Agilent Varian TwisTorr 404 FS ターボ分子真空ポンプ、ISO-100 入口フランジ、380 L/S 排気速度。 PN: X3511-64019

これらの Agilent Varian TwisTorr 404 FS ターボ分子真空ポンプは、ISO-100 吸気フランジを備えた空冷式で、特許取得済みの TwisTorr ドラッグ ステージを備えた Agilent フローティング サスペンションを備えています。これらの Agilent Varian TwisTorr 404 FS ターボ分子高真空ポンプは、新しく設計されたラビリンス Twistor ドラッグ ステージ技術や Agilent フローティング サスペンション (AFS)、最適化された熱設計マッピングなど、新しく改良された性能を備えています。 TwisTorr ドラッグ ステージは、水素やヘリウムなどの軽ガスの高い圧縮比を生み出し、高スループットと高いフォアライン圧力耐性を実現し、それによってより小型でより経済的な補助ポンプの使用を可能にします。これらの Agilent Varian 404 FS ターボ分子高真空ポンプは、ISO-100K 吸気フランジ、到達圧力 1x10-8 Torr (吸気 ISO センタリング リングのゴム製 O リング シールからのガス放出によって制限されます) を備え、 Agilent Varian 部品番号 X3511-64019。すべて金属で密閉されたコンフラット吸気ガスケットを備えたコンフラット バージョンは、正しく使用した場合、到達圧力が 1x10-10 Torr という真の超高真空ポンプです。必要なファン空冷キットは別売りです。

この技術により、エネルギー効率が高く、低い動作温度を維持するコンパクトなローター設計が実現します。 Agilent フローティング サスペンション システム (AFS) は、騒音と振動を低減し、最適なベアリング動作条件を確保して動作寿命を延ばし、システムのダウンタイムを最小限に抑え、長期間にわたって安定したポンプ性能を保証します。永続的な潤滑を備えた独自のセラミック ボール ベアリングにより、オイルやメンテナンスが不要になり、どの方向でもポンプを操作できます。これらの TwisTorr 404 FS ターボ ポンプには、ファン強制空冷または水冷のいずれかの冷却キットと、船外リモート ラックマウントまたはオンボード ポンプ側マウント コントローラーが必要です。これらはすべて Ideal Vacuum によって別売りされています。

Agilent ターボ ポンプは、実際のアプリケーションで最適なパフォーマンスを発揮できるように設計されており、ポンプ システムとマルチフロー ポンプの統合が含まれています。コンパクトなサイズのポンプは、スペース要件が厳しい業界のニーズを満たします。これらの新しい Agilent TwisTorr 404 FS ターボ ポンプは、メンテナンスを最小限またはまったく必要とせず、誤使用から保護します。これらのポンプは、長寿命、衝撃、振動、梱包、熱、騒音などのさまざまな品質および信頼性テストを通過します。

ISO-100K フランジを備えた Agilent Varian TwistTorr 404 FS ターボ ポンプは、窒素排気速度 380 l/s、KF-25 フォアライン フランジ、周囲動作温度 5 °C ～ +35 °C を備えています。これらの 404 FS ポンプの起動時間は 3 分、回転速度は最大 49500 rpm です。推奨するフォアライン ポンプは乾式 IDP-10、IDP-15、または湿式 DS-302 です。冷却要件は、条件が周囲温度 5 ～ 35 °C の場合の最小限の強制空冷、または水温 15 ～ 25 °C、100 l/h、最大水圧 75 psi の水冷です。

新しい Agilent Twistorr 404 FS は、幅広いアプリケーションに適したパフォーマンスと機能の融合を提供します。非常に汎用性の高いターボで、さまざまな分野で使用できます。

一般的なターボ ポンプの用途には次のものがあります。

• 質量分析法
• ガスクロマトグラフィー質量分析 (GC/MS)
• 液体クロマトグラフィー質量分析 (LC/MS)
• 誘導結合プラズマ質量分析 (ICP-MS)
• 飛行時間型質量分析法 (TOF)

研究開発における真空:

• 高エネルギー物理学
• 融合技術
• 一般的な UHV 研究
• シンクロトロン光源 粒子加速器

ナノテクノロジー機器:

• 電子顕微鏡法
• 走査型電子顕微鏡 (SEM)
• 透過型電子顕微鏡 (TEM)
• 集束イオンビームシステム (FIB)
• 表面分析
• 半導体製造

工業用真空処理:

• 薄膜堆積
• ガラスコーティング装置（建築用・自動車用ガラス、フラットパネルディスプレイ）
• 薄膜太陽電池の製造（太陽光発電）
• 光データメディア (CD、DVD、光磁気ディスク)
• 磁気記憶媒体
• 表面処理
• 光学コーティング (眼科用、精密オプトエレクトロニクス)
• フィルムまたはフォイルへのロール/ウェブコーティング

デバイスの処理:

• テレビおよびモニター受像管の製造
• ランプの避難（高速道路の照明、ビーマー）
• X線管と電子機器

一般的なプロセス:

• 真空炉
• 冶金