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Pompa ionica VacIon miniaturizzata Agilent, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 pollici 90 gradi, tubo SS. Codice: 9130041
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Pompa ionica miniaturizzata VacIon Plus Agilent Varian, velocità di pompaggio 0,4 l/s, tubo in acciaio inossidabile con diametro esterno di 3/8 pollici e 90 gradi. PN: 9130041 Agilent offre un'ampia gamma di pompe ioniche di piccole dimensioni progettate appositamente per applicazioni con dispositivi elettronici e rivelatori. La pompa Vaclon in miniatura è una configurazione a diodi e fornisce circa 0,4 l/s di velocità di pompaggio dell'azoto. La miniatura Small VacIon ha un tubo in acciaio inossidabile a 90 gradi con diametro esterno di 3/8 pollici. Le pompe che vengono lavorate vengono cotte a 400 °C e pizzicate sotto vuoto, il che consente all'utente di verificare l'integrità del vuoto appena prima dell'uso. Le pompe non trattate sono testate per assenza di perdite di vuoto e corrente di dispersione minima. Di seguito è possibile scaricare in formato PDF i dati tecnici completi e la brochure dell'applicazione per la pompa Agilent Varian Miniature VacIon. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diode). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P106090



Prezzo: €778.88



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica VacIon miniaturizzata Agilent, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 in 180 gradi, acciaio inossidabile. Codice: 9130038
In magazzino
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Pompa ionica miniaturizzata Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 pollici 180 gradi, tubo in acciaio inossidabile. Agilent Varian Part Number 9130038 Agilent offre un'ampia gamma di pompe ioniche di piccole dimensioni progettate appositamente per applicazioni con dispositivi elettronici e rivelatori. La pompa Vaclon in miniatura è una configurazione a diodi e fornisce circa 0,4 l/s di velocità di pompaggio dell'azoto. La miniatura Small VacIon ha un tubo in acciaio inossidabile a 180 gradi con diametro esterno di 3/8 pollici. Le pompe che vengono lavorate vengono cotte a 400 °C e pizzicate sotto vuoto, il che consente all'utente di verificare l'integrità del vuoto appena prima dell'uso. Le pompe non trattate sono testate per assenza di perdite di vuoto e corrente di dispersione minima. Di seguito è possibile scaricare in formato PDF i dati tecnici completi e la brochure dell'applicazione per la pompa Agilent Varian Miniature VacIon. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diode). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Numero di parte: P106089



Prezzo: €823.05



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica miniaturizzata VacIon Plus Agilent Varian, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8", tubo in rame. Codice: 9130049
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Pompa ionica miniaturizzata VacIon Plus Agilent Varian, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8", tubo in rame. PN: 9130049 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV), alla pulizia, alla capacità di pompare diversi gas, alla lunga durata operativa, alla capacità di leggere la pressione del vuoto , e funzionamento esente da manutenzione e vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica miniaturizzata Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio di 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 in, tubo in rame. Il modello di pompa ionica Miniature VacIon Plus è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa Agilent Varian Miniature VacIon Ion ha il numero di parte Agilent Varian 9130049. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa Agilent Varian Miniature VacIon Ion. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P105760



Prezzo: €838.16



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica VacIon miniaturizzata Agilent, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 in 90 gradi, tubo in rame. Codice: 9130050
In magazzino
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Pompa ionica miniaturizzata VacIon Plus Agilent Varian, velocità di pompaggio 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 di pollice 90 gradi, tubo in rame. Agilent Varian Part Number 9130050 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle loro elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV), alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, lunga vita operativa, capacità di leggere pressione del vuoto e funzionamento senza vibrazioni e senza manutenzione. Qui offriamo la pompa ionica miniaturizzata Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio di 0,4 l/s, diametro esterno 3/8 in, tubo in rame. Il modello di pompa ionica Miniature VacIon Plus è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa Agilent Varian Miniature VacIon Ion ha il numero di parte Agilent Varian 9130050. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa Agilent Varian Miniature VacIon Ion. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultra pulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta ben prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della deformazione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Numero di parte: P106088



Prezzo: €916.76



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 3/4 in OD 180 gradi, SS PN: 9190521
In magazzino
7


Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, diametro esterno 3/4 pollici 180 gradi, tubo in acciaio inossidabile. Agilent Varian Part Number 9190521 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle sue elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV). Sono puliti, hanno la capacità di pompare diversi gas, hanno una lunga vita operativa, possono leggere la pressione del vuoto, non richiedono manutenzione e funzionano senza vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 3/4 in OD 180 gradi, tubo in acciaio inossidabile. Il modello con pompa ionica VacIon Plus da 2 l/s è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa ionica Agilent Varian VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9130521. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa ionica Agilent Varian 2 l/s VacIon. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Numero di parte: P106092



Prezzo: €926.97



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 1-1/3 in. CFF 180 gradi. Codice: 9190520
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Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 1-1/3 pollici CFF 180 gradi. Agilent Varian Part Number 9190520 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top della gamma grazie alle sue elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV). Sono puliti, hanno la capacità di pompare diversi gas, hanno una lunga vita operativa, possono leggere la pressione del vuoto, non richiedono manutenzione e funzionano senza vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, tubo in rame CFF Conflat da 1,33 pollici. Il modello con pompa ionica VacIon Plus da 2 l/s è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa ionica Agilent Varian VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9190520. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa ionica Agilent Varian 2 l/s VacIon. Funzionamento delle pompe ionicheLe pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe VacIon Plus FamilyIon sono comunemente utilizzate per creare Ultra High Vacuum (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon PlusLa versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon PlusL'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon PlusL'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon PlusVelocità di pompaggioIl parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering di materiale catodico mediante bombardamento ionico.• L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo.• Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa.• La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo.DurataQuando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulita e la sua riemissione di gas è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. IdrogenoL'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. MetanoSebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti "getterizzati" più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, è necessario ridurre al minimo il degassamento sia della camera che della pompa. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativaTutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P106093



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Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 3/4 in OD 180 gradi. SS. Codice: 9190523
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Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, tubo in acciaio inossidabile con diametro esterno di 3/4 (0,75) a 180 gradi. PN: 9190523 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV), alla pulizia, alla capacità di pompare diversi gas, alla lunga durata operativa, alla capacità di leggere la pressione del vuoto , e funzionamento esente da manutenzione e vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica Agilent Varian Small VacIon 2 l/s. Il piccolo VacIon ha un tubo in acciaio inossidabile da 3/4 (0,75) di diametro esterno a 180 gradi. Il modello da 2 l/s è una configurazione del diodo modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. I dati tecnici completi e la brochure applicativa per la pompa ionica Agilent Varian Small VacIon possono essere scaricati in formato PDF di seguito. Questa pompa ionica Agilent Varian Small VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9190523. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano in base al mantenimento di una densità di gas inferiore a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 0,75 in OD 180 gradi. Codice: 9190522
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Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, diametro esterno 3/4 pollici 180 gradi, tubo in rame. Agilent Varian Part Number 9190522 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle sue elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV). Sono puliti, hanno la capacità di pompare diversi gas, hanno una lunga vita operativa, possono leggere la pressione del vuoto, non richiedono manutenzione e funzionano senza vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, 3/4 in OD 180 gradi, tubo di rame. Il modello con pompa ionica VacIon Plus da 2 l/s è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa ionica Agilent Varian VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9130522. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa ionica Agilent Varian 2 l/s VacIon. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta ben prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Numero di parte: P105788



Prezzo: €1,260.91



Valuta: Euro (Euro)

Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon, velocità di pompaggio 2 l/s, 3/4 in OD 90 gradi, tipo TEE, tubo SS. Codice: 9190524
In magazzino
1


Pompa ionica Agilent Varian Small VacIon, tipo TEE, velocità di pompaggio 2 l/s, diametro esterno 3/4 pollici 90 gradi, tubo SS. Agilent Varian Part Number 9190524 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top della gamma grazie alle sue elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV). Sono puliti, hanno la capacità di pompare diversi gas, hanno una lunga vita operativa, possono leggere la pressione del vuoto, non richiedono manutenzione e funzionano senza vibrazioni. Qui offriamo la pompa ionica Agilent Varian VacIon Plus, velocità di pompaggio 2 l/s, TEE Style 3/4 in OD 180 gradi, tubo SS. Il modello con pompa ionica VacIon Plus da 2 l/s è una configurazione a diodi modificata per migliorare l'avviamento a bassa pressione. Questa pompa ionica Agilent Varian VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9190524. È possibile scaricare in formato PDF a lato una brochure completa dei dati tecnici e dell'applicazione per la pompa ionica Agilent Varian 2 l/s VacIon. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore al loro interno rispetto a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe ioniche della famiglia VacIon Plus sono comunemente utilizzate per creare l'Ultra Alto Vuoto (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon Plus La versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon Plus L'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon Plus L'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon Plus Velocità di pompaggio Il parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering del materiale catodico mediante bombardamento ionico. • L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo. • Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa. • La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo. Durata Quando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulito e la riemissione di gas da esso è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas Attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. Idrogeno L'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. Metano Sebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti getterati più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, sia il degassamento della camera che quello della pompa devono essere ridotti al minimo. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativa Tutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P106091



