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Pellets de HAFNIUM Ideal Vacuum - Hf, 100 gramas, 99,95 por cento de pureza, ponto de fusão de háfnio 2227 °C, pellets de 1 a 6 mm, materiais de evaporação PVD, filmes finos de háfnio

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Pellets de HAFNIUM Ideal Vacuum - Hf, 100 gramas, 99,95 por cento de pureza, ponto de fusão de háfnio 2227 °C, pellets de 1 a 6 mm, materiais de evaporação PVD, filmes finos de háfnio

Doença:

Novo

Número da peça:

P1013584

Garantia:

Full Manufacturer's Warranty

Disponível agora 10

Oferta: €926.08

Moeda: Euro (Euro)

Descrição

Materiais PVD de vácuo ideal, pellets de háfnio - Hf, pureza de 99,95% (3N5), ponto de fusão de háfnio 2227 °C, tamanho de pellet de 1 a 6 mm, 100 gramas, materiais de evaporação térmica, materiais de deposição de feixe de elétrons, filmes finos de metal de háfnio, número da peça: P1013584
Produtos de vácuo ideais, LLC.

Fornecemos materiais de evaporação PVD de alta qualidade para seu processo.

Este produto é uma garrafa de 100 gramas de pellets de háfnio de alta pureza (99,95%) com tamanho de 1 x 6 mm e enviados em garrafas plásticas PET. Essas peças têm uma densidade de 13,31 g/cc, um ponto de fusão de 2.227 °C e uma pressão de vapor de 10-4 Torr a 3.090 °C. Seu coeficiente de expansão térmica é 5,9 x 10-6/K e tem uma razão Z de 0,36.

Usamos uma estratégia de preços muito competitiva para garantir que você receba produtos da mais alta qualidade pelo melhor valor possível, oferecendo acessibilidade e excelência em cada compra. Oferecemos descontos a todos os clientes, clientes que fizerem pedidos em grandes quantidades desfrutarão de descontos maiores. Temos um grande estoque de materiais de evaporação PVD para que a maioria dos pedidos seja enviada no mesmo dia em que o pedido é feito. Esse curto prazo de entrega é adorado por todos os nossos clientes que buscam gerenciar seu fluxo de caixa, manter níveis de estoque mais baixos e diminuir os custos de armazenamento. Comprar da Ideal Vacuum significa que um cliente recebe seu produto rapidamente, aumentando a satisfação, ao mesmo tempo em que atende às suas necessidades urgentes de estoque. Isso também permite que nossos clientes fiquem à frente da concorrência, adaptando-se rapidamente a novas tendências e demandas.

Garantia de preço igualado
Estamos comprometidos em fornecer a você o melhor valor para sua compra. Se você encontrar um preço menor em um item idêntico de um concorrente, nós igualamos ativamente o preço. Basta nos fornecer os detalhes relevantes e garantiremos que você obtenha um melhor negócio.

Háfnio
O háfnio é um material valioso em aplicações de película fina devido às suas propriedades únicas, como alto ponto de fusão, excelente resistência à corrosão e capacidade de formar óxidos estáveis.

Aplicações de filmes finos de háfnio

Eletrônica e Microeletrônica: Dielétricos de Porta: O óxido de háfnio (HfO2) é amplamente usado em dispositivos semicondutores modernos como um material dielétrico de porta de alto k (alta constante dielétrica) em transistores. Ele substitui o dióxido de silício (SiO2) em nós de tecnologia CMOS avançada para reduzir o vazamento de porta e permitir maior miniaturização de componentes eletrônicos.
Capacitores: O HfO2 também é utilizado em capacitores, onde sua alta constante dielétrica permite maior capacitância em um volume menor, melhorando o desempenho de vários dispositivos eletrônicos.

Revestimentos Resistentes ao Desgaste: Aplicações Mecânicas: Filmes finos de háfnio são aplicados como revestimentos resistentes ao desgaste em componentes mecânicos sujeitos a condições extremas. Os filmes ajudam a estender a vida útil desses componentes, fornecendo uma superfície dura e durável.

Aplicações Nucleares: Revestimentos de Barras de Controle: As capacidades de absorção de nêutrons do háfnio o tornam um material de escolha em reatores nucleares, onde é usado em barras de controle. Películas finas de háfnio ou suas ligas são aplicadas às barras de controle para melhorar seu desempenho e vida útil.

Aplicações Ópticas: Camadas de Alto Índice: Filmes finos de óxido de háfnio são usados em revestimentos ópticos, particularmente em revestimentos antirreflexos, espelhos e lentes. Seu alto índice de refração e transparência nas regiões visível e infravermelho próximo o tornam ideal para essas aplicações.
Revestimentos a laser: O HfO2 é usado em revestimentos para óptica de laser devido à sua capacidade de suportar alta potência de laser sem se degradar, garantindo durabilidade e desempenho em sistemas de laser de alta potência.

A combinação única de alta constante dielétrica, resistência à corrosão, alto índice de refração e estabilidade sob condições extremas do háfnio o torna um material altamente versátil em aplicações de película fina. Ele é usado extensivamente em eletrônica, óptica, revestimentos de proteção, tecnologia nuclear e catálise, contribuindo significativamente para avanços nesses campos.

A Ideal Vacuum Products fornece uma ampla variedade de tamanhos de materiais de evaporação a um preço muito competitivo e prazo de entrega curto. Também aceitamos pedidos de tamanhos de pellets personalizados para atender às suas necessidades específicas. Entre em contato com nossa equipe de vendas para quaisquer dúvidas.

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