Pfeiffer Vacuum ヘリウムスプレーピストル、R 1/4, Pfeiffer-Adixen 乾式多段ルーツ真空ポンプ, Pfeiffer Adixen 乾式多段ルーツ真空ポンプ,  PN  BG512125-T

これら Pfeiffer Vacuum ヘリウムスプレーピストル、R 1/4  部品番号がある BG512125-T, 新品で、フル装備です Pfeiffer Vacuum 保証。 Pfeiffer Adixen 中負荷 A3P シリーズ半導体ドライ真空ポンプは、実証済みの多段ルーツ技術に基づいています。ポンプ内部は耐腐食性ガス仕様です。このため、ポンプは中負荷プロセスにおいて高い信頼性を備えています。シリーズで利用可能な 3 つのモデルは幅広い排気速度を提供するため、半導体業界の中負荷真空ポンプのほとんどの要件をカバーします。 Pfeiffer Adixen A3P シリーズは、クリーン ルームでの操作に適しており、CE および Semi S2 規格に準拠しています。

ドライポンプは、中負荷プロセスでの用途における高い信頼性が特徴です。このシリーズのポンプには温度センサーと不活性ガスのフラッシングが備わっています。 Pfeiffer Adixen A3P シリーズのさらなる特徴は、低騒音放射と低振動レベルです。

Pfeiffer Adixen ADH、A4H、および A4X 過酷プロセス シリーズのドライ半導体真空ポンプは、半導体やコーティング産業などで使用される化学プロセスです。これらのプロセスは、主に攻撃的で腐食性の媒体が使用され、真空下で処理されるため、過酷です。これらの媒体には、プロセス システムの設計と品質に対して最も高い要件が求められます。典型的な過酷な作業プロセスには、エッチング、化学気相成長 (CVD)、原子層成長 (ALD)、および有機金属化学気相成長 (MOCVD) があります。

過酷な作業プロセスでは強力で腐食性の化学薬品が使用されるため、真空ポンプとコンポーネントは耐食性を備えていなければなりません。半導体およびコーティング産業の用途では、粉末の発生が頻繁に発生し、真空ポンプ内に蓄積する可能性があります。したがって、使用するプロセスポンプがこの量の粉末に適していることを確認する必要があります。ポンプ内の結露を最大限に回避するために、パージガスと高度な温度管理が組み合わせて使用されます。

これらに関する詳細情報Pfeiffer Vacuum ヘリウムスプレーピストル、R 1/4  以下のPDFカタログと資料をダウンロードしてご覧ください。 PDFを開くだけです 以下のカタログで、PDF 検索 (Ctrl F) を実行して、 BG512125-T.