Bomba de vácuo seco Edwards iXH 100 HARSH 200-230 VCA 50/60 hz 3 ph.
Número de peça Edwards AC010A121000. A Edwards iXH 100 é uma nova linha de bombas secas construídas para fabricação ecológica e processamento de processos químicos agressivos. Utilizando energia muito baixa, o eficiente mecanismo de raízes foi desenvolvido para reduzir drasticamente a potência de entrada para 1,3 kW, 60% inferior à geração anterior de bombas secas, reduzindo o impacto ambiental e diminuindo o custo de propriedade. A tecnologia de barreira de gás e as melhorias no design térmico permitem uma resistência à corrosão quatro vezes maior do que os produtos da Série iH. Os recursos avançados de manuseio de pó significam que o iXH proporcionará máxima confiabilidade e maior vida útil da bomba para processos de gravação multicamadas e consumo reduzido de energia para processos CVD, especialmente com produtos químicos HARSH.
As bombas Edwards série iXH 100 são compactas e de design leve, combinadas com ruído e vibração excepcionalmente baixos, tornando a iXH a bomba química seca mais versátil da linha Edwards. O iXH transformará suas expectativas em relação à tecnologia de bombas de vácuo secas, proporcionando benefícios reais e maior tempo de atividade, com impacto ambiental mínimo. As bombas iXH são projetadas para uso na maioria dos processos de semicondutores, proporcionando reduções significativas na potência de entrada. Este modelo NÃO possui bomba sopradora auxiliar para maior desempenho. Para obter o manual de instruções completo, consulte DOWNLOADS.
Características e benefícios:- Principalmente para aplicações químicas HARSH
- Velocidade máxima de bombeamento 100 m3/h-1 (59 CFM)
- Pressão final 1,5 X 10-2 Torr
- Não é necessária manutenção preventiva
- Contém apenas bomba primária
- Enchimentos de água de conexão rápida de 3/8 de polegada
- Metades de conexão de água e energia
- Sistema de resfriamento de água SS
- Módulo de gás multimodo 44 slm
FORMULÁRIOS:- Bloqueio de carga
- Transferir
- Meteorologia
- Litografia
- Processo PVD de Deposição Física de Vapor
- Deposição Física de Vapor PVD Pré-limpeza
- Recozimento térmico rápido RTA
- Tira/Cinza
- Gravura
- Fonte do Implante
- Deposição de vapor químico de plasma de alta densidade HDP CVD
- RTP de processamento térmico rápido
- Deposição Química Subatmosférica de Vapor SACVD
- Deposição de Vapor Químico de Tungstênio WCVD
- Deposição Química-Vapor Modificada MCVD
- Deposição de vapor químico aprimorada por plasma PECVD
- Deposição de Vapor Químico de Baixa Pressão LPCVD