposés à trop de chaleur. En VLTE, le matériau à déposer est chauffé dans un creuset sous vide jusqu'à ce qu'il s'évapore ou se sublime. Le matériau n’est pas en contact direct avec l’élément chauffant comme c’est le cas dans l’évaporation thermique classique. L'environnement sous vide réduit le point d'ébullition du matériau, lui permettant de s'évaporer à une température plus basse. Cette vapeur se condense ensuite sur le substrat, formant un film mince. Pour les matières organiques, ce processus est soigneusement contrôlé pour éviter la décomposition et garantir un film de haute qualité. La plage de températures de fonctionnement du procédé VTLE va jusqu'à environ 800 °C, au-dessus de laquelle la plupart des composés organiques thermiquement stables commencent à se décomposer, modifiant la structure chimique du revêtement du film, entraînant des défauts du film. Exemples de matériaux de revêtement à couche mince à base organique VLTE Figure 2. Le tris (quinoléin-8-olate) d'aluminium AlQ3AlQ3 est une poudre jaune avec un point de fusion de 410 à 430 °C. AlQ3 est couramment utilisé comme couche de transport d’électrons dans les OLED. Il facilite le transport des électrons de la cathode vers la couche émissive. AlQ3 peut également servir de matériau de couche émissive, où il émet de la lumière lors de la recombinaison d'électrons et de trous. Il émet généralement une lumière verte. Figure 3. Dérivés du pérylène Les dérivés du pérylène sont une classe de composés organiques dérivés du pérylène, souvent utilisés dans les systèmes photovoltaïques organiques et les photodétecteurs en raison de leurs excellentes propriétés de transport de charge et d'émission de lumière. Un exemple de dérivé du pérylène est le dianhydride de pérylène tétracarboxylique (PTCDA). Le PTCDA est une poudre rouge foncé avec un point de fusion de 403 °C. Il est utilisé dans les transistors à effet de champ organiques (OFET), les photovoltaïques organiques (OPV) et les diodes électroluminescentes organiques (OLED). Il présente une stabilité thermique élevée, une bonne mobilité électronique et une forte absorption dans le spectre visible. Utilisé pour donner du pigment rouge aux revêtements. Figure 4. Fullerène - C60Les fullerènes, par exemple C60, ont une couleur violet foncé et un point de fusion d'environ 600 °C (sublimes). Les fullerènes sont couramment utilisés comme accepteurs d'électrons dans les photovoltaïques organiques, les OPV. Ils acceptent les électrons du matériau donneur, facilitant ainsi une séparation et un transport efficaces des charges. Ils ont une affinité électronique et une mobilité élevées, ce qui améliore l’efficacité globale des cellules solaires. Le C60 est également largement utilisé dans la production de cellules solaires à pérovskite, de photodétecteurs, de diodes électroluminescentes organiques (OLED) et de transistors à effet de champ organiques (OFET). Figure 5. Polyméthacrylate de méthyle (PMMA)Le PMMA est un polymère thermoplastique transparent utilisé dans les revêtements optiques et comme matériau de réserve en lithographie, avec un point de fusion de 160 °C. Le PMMA est largement utilisé comme réserve positive en lithographie par faisceau d’électrons. Lorsqu'il est exposé à un faisceau d'électrons, le PMMA subit une scission de chaîne, rendant les zones exposées plus solubles dans une solution de développement. Cela permet la création de motifs haute résolution sur des substrats. Le PMMA peut être utilisé pour former des motifs sur des substrats par exposition à la lumière UV, suivie d'un développement pour éliminer les zones exposées. Il est également utilisé comme matériau diélectrique dans les dispositifs électroniques et optoélectroniques où le PMMA agit comme une couche isolante entre les couches ou composants conducteurs. Il présente l’avantage d’offrir une bonne isolation électrique et peut être déposé en couches fines et uniformes. Les excellentes propriétés de clarté optique et de transmission de la lumière du PMMA le rendent adapté aux revêtements optiques. Applications : Évaporation à basse température des matériaux organiques (VLTE) 1. Photovoltaïque organique (OPV) : des films minces organiques sont utilisés dans les cellules solaires pour absorber la lumière et la convertir en électricité. Le VLTE permet le dépôt précis de couches actives, améliorant ainsi l'efficacité de OPV. 2. Transistors organiques à couches minces (OTFT) : utilisés dans l'électronique flexible et les écrans. Le VLTE fournit des couches semi-conductrices organiques de haute qualité pour de meilleures performances de l'appareil.3. Capteurs : Les matériaux organiques peuvent être utilisés dans les capteurs chimiques et biologiques. Le VLTE permet le dépôt de films organiques sensibles qui peuvent interagir avec les analytes cibles.4. Lasers organiques : Développement de lasers à semi-conducteurs organiques destinés à être utilisés dans diverses applications optiques. Nécessite un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film organique, réalisable via VLTE.5. Diodes électroluminescentes organiques (OLED) : le VLTE est utilisé pour déposer des couches organiques dans les OLED, qui sont cruciales pour les écrans et l'éclairage. Il garantit des films minces uniformes nécessaires à une émission de lumière efficace et aux performances de l'appareil. La disposition des couches dans une simple OLED (diode électroluminescente organique) peut être décrite comme suit, de bas en haut : Figure 6. Structure de base de la diode électroluminescente organique Substrat : il est généralement constitué de verre ou d'un matériau plastique flexible, fournissant un support mécanique. pour l'OLED. Anode : Une couche transparente, généralement constituée d'oxyde d'indium et d'étain (ITO), qui laisse passer la lumière et injecte des porteurs de charge positive (trous) dans l'appareil. Hole Transport Layer (HTL) : Cette couche facilite le transport des trous de l'anode vers la couche émissive. Couche émissive (EML) : Le cœur de l'OLED où la lumière est générée. Cette couche contient les molécules organiques ou les polymères qui émettent de la lumière lorsqu'une tension est appliquée aux bornes des électrodes. Couche de transport d'électrons (ETL) : Cette couche facilite le transport des électrons de la cathode à la couche émissive. Cathode : Une couche métallique, généralement constituée de matériaux comme l'aluminium ou le calcium, qui injecte des électrons dans l'appareil. Les OLED (Organic Light Emitting Diodes) ont diverses applications en raison de leurs couleurs vives, de leur contraste élevé, de leur flexibilité et de leur efficacité énergétique. Les applications clés incluent : Écrans d'affichage : Smartphones : Écrans haut de gamme. Téléviseurs : qualité d'image supérieure. Appareils portables : montres intelligentes et trackers de fitness. Moniteurs : Travail visuel professionnel. Affichage numérique : publicité publique et affichage d'informations. Écrans flexibles : écrans pliables et enroulables. RésuméL'évaporation thermique sous vide est une technique essentielle pour le dépôt de films minces organiques, offrant des avantages en termes de contrôle de la température et d'uniformité du film. Il joue un rôle essentiel dans la production de dispositifs électroniques et optoélectroniques organiques avancés, malgré les défis liés à la sensibilité des matériaux et à la complexité des processus. Une optimisation et un contrôle appropriés des paramètres de dépôt sont essentiels pour obtenir des films de haute qualité et garantir les performances et la fiabilité des dispositifs à base organique.