Fuite calibrée de type capillaire VTI avec vanne de remplissage pouvant être cuite, réservoir de gaz xénon de 300 cc, sortie CF de 2,75 po et taux d'épuisement de 10 -7 atm cc/s, processus d'étalonnage traçable NIST Les sources de fuite calibrées utilisent une vanne unique dans laquelle l'ouverture et la fermeture sont quasi instantanées et n'emprisonnent pratiquement aucun gaz dans le mécanisme de la vanne, garantissant à l'utilisateur que la libération initiale de gaz est extrêmement proche du taux de fuite spécifié. De plus, un faible volume de gaz piégé signifie une durée de vie beaucoup plus longue du réservoir de gaz et moins de recharges au cours de vos tests. L'intégration du réservoir de gaz directement à la valve limite également les sources de fuite de gaz, améliorant encore la durée de vie du réservoir.
Le débit de gaz est régulé par un simple tube capillaire en acier inoxydable serti avec précision. En effet, cet orifice limitant la conductance limite le débit à un débit très faible mais mesurable. Les tubes capillaires en acier inoxydable sont préférés aux autres matériaux car ils sont robustes, relativement inertes et peuvent être isolés de manière fiable du réservoir sans utiliser de joints toriques en élastomère.
Les sources de fuites étalonnées sont largement utilisées pour vérifier le bon fonctionnement d'une variété de systèmes de détection de fuites, en particulier ceux utilisés dans la fabrication industrielle de nombreux composants mécaniques ou électroniques hermétiquement scellés. Par exemple, les compresseurs frigorifiques doivent subir des tests d'étanchéité conformément à des protocoles stricts ; une source de fuite étalonnée fournit une norme secondaire par rapport à laquelle vérifier que la technologie de test de fuite utilisée pour mesurer la fuite de ces compresseurs est conforme à des normes rigoureuses. D'autres scénarios pourraient inclure la vérification des tests de détecteurs de monoxyde de carbone ou tout processus dans lequel une concentration de gaz connue avec précision doit être injectée dans un flux de processus.