Pfeiffer HiPace 800 ターボ ポンプ Conflat 10.0 インチ インレット パッケージ TC 400 ドライブ ユニット OmniControl 400 および水冷キットとの取引

この Pfeiffer HiPace 800 ターボ ポンプ パッケージは、Conflat CF 10.0 インチ入口フランジを備えており、ポンプ速度は 790 リットル/秒 (l/s)、到達圧力は 3.5 x 10 ^-10 Torr で、水冷ユニットが事前に取り付けられています。ポンプには統合された TC 400 電子ポンプ ドライブ ユニットが搭載されています。このパッケージには、OmniControl 400 ディスプレイ コントロール ユニットと、大型 LED ディスプレイ付き電源 (AC 電源ケーブル付き) が含まれています。OmniControl 400 は、付属の 3 メートルの長さの電源接続を通じてポンプに電力を供給します。 RS485 通信ケーブル (部品番号 P1012287) を介してポンプと通信し、ポンプを制御します (部品番号 P1012287)。ポンプを破片から保護するために、細かいメッシュ (0.8 mm) スクリーン付きの破片ガードも付属しています。このパッケージには、粗引きポンプ、粗引きライン、真空チャンバー、圧力測定ゲージ、またはバルブは含まれていません。一部のアップグレードには、空冷キット、ソレノイド通気またはシールガスパージバルブが含まれる場合があります。これらのアイテムはすべて、 Ideal Vacuum によって別売りされています。

CF 10.0" フランジ付き HiPace 800 ターボ ポンプについて
Con flat 10.0 インチ フランジと KF-25 出口フランジを備えた Pfeiffer HiPace 800 ターボ分子高真空ポンプは、790 リットル/秒 (l/s) の排気速度と 3.5 x 10 ^-10 Torr の到達圧力を備えています。ポンプは任意の方向に取り付けることができます。最大 420 ワットの 48 VDC 入力電力が必要です。この Pfeiffer HiPace 800 ポンプには、ポンプの側面に統合された TC 400 ドライブ ユニットが付属しています。 TC 400 には、RS485 (M12) 通信ポート、リモート操作用の D-sub コネクタ、および 2 つの M12 アクセサリ ポート (空冷ファンまたはソレノイド バルブの制御用) があります。 CF 10.0 インチ入口および TC 400 ドライブ ユニットを備えたこの HiPace 800 ターボ ポンプには、水冷キットが標準で付属しており、Pfeiffer 部品番号 PM P04 301 です。

OmniControl 400 ドライブ コントロール ユニットについて
Pfeiffer OmniControl 400 ターボ ポンプ コントローラは、ベンチトップまたはラックに取り付けることができ、統合 TC 400 ドライブ ユニットを備えた Pfeiffer HiPace 700 および HiPace 800 ターボ ポンプを操作するように設計されています。 OmniControl 400 は、最大 400 ワットで 48 VDC を TC 400 電子ドライブ ユニットに供給し、ポンプに電力を供給します。 OmniControl 400 を TC 400 ドライブ ユニットに接続するには、個別の電源ケーブルと通信インターフェイス ケーブルが使用されます。 OmniControl 400 への入力電源は 115/230 VAC で、主電源入力用に標準の C14 背面取り付けソケットが提供されています。この OmniControl 400 ターボ ポンプ ディスプレイ コントロール ユニットおよび電源は、Pfeiffer 部品番号 PE D60 100 0 です。

水冷ユニットについて
水冷ユニットはあらかじめ取り付けられており、2本のバンジョーボルトでポンプの側面に取り付けられます。この水冷ブロックには、供給ホースと排出ホース (外径 8 mm プラスチック ホース) 用のプッシュフィット コネクタが付いています。ホース接続部のネジを外して取り外すと、統合された G 1/8 インチネジを使用できます。この水冷ユニットには Pfeiffer 部品番号 PM 026 068-T があります。

このパッケージ取引のアプリケーションには次のものが含まれます。

• 質量分析法
• ガスクロマトグラフィー質量分析 (GC/MS)
• 液体クロマトグラフィー質量分析 (LC/MS)
• 誘導結合プラズマ質量分析 (ICP-MS)
• 飛行時間型質量分析法 (TOF)

研究開発における真空:

• 高エネルギー物理学
• 融合技術
• 一般的な UHV 研究
• シンクロトロン光源 粒子加速器

ナノテクノロジー機器:

• 電子顕微鏡法
• 走査型電子顕微鏡 (SEM)
• 透過型電子顕微鏡 (TEM)
• 集束イオンビームシステム (FIB)
• 表面分析
• 半導体製造

工業用真空処理:

• 薄膜堆積:
• ガラスコーティング装置（建築用・自動車用ガラス、フラットパネルディスプレイ）
• 薄膜太陽電池の製造（太陽光発電）
• 光データメディア (CD、DVD、光磁気ディスク)
• 磁気記憶媒体
• 表面処理
• 光学コーティング (眼科用、精密オプトエレクトロニクス)
• フィルムまたはフォイルへのロール/ウェブコーティング

デバイスの処理:

• テレビおよびモニター受像管の製造
• ランプの避難（高速道路の照明、ビーマー）
• X線管と電子機器

一般的なプロセス:

• 真空炉
• 冶金

このパッケージ取引は、多くの個別の部品で構成されるキットとして在庫に保管されており、各部品は以下の「キット コンポーネントの入手可能性」セクションにリストされています。取扱説明書はダウンロードで入手できます。