Target di sputtering magnetron circolare a vuoto ideale, target di sputtering NIOBIUM - Nb, diametro 3'' x spessore 0,25", purezza 99,95 percento

Questo prodotto è un bersaglio circolare per sputtering NIOBIUM - Nb magnetron, con un diametro di 3'' x uno spessore di 0,25". È puro al 99,95%.

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NIOBIO - Nb

I target di sputtering al niobio (Nb) sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili grazie alle proprietà elettriche, meccaniche e superconduttive uniche del niobio. Ecco un breve riassunto dei target di sputtering al niobio nei film sottili:

1. Proprietà del materiale:
Elevato punto di fusione: il niobio ha un elevato punto di fusione (~2477°C), il che lo rende adatto ad applicazioni ad alte temperature.
Resistenza alla corrosione: il niobio è resistente all'ossidazione e alla corrosione, soprattutto in ambienti acidi.
Superconduttività: il niobio è un materiale fondamentale nelle applicazioni superconduttive, in particolare per la sua elevata temperatura critica (Tc) e la capacità di trasportare grandi correnti superconduttrici.
Conduttività elettrica: il niobio è un materiale conduttivo, il che lo rende utile nelle applicazioni elettroniche ed elettriche a film sottile.

2. Metodi di deposizione:
Sputtering DC: poiché il niobio è conduttivo, viene comunemente utilizzato lo sputtering magnetron DC, che offre velocità di deposizione efficienti.
Sputtering RF: lo sputtering RF può essere utilizzato per applicazioni specializzate o insieme allo sputtering reattivo per formare composti di niobio.
Sputtering reattivo: il niobio può essere spruzzato in un'atmosfera reattiva (ad esempio con ossigeno o azoto) per formare ossido di niobio (Nb2O5) o nitruro di niobio (NbN) per applicazioni specifiche.

3. Applicazioni:
Film superconduttori: il niobio è un materiale fondamentale nei film superconduttori, utilizzati nei dispositivi superconduttori a interferenza quantistica (SQUID), nei circuiti superconduttori e negli acceleratori di particelle.
Microelettronica: i film sottili di niobio vengono utilizzati nei condensatori, nelle interconnessioni e come barriere di diffusione nella microelettronica grazie alla loro eccellente conduttività e stabilità.
Rivestimenti ottici: il niobio è utilizzato nei rivestimenti riflettenti e nei filtri ottici. Lo sputtering reattivo forma il pentossido di niobio (Nb2O5), che è utilizzato nei rivestimenti ottici ad alto indice.
Rivestimenti protettivi: la resistenza alla corrosione e all'ossidazione del niobio lo rendono utile per i rivestimenti protettivi nell'elaborazione chimica e nelle applicazioni ad alte prestazioni.
Nitruro di niobio (NbN): formato tramite sputtering reattivo, il NbN è utilizzato in pellicole superconduttrici, rivestimenti duri e strati resistenti all'usura.

4. Proprietà della pellicola:
Superconduttività: i film sottili di niobio mostrano superconduttività a basse temperature, rendendoli essenziali nell'informatica quantistica e nei circuiti superconduttori ad alte prestazioni.
Resistenza alla corrosione: le pellicole di niobio offrono un'eccellente protezione contro la corrosione, in particolare in ambienti aggressivi, rendendole utili come strati protettivi e barriera.
Proprietà ottiche: le pellicole di ossido di niobio (Nb2O5) hanno un elevato indice di rifrazione (~2,2) e vengono utilizzate nei rivestimenti ottici.
Resistenza meccanica: le pellicole di niobio sono resistenti e durevoli, il che le rende adatte ad applicazioni in cui è richiesta resistenza all'usura.

5. Deposizione reattiva:
Pentossido di niobio (Nb2O5): formato tramite sputtering reattivo con ossigeno, il Nb2O5 è utilizzato nei rivestimenti ottici, nei dielettrici e nei condensatori grazie alla sua elevata costante dielettrica e alla trasparenza ottica.
Nitruro di niobio (NbN): i film di NbN vengono utilizzati in applicazioni superconduttive, nonché nei rivestimenti duri per utensili da taglio e superfici resistenti all'usura.

6. Sfide:
Avvelenamento del bersaglio: nello sputtering reattivo può verificarsi un avvelenamento del bersaglio, in cui composti non metallici (ad esempio ossidi o nitruri) si formano sul bersaglio, riducendo l'efficienza dello sputtering.
Stress interno: le pellicole di niobio possono sviluppare stress interno durante la deposizione, che può influire sulle proprietà meccaniche e sull'aderenza della pellicola.

Riepilogo:
I target di sputtering di niobio (Nb) sono ampiamente utilizzati in film sottili per applicazioni in superconduttività, microelettronica, rivestimenti ottici e strati protettivi. Lo sputtering DC è comunemente utilizzato per depositare film sottili di niobio, mentre lo sputtering reattivo è utilizzato per formare composti di niobio come Nb2O5 (rivestimenti ottici, dielettrici) e NbN (film superconduttori, rivestimenti duri). I film sottili di niobio sono apprezzati per le loro proprietà superconduttive, resistenza alla corrosione e durata meccanica in vari settori.

Note:
Si raccomanda di legare la piastra di supporto metallica o elastomerica per tutti i materiali target dielettrici perché questi materiali hanno caratteristiche che non sono adatte allo sputtering, come fragilità e bassa conduttività termica. Questi target sono più suscettibili allo shock termico a causa della loro bassa conduttività termica e quindi potrebbero richiedere specifiche procedure di rampa di aumento e diminuzione della potenza durante le fasi di avvio e arresto.