Ideal Vacuum Peças de DIÓXIDO DE SILÍCIO IV, SiO ₂ , 100 gramas, 99,99 por cento de pureza, ponto de fusão de SiO ₂ 1610 °C, peças de 1 a 10 mm, materiais de evaporação PVD, filmes finos dielétricos de dióxido de silício

Este produto é uma garrafa de 100 gramas de pedaços de dióxido de silício de alta pureza - SiO ₂ , 99,99% puro, que têm 1 -110 mm de tamanho e são enviados em garrafas plásticas PET. Esses pellets têm uma densidade de 2,65 g/cc, um ponto de fusão de 1.610 °C e uma pressão de vapor de 10 ^-4 Torr a 1.025 °C. Tem uma razão Z de 0,68

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Dióxido de Silício
Dióxido de silício (SiO ₂ ), comumente conhecido como sílica, é um composto inorgânico composto de silício e oxigênio. É encontrado abundantemente na natureza como quartzo e é um componente importante da areia. O SiO ₂ é altamente valorizado por suas propriedades físicas e químicas, como sua dureza, estabilidade química e resistência térmica, tornando-o amplamente utilizado em várias indústrias.

O dióxido de silício (SiO ₂ ) é amplamente utilizado em revestimentos de filmes finos em várias indústrias devido à sua combinação única de propriedades ópticas, elétricas e químicas. Ele é valorizado principalmente por sua alta transparência, estabilidade térmica e capacidades de isolamento elétrico. Abaixo estão suas principais aplicações em filmes finos:

1. Revestimentos antirreflexos: O SiO ₂ é frequentemente usado em revestimentos antirreflexos multicamadas em lentes, espelhos e painéis de exibição devido ao seu baixo índice de refração e alta transparência óptica.
2. Filtros de interferência: usados em combinação com materiais de alto índice de refração para criar filtros de interferência e divisores de feixe para controle preciso da transmissão e reflexão da luz.
3. Guias de onda ópticos.
4. Revestimentos de superfície para células solares.
5. Passivação e Revestimentos Protetores.

A versatilidade do dióxido de silício em revestimentos de película fina decorre de sua transparência excepcional, isolamento elétrico e resistência química, tornando-o um material crucial em óptica, microeletrônica e aplicações de proteção.