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Pompe à vide sèche Edwards iXH 100 HARSH 200-230 VAC 50/60 Hz 3 ph. Réf. AC010A121000

Condition:
  Nouveau
Numéro d'article:
  P1011390
Garantie:
  Full Manufacturer's Warranty

Disponible dès maintenant   3  

€31,923.18

Sur Vente: €23,942.39

Pompe à vide sèche Edwards iXH 100 HARSH 200-230 VAC 50/60 Hz 3 ph. Réf. AC010A121000 23942.39
Devise: Euro (Euro)

Description

Pompe à vide sèche Edwards iXH 100 HARSH 200-230 VAC 50/60 Hz 3 ph.
Numéro de pièce Edwards AC010A121000.

L'Edwards iXH 100 est une nouvelle gamme de pompes sèches conçues pour la fabrication écologique et le traitement de processus chimiques agressifs. Utilisant très peu d'énergie, le mécanisme de racines efficace a été développé pour réduire considérablement la puissance d'entrée à 1,3 kW, soit 60 % de moins que la génération précédente de pompes sèches, réduisant ainsi l'impact environnemental et le coût de possession. La technologie de barrière aux gaz et les améliorations de la conception thermique permettent une résistance à la corrosion quatre fois supérieure à celle des produits de la série iH. Les fonctionnalités avancées de manipulation de poudre signifient que l'iXH offrira une fiabilité maximale et une durée de vie prolongée de la pompe pour les processus de gravure multicouches ainsi qu'une consommation d'énergie réduite pour les processus CVD, en particulier avec les produits chimiques HARSH.

Les pompes Edwards iXH série 100 sont compactes et légères, combinées à un bruit et des vibrations exceptionnellement faibles, ce qui fait d'iXH la pompe chimique sèche la plus polyvalente de la gamme Edwards. iXH transformera vos attentes en matière de technologie de pompe à vide sèche, offrira de réels avantages et une disponibilité accrue, avec un impact environnemental minimal. Les pompes iXH sont conçues pour être utilisées dans la plupart des processus de semi-conducteurs tout en offrant des réductions significatives de la puissance d'entrée. Ce modèle N'A PAS de pompe soufflante d'appoint pour des performances accrues. Pour le manuel d’instructions complet, voir TÉLÉCHARGEMENTS.

Caractéristiques et avantages:
  • Principalement pour les applications chimiques DIFFICILES
  • Vitesse de pompage maximale 100 m3/h-1 (59 CFM)
  • Pression ultime 1,5 X 10-2 Torr
  • Aucun entretien préventif requis
  • Contient uniquement la pompe primaire
  • Remplissages d'eau à connexion rapide de 3/8 pouces
  • Moitiés d'accouplement de connexion d'eau et d'électricité
  • Système de refroidissement par eau SS
  • Module de gaz multimode 44 slm

APPLICATIONS:
  • Verrouillage de charge
  • Transfert
  • Météorologie
  • Lithographie
  • Processus PVD de dépôt physique en phase vapeur
  • Dépôt physique en phase vapeur Pré-nettoyage PVD
  • Recuit thermique rapide RTA
  • Bande/cendre
  • Gravure
  • Origine des implants
  • Dépôt chimique en phase vapeur par plasma haute densité HDP CVD
  • Traitement thermique rapide RTP
  • Dépôt chimique en phase vapeur sous-atmosphérique SACVD
  • Dépôt chimique en phase vapeur de tungstène WCVD
  • Dépôt chimique en phase vapeur modifié MCVD
  • Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma PECVD
  • Dépôt chimique en phase vapeur basse pression LPCVD


Brochure

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5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, Nouveau Mexique 87109-5805 USA

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Fax: (505) 872-9001
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