理想的な真空酸化ニオブ片 - Nb ₂ O ₅ 、100 グラム、99.9 パーセント純度、Nb ₂ O ₅融点 1485°C、1 - 10 mm 片、PVD 蒸発材料、酸化ニオブ誘電体薄膜

この製品は、100グラムの酸化ニオブ（Nb ₂ O ₅ ）片のボトルで、純度99.9％（3N）、Nb2O5融点1485℃、1～10mmの片のサイズで、PETプラスチックボトルで出荷されます。これらのペレットの密度は4.6g/cc、Z比は0.73です。

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酸化ニオブ
酸化ニオブ (Nb ₂ O ₅ ) は、ニオブと酸素からなる無機化合物です。通常は白色またはオフホワイトの粉末または結晶固体として現れ、高い屈折率、誘電特性、および化学的安定性で知られています。Nb ₂ O _{5 は}バンドギャップが広く、絶縁特性に優れているため、さまざまなハイテク用途で重宝されています。

酸化ニオブ (Nb ₂ O ₅ ) は、屈折率が高く、誘電特性が優れ、化学的に安定しているため、薄膜コーティングに広く使用されています。その汎用性により、光学、電子機器、エネルギーデバイスのさまざまな用途に適しています。

薄膜コーティングにおけるNb2O5の用途:
1. 高屈折率コーティング: Nb ₂ O ₅は屈折率が高く、光を正確に制御できるため、レンズ、ミラー、フィルターの光学コーティングに使用されます。反射防止コーティング、ビームスプリッター、干渉フィルターなどの多層光学スタックによく使用されます。
2. 導波路: Nb ₂ O ₅薄膜は、集積フォトニクスおよび光導波路に使用され、低い光損失で光の閉じ込めと伝送を可能にします。
3. 高誘電率誘電体層: 電子機器では、Nb ₂ O _{5 は}コンデンサ、トランジスタ、その他のマイクロ電子デバイスで高誘電率 (高誘電率) 材料として機能し、高い静電容量を提供し、漏れ電流を低減します。
4. 絶縁層: 集積回路、薄膜コンデンサ、DRAM デバイスの絶縁層として使用され、電気性能を向上させます。
5. 保護およびバリアコーティング: Nb ₂ O _{5 は}、半導体デバイスの保護および拡散バリア層として適用され、層間の混合を防ぎ、環境による劣化から保護します。
6. エレクトロクロミック薄膜: Nb ₂ O ₅はエレクトロクロミックデバイスやスマートウィンドウに組み込まれており、そのエレクトロクロミック特性により、電圧に応じて光学特性 (色や透明度など) を変更できます。
7. 透明導電膜（ドープした場合）：Nb ₂ O ₅は他の材料と組み合わせて、電気伝導性と光透過性を備えた光電子デバイス用の透明導電膜を形成するために使用できます。

酸化ニオブは、高い屈折率、誘電特性、化学的安定性を備えているため、光学、電子工学、エネルギー用途の薄膜コーティングに最適な材料です。高性能光学コーティング、誘電体層、エレクトロクロミック デバイスに使用されるため、高度な薄膜技術の重要な材料となっています。