Target di sputtering magnetron circolare a vuoto ideale, TITANIO - Target di sputtering Ti, diametro 3'' x spessore 0,25", purezza 99,995 percento

Questo prodotto è un magnetron circolare TITANIO - bersaglio per sputtering Ti, con un diametro di 3'' x 0,25" di spessore. È puro al 99,995%.

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TITANIO - Ti

I target di sputtering in titanio (Ti) sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili grazie alle eccellenti proprietà meccaniche, chimiche e fisiche del titanio. Ecco un riepilogo dei target di sputtering in titanio nei film sottili:

1. Proprietà del materiale:
Elevato rapporto resistenza/peso: il titanio è noto per la sua leggerezza e l'elevata resistenza meccanica, che lo rendono ideale per pellicole sottili che richiedono durevolezza senza aggiungere massa significativa.
Resistenza alla corrosione: il titanio è altamente resistente alla corrosione, soprattutto in ambienti difficili come l'acqua di mare e le condizioni acide.
Biocompatibilità: il titanio è biocompatibile, il che lo rende adatto all'uso in dispositivi medici e rivestimenti biomedici.

2. Metodi di deposizione:
Sputtering DC: il titanio è un materiale conduttivo, pertanto lo sputtering magnetron DC è comunemente utilizzato per la deposizione efficiente di film sottili.
Sputtering RF: lo sputtering RF può essere utilizzato nei casi in cui è richiesta la sputtering reattiva o strutture a film sottile più complesse.
Sputtering reattivo: il titanio viene spesso polverizzato in presenza di gas reattivi (come ossigeno o azoto) per formare composti di titanio come il biossido di titanio (TiO2) e il nitruro di titanio (TiN).

3. Applicazioni:
Microelettronica: il titanio è utilizzato nelle barriere di diffusione, negli strati di adesione e nei contatti elettrici nei dispositivi semiconduttori. Forma pellicole sottili che aiutano a prevenire la diffusione del metallo nei circuiti integrati.
Rivestimenti ottici: il titanio è utilizzato nei rivestimenti ottici, in particolare nei rivestimenti antiriflesso, come strato protettivo durevole. Il biossido di titanio (TiO2) è un materiale ad alto indice di rifrazione spesso utilizzato nei rivestimenti ottici multistrato.
Rivestimenti protettivi: i film sottili di titanio sono comunemente utilizzati per rivestimenti resistenti alla corrosione e all'usura nei settori aerospaziale, automobilistico e chimico.
Applicazioni mediche: grazie alla sua biocompatibilità, il titanio viene utilizzato in pellicole sottili per impianti, protesi e dispositivi medici per migliorarne la durata e l'interazione con i tessuti biologici.
Catalisi: i film sottili a base di titanio (come TiO2) vengono utilizzati nella fotocatalisi, in particolare in applicazioni ambientali come la purificazione dell'aria e dell'acqua.

4. Proprietà della pellicola:
Resistenza meccanica: le pellicole di titanio sono note per la loro durevolezza e resistenza, offrendo resistenza all'usura e protezione meccanica.
Resistenza alla corrosione: le pellicole sottili di titanio sono altamente resistenti alla corrosione, il che le rende ideali per l'uso in ambienti marini e in altre condizioni chimiche aggressive.
Adesione: le pellicole sottili di titanio spesso fungono da strati adesivi per migliorare l'adesione di altri rivestimenti, soprattutto su materiali che naturalmente non aderiscono bene.
Proprietà ottiche: i film di biossido di titanio (TiO2), formati tramite sputtering reattivo, sono altamente trasparenti nello spettro visibile e hanno un elevato indice di rifrazione (~2,5), il che li rende adatti per rivestimenti ottici.

5. Deposizione reattiva:
Biossido di titanio (TiO2): formato tramite sputtering reattivo in un ambiente di ossigeno, il TiO2 è utilizzato nei rivestimenti ottici, nelle celle solari e nei fotocatalizzatori grazie alla sua trasparenza e all'elevato indice di rifrazione.
Nitruro di titanio (TiN): formato mediante polverizzazione di titanio in atmosfera di azoto, il TiN è utilizzato in rivestimenti duri, superfici resistenti all'usura e pellicole conduttive nella microelettronica.

6. Sfide:
Ossidazione: il titanio è reattivo e bisogna fare attenzione a controllare lo stato di ossidazione, soprattutto durante la deposizione in ambienti reattivi (ad esempio, formando TiO2 senza sovraossidare la pellicola).
Stress nelle pellicole: le pellicole sottili di titanio possono sviluppare stress interno durante la deposizione, che può influire sull'adesione della pellicola e sulle proprietà meccaniche.

Riepilogo:
I target di sputtering in titanio (Ti) sono ampiamente utilizzati nella microelettronica, nei rivestimenti ottici, negli strati protettivi e nei dispositivi medici grazie all'elevata resistenza, resistenza alla corrosione e biocompatibilità del titanio. Lo sputtering DC è comunemente utilizzato per la deposizione di titanio, mentre lo sputtering reattivo consente la formazione di composti di titanio come TiO2 e TiN, che hanno applicazioni in ottica, fotocatalisi e rivestimenti duri. I film sottili di titanio forniscono un'eccellente resistenza meccanica, resistenza alla corrosione e proprietà di adesione in un'ampia gamma di settori.

Note:
Si raccomanda di legare la piastra di supporto metallica o elastomerica per tutti i materiali target dielettrici perché questi materiali hanno caratteristiche che non sono adatte allo sputtering, come fragilità e bassa conduttività termica. Questi target sono più suscettibili allo shock termico a causa della loro bassa conduttività termica e quindi potrebbero richiedere specifiche procedure di rampa di aumento e diminuzione della potenza durante le fasi di avvio e arresto.