Prezzo: €1,185.19



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Gruppo Agilent Varian MAGNET Pole Piece per pompa ionica VacIon piccola da 2 l/s. Codice: 9190038
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Gruppo Agilent Varian MAGNET Pole Piece per pompa ionica VacIon piccola da 2 l/s. PN: 9190038 La serie di pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus è il top di gamma grazie alle elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV), alla pulizia, alla capacità di pompare diversi gas, alla lunga durata operativa, alla capacità di leggere la pressione del vuoto e funzionamento esente da manutenzione e vibrazioni. Qui offriamo il gruppo Agilent Varian MAGNET Pole Piece per pompa ionica VacIon piccola da 2 l/s. I dati tecnici completi e la brochure applicativa per la pompa ionica Agilent Varian Small VacIon possono essere scaricati in formato PDF di seguito. Questo gruppo Agilent Varian MAGNET Pole Piece ha il numero di parte Agilent Varian 9190038.

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P105790



Prezzo: €489.98



Valuta: Euro (Euro)

Cavo riscaldabile Agilent Varian HV per pompe ioniche VacIon da 2 l/s, connettore King HV, 13 ft, PN 9290706
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1


Cavo riscaldabile Agilent Varian HV per pompa ionica da 2 l/s, resistente alle radiazioni, con connettore King HV, lungo 4 m, con interblocco. Agilent Varian Part Number 9290706. Questi cavi HV ad alta tensione per pompa ionica Agilent Varian sono per piccole pompe ioniche VacIon 2 l/s. Questi cavi hanno il connettore King HV progettato per funzionare con alcuni modelli selezionati di controller per pompa ionica MiniVac (Controller MiniVac con connettore King HV, vedere gli accessori opzionali di seguito). Questi cavi per pompa ionica ad alta tensione sono resistenti alle radiazioni, dispongono di un blocco di sicurezza ad alta tensione integrato e hanno il numero di parte Agilent Varian 929-0706, 9290706 e sono lunghi 13 piedi.

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P105770



Prezzo: €873.04



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Pompa ionica VacIon Agilent Varian 10 l/s, diodo per gas nobile CFF da 2 3/4 in. Codice: 9195005
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1


