Peças de SILICONE (tipo P) Ideal Vacuum - Si, 100 gramas, 99,999 por cento puro, dopado com boro, ponto de fusão 1.410 °C, peças de 1 a 10 mm, materiais de evaporação PVD, filmes finos de semicondutores de silício

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Este produto é uma garrafa de 100 gramas de peças de silício de alta pureza (tipo P) (99,999%) com tamanho de 1 a 10 mm e enviadas em garrafas plásticas PET. Essas peças têm uma densidade de 2,32 g/cc, um ponto de fusão de 1.410 °C e uma pressão de vapor de 10-4 Torr a 1.337 °C. Seu coeficiente de expansão térmica é 2,6 x 10-6/K e tem uma razão Z de 0,437.

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Silício (tipo P)
O silício tipo P é um material essencial usado em processos de Physical Vapor Deposition (PVD) devido às suas propriedades semicondutoras. A combinação de propriedades físicas, químicas, elétricas e térmicas do silício o torna um material indispensável na tecnologia e indústria modernas.
O silício tipo P é um tipo de material semicondutor que foi dopado com elementos que lhe fornecem portadores de carga positiva (buracos). Este tipo de silício é crucial em várias aplicações eletrônicas e fotovoltaicas devido à sua capacidade de conduzir eletricidade. Em aplicações de filme fino, o silício tipo P desempenha um papel fundamental, especialmente em células solares e transistores.

Elementos de dopagem: O silício tipo P é tipicamente dopado com elementos do Grupo III da tabela periódica, como boro, alumínio ou gálio. O boro é o dopante mais comumente usado.