Edwards iXH 610 HARSH 건식 진공 펌프 200-230VAC 50/60hz 3ph.
Edwards 부품 번호 AC110A121100. Edwards iXH 610은 친환경 제조 및 까다로운 화학 공정 처리를 위해 제작된 새로운 건식 펌프 제품군입니다. 매우 낮은 에너지를 사용하여 효율적인 루트 메커니즘이 개발되어 입력 전력을 이전 세대 건식 펌프보다 60% 낮은 1.3kW로 극적으로 줄여 환경에 미치는 영향을 줄이고 소유 비용을 낮춥니다. 가스 배리어 기술과 열 설계 개선으로 iH 시리즈 제품보다 내식성이 4배 향상되었습니다. 고급 파우더 처리 기능은 iXH가 다층 식각 공정에 대해 최대의 신뢰성과 펌프 수명 연장을 제공하고 특히 HARSH Chemicals의 CVD 공정에 대한 전력 소비 감소를 제공한다는 것을 의미합니다.
Edwards iXH 610 시리즈 펌프는 컴팩트하고 가벼운 디자인과 매우 낮은 소음 및 진동이 결합되어 iXH를 Edwards 제품군 중 가장 다용도가 뛰어난 화학 건식 펌프로 만들어줍니다. iXH는 건식 진공 펌프 기술에 대한 기대치를 변화시키고 환경에 미치는 영향을 최소화하면서 실질적인 이점과 가동 시간 증가를 제공합니다. iXH 펌프는 입력 전력을 크게 줄이면서 대부분의 반도체 공정에 사용하도록 설계되었습니다. 전체 사용 설명서를 보려면 다운로드를 참조하세요.
특징 및 이점:- 주로 HARSH 화학 응용 분야용
- 최고 펌핑 속도 665m3/h-1(391CFM)
- 최대 압력 3.7 X 10-3 Torr
- 예방적 유지보수가 필요하지 않습니다.
- 3/8인치 퀵 커넥트 물 충전재
- 물 및 전원 연결 결합 절반
- SS 수냉 시스템
- 다중 모드 44slm 가스 모듈
신청:- 로드락
- 옮기다
- 기상학
- 리소그래피
- 물리 기상 증착 PVD 공정
- 물리적 기상 증착 PVD 사전 세척
- 급속 열 어닐링 RTA
- 스트립/애싱
- 에칭
- 임플란트 소스
- 고밀도 플라즈마 화학 기상 증착 HDP CVD
- 급속열처리 RTP
- 대기압 이하 화학 기상 증착 SACVD
- 텅스텐 화학 기상 증착 WCVD
- 수정된 화학 기상 증착 MCVD
- 플라즈마 강화 화학 기상 증착 PECVD
- 저압 화학 기상 증착 LPCVD