Pompa ionica VacIon Agilent Varian 10 l/s, 2 3/4 poll. 2,75 CFF diodo per gas nobile. Agilent Varian Part Number 9195005 Agilent offre un'ampia gamma di pompe ioniche di piccole dimensioni progettate appositamente per applicazioni con dispositivi elettronici e rivelatori. La piccola pompa trattata con Vaclon fornisce circa 10 l/s di velocità di pompaggio dell'azoto, con una pompa Conflat da 2-3/4 pollici CFF, 2,75 pollici. Il modello da 10 l/s è una configurazione a diodi ottimizzata per gas nobili con elevata efficienza per gas residui come l'idrogeno. La velocità di pompaggio per i gas nobili è circa il 20 percento della velocità nominale. Questa pompa viene lavorata e cotta a 400 °C e pizzicata sotto vuoto, il che consente all'utente di verificare l'integrità del vuoto appena prima dell'uso. I dati tecnici completi e la brochure applicativa per la pompa ionica Agilent Varian Small VacIon possono essere scaricati in formato PDF di seguito. Questa pompa ionica Agilent Varian Small VacIon ha il numero di parte Agilent Varian 9195005. Funzionamento delle pompe ioniche Le pompe per vuoto in generale funzionano sulla base del mantenimento di una densità di gas inferiore a quella esistente nell'ambiente che stanno pompando. Ciò si traduce in una migrazione netta di gas nella pompa a causa del movimento casuale delle molecole in condizioni di flusso molecolare. Una volta nelle pompe, pochi scappano e vengono spostati o catturati, a seconda del tipo di pompa. Piuttosto che essere una pompa volumetrica che sposta effettivamente le molecole di gas attraverso di essa nell'atmosfera, la pompa ionica invece le cattura e le immagazzina. Di conseguenza, a un certo punto la pompa deve essere ricondizionata o sostituita. Questo è generalmente richiesto solo dopo molti anni di utilizzo. more info Il nome generico Sputter Ion Pump (o Ion Getter Pump) deriva dal fatto che alcune delle molecole di gas subiscono la ionizzazione e provocano lo sputtering dell'agente sputtering. Questo materiale reagisce chimicamente con i gas attivi formando composti stabili che si depositano sulle pareti interne della pompa. Il getter, solitamente titanio, è fornito da una piastra o elettrodo di quel materiale, che a sua volta viene spruzzato ed eroso da ioni gas formati sotto l'influenza dell'alta tensione. Questi potenziali elettrici sono generalmente compresi tra 3.000 e 7.000 V CC. Un circuito magnetico permanente esterno genera un campo magnetico, solitamente compreso tra 800 e 2.000 G, parallelo all'asse della cella anodica. La funzione della struttura della cella anodica è quella di contenere una "nuvola" di elettroni ad alta energia che sono vincolati dal campo magnetico. La maggior parte dei dispositivi di ionizzazione funziona allo stesso modo. Le molecole di gas vengono bombardate da elettroni ad alta energia quando si verifica una collisione. Una molecola può perdere uno o più dei propri elettroni e quindi rimanere come uno ione caricato positivamente. Sotto l'influenza di un forte campo elettrico, lo ione viene accelerato nel catodo di titanio. La forza di questa collisione è sufficiente a far sì che gli atomi vengano espulsi dal catodo e "sputterati" sulle pareti adiacenti della pompa. Il titanio appena polverizzato è estremamente reattivo e reagirà chimicamente con i gas attivi. I composti risultanti si accumulano sulle superfici degli elementi della pompa e sulle pareti della pompa. I gas attivi sono quelli come ossigeno, azoto, CO, CO2 e acqua, al contrario dei gas nobili come elio, neon, argon, krypton e xeno, che non sono reattivi. Questi ultimi sono pompati mediante "sepoltura ionica" (la sepoltura ionica è il "rivestimento" degli atomi di gas inerte da parte degli atomi getter spruzzati). La capacità di leggere le pressioni utilizzando una pompa ionica è dovuta alla proporzionalità diretta tra la corrente della pompa e la pressione di esercizio. L'affidabilità delle letture della pressione a pressioni molto basse è limitata dalla corrente di dispersione e la corrente di dispersione dall'emissione di campo dipende fortemente dalla tensione applicata alla pompa. Il controller doppio, progettato per l'uso con qualsiasi pompa VacIon Plus, offre l'esclusiva capacità di regolare la tensione in base alla pressione di esercizio. In questo modo, la corrente di dispersione viene ridotta al minimo a bassa pressione, fornendo una lettura affidabile della pressione fino all'intervallo di 10-10 mbar. Le pompe VacIon Plus FamilyIon sono comunemente utilizzate per creare Ultra High Vacuum (UHV), grazie alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, insieme al funzionamento senza manutenzione e senza vibrazioni. La lunga durata operativa e la capacità di leggere la pressione sono