Materiali PVD sotto vuoto ideale, pellet di afnio - Hf, purezza 99,95% (3N5), punto di fusione dell'afnio 2227 °C, dimensioni pellet 1 - 6 mm, 100 grammi, materiali per evaporazione termica, materiali per deposizione a fascio di elettroni, film sottili di metallo di afnio, numero di parte: P1013584
Prodotti per il vuoto ideali, LLC. Forniamo materiali di evaporazione PVD di alta qualità per i vostri processi.
Questo prodotto è una bottiglia da 100 grammi di pellet di afnio ad alta purezza (99,95%) di dimensioni 1 x 6 mm e spedito in bottiglie di plastica PET. Questi pezzi hanno una densità di 13,31 g/cc, un punto di fusione di 2.227 °C e una pressione di vapore di 10-4 Torr a 3.090 °C. Il suo coefficiente di espansione termica è 5,9 x 10-6/K e ha un rapporto Z di 0,36.
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Afnio
L'afnio è un materiale prezioso nelle applicazioni a film sottile grazie alle sue proprietà uniche, come l'elevato punto di fusione, l'eccellente resistenza alla corrosione e la capacità di formare ossidi stabili.
Applicazioni di film sottili di afnio- Elettronica e microelettronica: dielettrici di gate: l'ossido di afnio (HfO2) è ampiamente utilizzato nei moderni dispositivi semiconduttori come materiale dielettrico di gate ad alta k (alta costante dielettrica) nei transistor. Sostituisce il biossido di silicio (SiO2) nei nodi della tecnologia CMOS avanzata per ridurre le perdite di gate e consentire un'ulteriore miniaturizzazione dei componenti elettronici.
Condensatori: l'HfO2 viene utilizzato anche nei condensatori, dove la sua elevata costante dielettrica consente una maggiore capacità in un volume più piccolo, migliorando le prestazioni di vari dispositivi elettronici.
- Rivestimenti antiusura: applicazioni meccaniche: i film sottili di afnio vengono applicati come rivestimenti antiusura in componenti meccanici sottoposti a condizioni estreme. I film aiutano a prolungare la durata di questi componenti fornendo una superficie dura e durevole.
- Applicazioni nucleari: rivestimenti delle barre di controllo: le capacità di assorbimento dei neutroni dell'afnio lo rendono un materiale di scelta nei reattori nucleari, dove viene utilizzato nelle barre di controllo. Sottili pellicole di afnio o delle sue leghe vengono applicate alle barre di controllo per migliorarne le prestazioni e la durata.
- Applicazioni ottiche: strati ad alto indice: i film sottili di ossido di afnio sono utilizzati nei rivestimenti ottici, in particolare nei rivestimenti antiriflesso, negli specchi e nelle lenti. Il suo alto indice di rifrazione e la trasparenza nelle regioni del visibile e del vicino infrarosso lo rendono ideale per queste applicazioni.
Rivestimenti laser: l'HfO2 viene utilizzato nei rivestimenti per l'ottica laser grazie alla sua capacità di resistere a elevate potenze laser senza degradarsi, garantendo durata e prestazioni nei sistemi laser ad alta potenza.
La combinazione unica dell'afnio di elevata costante dielettrica, resistenza alla corrosione, elevato indice di rifrazione e stabilità in condizioni estreme lo rende un materiale altamente versatile nelle applicazioni a film sottile. È ampiamente utilizzato in elettronica, ottica, rivestimenti protettivi, tecnologia nucleare e catalisi, contribuendo in modo significativo ai progressi in questi campi.
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