Alvos de pulverização catódica circular de magnetron de vácuo ideal, alvo de pulverização catódica de NIÓBIO - NB, 3'' de diâmetro x 0,25" de espessura, 99,95 por cento de pureza

Este produto é um alvo de pulverização catódica de NIOBIUM - Nb de magnetron circular, com 3'' de diâmetro x 0,25" de espessura. É 99,95% puro.

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NIÓBIO - Nb

Alvos de pulverização catódica de nióbio (Nb) são amplamente usados em deposição de filme fino devido às propriedades elétricas, mecânicas e supercondutoras exclusivas do nióbio. Aqui está um resumo conciso de alvos de pulverização catódica de nióbio em filmes finos:

1. Propriedades do material:
Alto ponto de fusão: o nióbio tem um alto ponto de fusão (~2477°C), o que o torna adequado para aplicações de alta temperatura.
Resistência à corrosão: O nióbio é resistente à oxidação e corrosão, especialmente em ambientes ácidos.
Supercondutividade: O nióbio é um material essencial em aplicações supercondutoras, principalmente por sua alta temperatura crítica (Tc) e capacidade de transportar grandes correntes supercondutoras.
Condutividade elétrica: O nióbio é um material condutor, o que o torna útil em aplicações eletrônicas e elétricas de película fina.

2. Métodos de deposição:
Pulverização catódica CC: como o nióbio é condutor, a pulverização catódica magnetron CC é comumente usada, oferecendo taxas de deposição eficientes.
Pulverização catódica de RF: A pulverização catódica de RF pode ser usada para aplicações especializadas ou em conjunto com a pulverização catódica reativa para formar compostos de nióbio.
Pulverização catódica reativa: o nióbio pode ser pulverizado em uma atmosfera reativa (por exemplo, com oxigênio ou nitrogênio) para formar óxido de nióbio (Nb2O5) ou nitreto de nióbio (NbN) para aplicações específicas.

3. Aplicações:
Filmes supercondutores: O nióbio é um material essencial em filmes supercondutores, que são usados em dispositivos de interferência quântica supercondutores (SQUIDs), circuitos supercondutores e aceleradores de partículas.
Microeletrônica: Filmes finos de nióbio são usados em capacitores, interconexões e como barreiras de difusão em microeletrônica devido à sua excelente condutividade e estabilidade.
Revestimentos Ópticos: O nióbio é usado em revestimentos refletivos e filtros ópticos. A pulverização catódica reativa forma pentóxido de nióbio (Nb2O5), que é usado em revestimentos ópticos de alto índice.
Revestimentos de proteção: a resistência à corrosão e à oxidação do nióbio o torna útil para revestimentos de proteção em processamento químico e aplicações de alto desempenho.
Nitreto de nióbio (NbN): formado por pulverização catódica reativa, o NbN é usado em filmes supercondutores, revestimentos rígidos e camadas resistentes ao desgaste.

4. Propriedades do filme:
Supercondutividade: Filmes finos de nióbio apresentam supercondutividade em baixas temperaturas, o que os torna essenciais na computação quântica e em circuitos supercondutores de alto desempenho.
Resistência à corrosão: os filmes de nióbio oferecem excelente proteção contra corrosão, principalmente em ambientes agressivos, o que os torna úteis para camadas de proteção e barreira.
Propriedades ópticas: Os filmes de óxido de nióbio (Nb2O5) têm um alto índice de refração (~2,2) e são usados em revestimentos ópticos.
Resistência mecânica: Os filmes de nióbio são fortes e duráveis, o que os torna adequados para aplicações que exigem resistência ao desgaste.

5. Deposição reativa:
Pentóxido de nióbio (Nb2O5): formado por pulverização catódica reativa com oxigênio, o Nb2O5 é usado em revestimentos ópticos, dielétricos e capacitores devido à sua alta constante dielétrica e transparência óptica.
Nitreto de nióbio (NbN): filmes de NbN são usados em aplicações supercondutoras, bem como em revestimentos duros para ferramentas de corte e superfícies resistentes ao desgaste.

6. Desafios:
Envenenamento do alvo: Na pulverização catódica reativa, pode ocorrer envenenamento do alvo, onde compostos não metálicos (por exemplo, óxidos ou nitretos) se formam no alvo, reduzindo a eficiência da pulverização catódica.
Estresse interno: filmes de nióbio podem desenvolver estresse interno durante a deposição, o que pode afetar as propriedades mecânicas e a adesão do filme.

Resumo:
Alvos de pulverização catódica de nióbio (Nb) são amplamente usados em filmes finos para aplicações em supercondutividade, microeletrônica, revestimentos ópticos e camadas protetoras. A pulverização catódica DC é comumente usada para depositar filmes finos de nióbio, enquanto a pulverização catódica reativa é usada para formar compostos de nióbio como Nb2O5 (revestimentos ópticos, dielétricos) e NbN (filmes supercondutores, revestimentos duros). Filmes finos de nióbio são valorizados por suas propriedades supercondutoras, resistência à corrosão e durabilidade mecânica em vários setores.

Notas:
A colagem de placas de suporte metálicas ou elastoméricas é recomendada para todos os materiais de alvo dielétricos porque esses materiais têm características que não são passíveis de pulverização catódica, como fragilidade e baixa condutividade térmica. Esses alvos são mais suscetíveis a choque térmico devido à sua baixa condutividade térmica e, portanto, podem exigir procedimentos específicos de rampa de aumento e redução de potência durante as etapas de inicialização e desligamento.