altre caratteristiche importanti delle pompe ioniche. La famiglia VacIon Plus è stata progettata per migliorare tutte queste caratteristiche e offre quindi la soluzione più avanzata e preziosa per qualsiasi esigenza di pompaggio di ioni. In generale, tutte le pompe ioniche possono pompare tutti i gas in una certa misura. Per ottenere le migliori prestazioni e pressione di base, sono stati sviluppati diversi tipi di pompe ioniche con prestazioni ottimizzate in diversi intervalli di pressione e con diversi gas. VacIon Plus di Agilent Varian è una famiglia di prodotti completa che offre la scelta tra tre diversi elementi: diodo, diodo nobile e StarCell. Qualunque sia l'applicazione, c'è una pompa VacIon Plus progettata per questo. Diodo VacIon PlusLa versione a diodo della pompa VacIon Plus ha la più alta velocità di pompaggio tra tutte le pompe ioniche per ossigeno (O2), azoto (N2), anidride carbonica (CO2), monossido di carbonio (CO) e qualsiasi altro gas accumulabile. Fornisce la velocità e la capacità di pompaggio più elevate anche per l'idrogeno (H2). La sua semplice struttura meccanica consente una lettura affidabile della corrente/pressione fino a pressioni molto basse, nonché un funzionamento assolutamente privo di vibrazioni. La sua configurazione geometrica ed elettrica ne consente l'utilizzo in prossimità di rivelatori di elettroni o dispositivi simili. Le pompe Diode VacIon Plus sono quindi ampiamente utilizzate con successo nei sistemi UHV generici, per l'evacuazione di dispositivi elettronici e nei microscopi elettronici più sensibili. Tuttavia, i diodi non sono consigliati per applicazioni in cui devono essere pompati gas nobili come argon (Ar), elio (He) e metano (CH4). Noble Diode VacIon PlusL'elemento Noble Diode VacIon Plus è una versione dell'elemento diodo, in cui un catodo di tantalio viene sostituito al posto di un catodo di titanio. Questa sostituzione consente una maggiore velocità di pompaggio e stabilità per il pompaggio di gas nobili (principalmente argon ed elio). L'elemento è altrimenti equivalente al Diode VacIon Plus. Le pompe Noble Diode VacIon Plus sono utilizzate in qualsiasi applicazione in cui il pompaggio di gas nobili è una caratteristica importante. Come per la configurazione a diodo, il Noble Diode mantiene una velocità di pompaggio costante per tutti i gas a pressioni molto basse. Tuttavia, la velocità di pompaggio per H2 e gas raccolti è inferiore a quella delle corrispondenti pompe a diodi. Il Noble Diode VacIon Plus viene tipicamente utilizzato nelle applicazioni UHV in cui deve essere pompata una miscela di gas e dove la pressione è abbastanza costante (ovvero, nessuna esplosione improvvisa di gas o cicli sistematici ad alta pressione). Le sue caratteristiche di velocità costante per quasi tutti i gas anche a pressioni molto basse lo rendono ideale ogni volta che si utilizza la sola pompa ionica per ottenere pressioni UHV. Questa è spesso la situazione negli acceleratori di particelle o negli anelli di sincrotrone, così come nelle applicazioni di analisi delle superfici. Altre versioni di VacIon Plus sono consigliate ogni volta che l'applicazione richiede cicli a pressioni più elevate, pompaggio di grandi quantità di H2 o quando la pompa ionica è combinata con altre pompe UHV come pompe a sublimazione di titanio o getter non evaporabili. StarCell VacIon PlusL'elemento StarCell VacIon Plus è l'ultima variante della configurazione Triode. Il suo design brevettato rende questa pompa ionica l'unica in grado di gestire un'elevata quantità di gas nobili (meglio del Noble Diode) e idrogeno (paragonabile al Diodo). Inoltre, questa pompa fornisce la massima velocità e capacità per metano, argon ed elio. La sua elevata capacità totale per tutti i diversi gas, unita alle ottime prestazioni di velocità a pressioni relativamente più elevate, rende lo StarCell VacIon Plus ideale per applicazioni che richiedono un funzionamento costante a 10-8 mbar o superiore. Ciò include in genere microscopi elettronici e spettrometri di massa. La sua elevata velocità di pompaggio per argon, elio e metano (la più alta di qualsiasi pompa ionica a qualsiasi pressione) ha reso StarCell lo standard per qualsiasi applicazione in cui la pompa ionica viene utilizzata in combinazione con pompe a sublimazione di titanio (TSP) o getter non evaporabili (NEG), dove le sue prestazioni di pompaggio sono migliorate. La pressione più bassa raggiungibile è stata ottenuta con combinazioni di pompe StarCell VacIon Plus e TSP/NEG, grazie alle caratteristiche ottimizzate di queste combinazioni. La maggior parte degli acceleratori di particelle esistenti e delle sorgenti di sincrotrone, linee di fascio, linee di trasferimento e dispositivi simili hanno utilizzato e stanno utilizzando con successo queste combinazioni per ottenere la velocità massima per tutte le specie di gas. riduci le informazioni Panoramica di VacIon PlusVelocità di pompaggioIl parametro più comune utilizzato per esprimere la capacità di una pompa di rimuovere le molecole da un dato volume è la velocità di pompaggio. Solitamente si misura in litri al secondo ed esprime il volume di gas (a una data pressione) rimosso per unità di tempo. In una pompa ionica l'effetto di pompaggio netto risulta dalla somma di diversi fenomeni: maggiori informazioni • L'azione di pompaggio del film getter prodotto dallo sputtering di materiale catodico mediante bombardamento ionico.