Atomic Layer Deposition (ALD) Liquid Precursor Vapor Delivery Cylinder System, acciaio inossidabile 304L, cilindro DOT-3E-1800 150cm3

L'erogazione controllata di vapore in fase gassosa da un precursore liquido è necessaria nei processi di deposizione chimica in fase vapore (CVD), deposizione chimica in fase vapore metallorganica (MOCVD) e deposizione di strati atomici (ALD). Questi cilindri di erogazione di gas vapore liquido contengono un gorgogliatore integrato per aiutare a contenere il vapore precursore in un flusso di gas tampone. Questi cilindri di erogazione del vapore sono realizzati in acciaio inossidabile 316 resistente agli agenti chimici con valvole a sfera da ¼ di giro all'ingresso e allo scarico. La bombola è classificata per resistere a pressioni fino a 1800 PSI (@ 37°C).

La pressione massima nominale del cilindro varia in base alla temperatura. NON pressurizzare le bombole oltre i rispettivi limiti di temperatura

La direzione del flusso è stampata su ciascuna valvola, quando il gas tampone viene fatto scorrere nella direzione corretta verso il processo di deposizione, si formano bolle sul fondo del cilindro che salgono attraverso il liquido precursore. Ciò consente un flusso costante costante di vapore precursore diluito nel gas tampone, che è tipicamente elio, neon o argon. Queste bombole di gas per l'erogazione di vapore del precursore liquido possono essere riscaldate o fredde per controllare la tensione di vapore e la concentrazione del precursore. Ciò consente di generare un'accurata concentrazione del flusso.

Le valvole di ingresso e uscita sono valvole a sfera con raccordo Swagelok® da ¼ di pollice, non classificate per liquidi piroforici. Per l'applicazione ALD con liquidi piroforici altamente infiammabili, i nostri cilindri di erogazione sono aggiornati con valvole a diaframma per una maggiore sicurezza, diventando applicabili con liquidi piroforici, come trimetilalluminio (TMA), trietil alluminio (TEA), dietil zinco (DEZn) e trimetil gallio (TMGa).