理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、酸化ニオブ-Nb ₂ O ₅スパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.125インチ、純度99.995パーセント、OFHC銅バッキングプレートに金属結合

この製品は、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン酸化ニオブ - Nb ₂ O ₅スパッタリング ターゲットです。純度は 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。

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酸化ニオブ- Nb ₂ O ₅
酸化ニオブ (Nb ₂ O ₅ ) は、光学特性、誘電特性、触媒特性に優れているため、薄膜に有用な材料です。主な特性を以下にまとめます。1. 屈折率: 屈折率: 約 2.2 ～ 2.4 (550 nm 時) で、高屈折率材料です。屈折率が高いため、光学コーティング、特に反射防止コーティング、光学フィルター、導波管などの多層構造に最適です。

2. 光学的透明性：透過ウィンドウ：Nb2O5 は可視光線から赤外線範囲（約 400 nm ～ 5 µm）まで透明であるため、幅広い光学用途に適しています。レンズ、ミラー、フォトニック デバイスの光学コーティングによく使用されます。

3. 誘電特性: 高誘電率: Nb2O5 は誘電率が高く (20 ～ 40)、コンデンサ、メモリ デバイス、および高容量を必要とするその他の電子部品に適しています。また、薄膜トランジスタのゲート誘電体材料としても使用されます。

4. 化学的および熱的安定性: Nb2O5 は化学的に安定しており、腐食に耐性があります。高温下でも優れた安定性を発揮するため、厳しい環境で使用される薄膜用の信頼性の高い材料です。その熱的安定性により、高温にさらされる用途でも性能が保証されます。

5. 機械的特性: Nb2O5 は硬くて耐久性に優れており、薄膜コーティングに優れた機械的強度を提供するため、保護コーティングや耐摩耗層に適しています。

6. 堆積方法: Nb2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (ニオブ金属と酸素ガスを使用)、熱蒸着、電子ビーム蒸着など、さまざまな技術を使用して堆積できます。また、高精度の薄膜の場合は、原子層堆積 (ALD) によって堆積することもできます。

7. 用途: 光学コーティング: 高い屈折率と透明性により、反射防止コーティング、光学フィルター、導波管に使用されます。

マイクロエレクトロニクス: Nb2O5 は、コンデンサ、薄膜トランジスタ、および半導体デバイスの高誘電率誘電体材料として使用されます。

触媒作用: Nb2O5 は触媒特性でも知られており、光触媒や燃料電池などの用途に使用されます。

保護コーティング: 工業用途において優れた耐摩耗性と腐食保護を提供します。

概要:五酸化ニオブ (Nb2O5) は、優れた光学特性と誘電特性を備えた高屈折率材料であり、光学コーティングや電子アプリケーションでよく使用されます。化学的安定性、誘電率、高い透明性により、コンデンサ、反射防止コーティング、フォトニック デバイスなど、さまざまな薄膜アプリケーションに適しています。

注:
すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。