• L'azione di pompaggio dovuta all'impianto e diffusione di ioni nel catodo.• Interramento di gas sugli anodi e sulle pareti della pompa.• La riemissione di gas dal catodo a causa del riscaldamento e dell'erosione del catodo.DurataQuando una pompa ionica è nuova o è stata rigenerata, ad esempio mediante cottura, lo strato superficiale del catodo è pulita e la sua riemissione di gas è trascurabile. In questa condizione la pompa ionica è detta “insatura” e l'effetto di pompaggio è dovuto sia all'effetto di gattering che all'impianto e diffusione ionica. All'aumentare del numero di molecole di gas impiantate nel catodo, aumenta la loro riemissione dovuta al bombardamento ionico. Di conseguenza, la velocità netta di pompaggio diminuisce fino al raggiungimento di una condizione di equilibrio tra impiantazione ionica e riemissione di gas. In questa condizione la pompa ionica è “satura” e la velocità netta di pompaggio, dovuta alla sola azione gettering del materiale spruzzato dal catodo, è circa la metà della velocità di pompaggio della pompa insatura. Poiché l'effetto di saturazione dipende dalla quantità di molecole di gas impiantate nel catodo, il tempo necessario per saturare una pompa ionica è inversamente proporzionale alla pressione alla quale la pompa viene azionata. Pertanto, minore è la pressione, maggiore è il tempo prima che si verifichi la saturazione della pompa. In un sistema UHV pompato a ioni con una corretta procedura di preriscaldamento (e conseguente rigenerazione della pompa), è possibile una pressione nell'intervallo 10-11 mbar. A questa pressione, la pompa ionica lavorerà ai valori di velocità di pompaggio più elevati (insaturi) per alcuni anni prima di essere saturata. Gas attivi (N2, 02, CO, CO2...) Una caratteristica di questi gas è la loro capacità di reagire facilmente con la maggior parte dei metalli formando composti stabili. In una pompa ionica, queste molecole di gas attivo reagiscono con il film di titanio fresco prodotto dallo sputtering del materiale del catodo. Queste molecole di gas attive non si diffondono in profondità nel catodo. L'effetto di saturazione, dovuto alla riemissione di queste molecole intrappolate sulla superficie del catodo, è molto forte. Gli elementi Diode e Noble Diode mostrano una maggiore velocità di pompaggio a bassa pressione, mentre gli elementi StarCell funzionano meglio a pressioni più elevate. IdrogenoL'idrogeno è un gas attivo ma, a causa della sua massa molto piccola, il tasso di sputtering è molto basso. Nonostante ciò, la velocità di pompaggio dell'H2 è molto elevata perché diffonde rapidamente nel catodo con riemissione trascurabile. Quando si pompa H2, la pompa ionica funziona sempre in condizioni insature. Di conseguenza, la velocità nominale per l'H2 è circa il doppio del valore corrispondente per l'azoto. Inoltre, se sono presenti tracce di gas più pesanti, l'aumento della velocità di sputtering produce una velocità di pompaggio dell'idrogeno ancora più elevata. L'elemento diodo mostra una velocità di pompaggio maggiore rispetto al diodo nobile poiché la solubilità di H2 nel catodo di tantalio è inferiore a quella di un catodo di titanio. Gli elementi StarCell combinano buone prestazioni a pressioni più elevate con una maggiore capacità per H2. Gas nobili (He, Ne, Ar, Kr e Xe) I gas nobili vengono pompati sepolti dal titanio. Gli ioni di gas nobili possono essere neutralizzati e dispersi dal catodo senza perdere la loro energia. Questi atomi neutri mantengono un'energia sufficiente per impiantarsi o attaccarsi all'anodo e alle pareti della pompa dove saranno sepolti dal titanio polverizzato e quindi pompati in modo permanente. Nella configurazione a diodi, la probabilità di neutralizzazione e retrodiffusione è molto piccola, quindi la velocità di pompaggio per i gas nobili è solo una piccola percentuale della velocità di pompaggio dell'N2. Inoltre, operando ad una pressione parziale di argon relativamente elevata (cioè superiore a 10-8 mbar), si osservano improvvisi picchi di pressione dovuti alla riemissione di argon temporaneamente impiantato nel catodo. Dopo che ciò si verifica, una pompa a diodi non è in grado di pompare più argon fino a quando la sua sorgente non viene arrestata. Questo fenomeno è noto come "instabilità dell'argon". Nell'elemento Noble Diode, un catodo di titanio viene sostituito con un catodo di tantalio. L'elevata massa nucleare del tantalio aumenta la probabilità di retrodiffusione e di conseguenza la velocità di pompaggio per i gas nobili. I migliori risultati in termini di velocità di pompaggio dei gas nobili si ottengono utilizzando la struttura a catodo aperto tipica degli elementi StarCell. In queste configurazioni, la struttura del catodo piatto è stata sostituita con una struttura che consente collisioni di striscio con gli ioni. Questi vengono neutralizzati e quindi dispersi in avanti verso la parete della pompa o l'anodo con una probabilità molto maggiore rispetto al caso del catodo piatto. Il risultato è una velocità di pompaggio per gas nobili fino al 60% di N2. Inoltre, grazie al design unico che consente un utilizzo ottimale di tutto il titanio disponibile, la vita operativa di una pompa StarCell è circa il 50% più lunga rispetto a tutte le altre pompe. MetanoSebbene il metano non sia un gas nobile, non reagisce con alcun materiale getter. È sempre presente in una certa misura nei sistemi UHV come prodotto di reazione di idrogeno e carbonio presenti nelle pareti del sistema a vuoto. Il metano è un problema particolare negli acceleratori di elettroni dove è la causa principale del decadimento del fascio. A causa della scarica di Penning nelle pompe ioniche, la molecola di metano (così come altre molecole di idrocarburi) viene spezzata e trasformata in composti "getterizzati" più piccoli (C, CH3, ... H). Il risultato è che la velocità di pompaggio per il metano e gli idrocarburi leggeri è sempre superiore alla velocità per l'N2. minimizza info Agilent Varian Qualità Produzione Pulizia Per raggiungere pressioni molto basse (ad es. 10-11 mbar) in qualsiasi sistema, è necessario ridurre al minimo il degassamento sia della camera che della pompa. Se non viene pulita correttamente, la stessa pompa ionica può essere una fonte di gas a UHV. Al fine di garantire la pulizia, le pompe VacIon Plus vengono lavorate in fabbrica ad alta temperatura in un vuoto ultrapulito per un completo degassamento del corpo e di tutti i componenti interni. La pulizia dell'elemento della pompa ionica è ancora più critica, a causa del continuo bombardamento catodico. Eventuali gas intrappolati sulla superficie o nella maggior parte del catodo verranno infine rilasciati. more info Ion Pump Outgassing Il sistema di degassamento della pompa ionica è un processo termico del corpo pompa, completamente controllato da computer ed in grado di fornire un collaudo finale automatico delle specifiche raggiunte dalla pompa. Il riscaldamento della pompa avviene in atmosfera controllata di azoto per proteggere dall'ossidazione il corpo esterno della pompa. Il sistema si basa sul principio del degasaggio termico delle superfici interne della pompa ionica attraverso il controllo del loro degassamento intrinseco. Pertanto la pressione, non il tempo, è il fattore trainante dell'intero processo. Il tempo di cottura dipende dalla pulizia interna dei componenti della pompa e tutte le pompe avranno, in questo modo, la stessa velocità di degassamento finale e pressione base. Al termine del processo termico, una volta raggiunta la temperatura ambiente, viene eseguito un RGA. L'analizzatore di gas, posto sul sistema del vuoto, fornisce lo spettro dei diversi gas degasati dalla pompa. Se H2 e gli altri picchi normalmente presenti in un sistema per vuoto ben cotto superano i livelli di accettazione, la pompa viene nuovamente cotta. In caso contrario, viene pizzicato e la sua pressione di base viene monitorata. La pressione di base viene valutata attraverso la lettura della corrente ionica. La diminuzione della corrente è monitorata dal computer e la pompa è pronta per essere spedita solo dopo aver raggiunto la corrente di base. Lunga durata operativaTutte le pompe VacIon Plus hanno una durata nominale superiore a molte migliaia di ore a una pressione di 1x10-6 mbar (50.000 ore per la pompa Diode e 80.000 ore per StarCell). Con molte pompe ioniche, la manutenzione può essere richiesta molto prima della durata nominale, a causa della metallizzazione degli isolanti o della distorsione dell'elemento pompante. Tutti gli elementi VacIon Plus sono progettati per ridurre al minimo la distorsione del catodo (anche dopo ripetuti riscaldi e avviamenti ad alta pressione) e gli isolatori sono protetti dal titanio polverizzato utilizzando un design a doppio rientro e uno schermo del cappuccio. minimizzare le informazioni

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Numero di parte: P106095



Prezzo: €1,763.61




Valuta: Euro (Euro)

Gruppo pezzo Agilent Varian MAGNET per pompa ionica VacIon da 10 l/s. Codice: 9110030
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1


Gruppo pezzo Agilent Varian MAGNET per pompe ioniche VacIon da 8 e 10 l/s. Agilent Varian Part Number 9110030 Le pompe ioniche Agilent Varian VacIon Plus sono il top di gamma grazie alle loro elevate prestazioni nella creazione di Ultra High Vacuum (UHV), alla loro pulizia, capacità di pompare diversi gas, lunga vita operativa, capacità di leggere pressione del vuoto e funzionamento senza vibrazioni e senza manutenzione. Qui offriamo il gruppo Agilent Varian MAGNET Piece per pompa ionica VacIon da 10 l/s. I dati tecnici completi e la brochure applicativa per la pompa ionica Agilent Varian VacIon possono essere scaricati in formato PDF di seguito. Questo gruppo Agilent Varian MAGNET Piece ha il numero parte Agilent Varian 9110030.

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Numero di parte: P105791



Prezzo: €892.80



Valuta: Euro (Euro)

Cavo Agilent Varian HV per pompe ioniche VacIon da 8 e 10 l/s, con connettore King HV, 10 ft. PN: 9240741
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1


Cavo Agilent Varian HV per pompe ioniche VacIon da 8 e 10 l/s, con connettore King HV, lungo 3 m (10 piedi). Numero parte Agilent: 9240741 924-0741 Questi cavi HV ad alta tensione per pompa ionica Agilent Varian sono per le pompe ioniche da 8 e 10 l/VacIon, questi cavi hanno il connettore King HV progettato per funzionare con alcuni modelli selezionati di MiniVac controller della pompa ionica (controller MiniVac con connettore King HV, vedere gli accessori opzionali di seguito). Questi cavi della pompa ionica ad alta tensione hanno il numero di parte Agilent Varian 9240741 924-0741 e sono lunghi 3 metri.

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P105772



Prezzo: €837.00



Valuta: Euro (Euro)

Agilent Varian MAGNET per pompa ionica VacIon miniaturizzata. Codice: 9130042
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1


Agilent Varian MAGNET per pompa ionica VacIon miniaturizzata. Numero parte Agilent Varian 9130042 Qui offriamo Agilent Varian MAGNET per le pompe ioniche miniaturizzate serie VacIon da 0,4 l/s. I dati tecnici completi e la brochure applicativa per la pompa ionica Agilent Varian Small VacIon possono essere scaricati in formato PDF di seguito. Questo Agilent Varian MAGNET ha il numero parte Agilent Varian 9130042.

Condizione: Nuovo



Numero di parte: P106094



Prezzo: €312.91



Valuta: Euro (Euro)

Cavo Agilent Varian HV per pompe miniaturizzate VacIon 0,4 l/s, connettore King HV, 8 ft, PN 9240122
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1


Cavo HV Agilent Varian per pompe ioniche miniaturizzate VacIon da 0,4 l/s, connettore King HV, lunghezza 8 piedi Numero parte Agilent Varian 9240122 hanno il connettore King HV progettato per funzionare con alcuni modelli selezionati di controller per pompa ionica MiniVac (controller MiniVac con connettore King HV, vedere gli accessori opzionali di seguito). Questi cavi della pompa ionica ad alta tensione hanno il numero di parte Agilent Varian 9240122 924-0122 e sono lunghi 2,4 metri.

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Numero di parte: P105771



Prezzo: €754.46



Valuta: Euro (Euro)
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