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理想真空 3 位高压气动闸阀，ISO-F 200 法兰，（DN 200），节流 3 位，带电磁阀和簧片传感器，24VDC，Viton O 型圈标准密封，SUS304 阀体

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理想真空 3 位高压气动闸阀，ISO-F 200 法兰，（DN 200），节流 3 位，带电磁阀和簧片传感器，24VDC，Viton O 型圈标准密封，SUS304 阀体

健康）状况：

新的

零件号：

P1013699

保修单：

Against Product Defect

缺货

销售： NT$165,801.00

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预计到达 1 on 2024-11-30

货币： New Taiwan Dollar (TWD)

描述

理想真空 3 位高压气动闸阀，节流 3 位置，带电磁阀和簧片传感器，24VDC，ISO-F 200 (DN 200) 法兰，Viton O 型圈标准密封，1x10 ^-8 Torr，SUS304 阀体，300,000 次循环

这款理想真空 3 位节流闸阀采用气动操作，配有 ISO-F 200 (DN CF200) 法兰。它具有可设置为部分打开的第 3 个位置。它适用于高真空 (HV)，配有标准 Viton O 形环密封闸阀和 Viton O 形环或 OFHC 铜垫圈，用于带有气动控制电磁阀的阀盖。这款 ISO-F 法兰闸阀使用 Viton O 形环作为波纹管和阀盖板密封，因此仅限于极限压力低至 1x10 ^-8 Torr 的高真空 (HV) 应用。这些阀门在需要维修之前的典型使用寿命为 300,000 次循环。它们由耐腐蚀的 304 不锈钢闸阀和阀体制成。这种 3 位控制提供了灵活性和精确性，可为各种真空沉积工艺（特别是在薄膜沉积工艺室系统中）保持最佳条件。

在物理气相沉积镀膜室中的应用
这种 3 位闸阀专为可靠的高真空应用而设计，通常与低温、涡轮和离子高真空泵结合使用。它在节流真空工艺（如 PVD 磁控溅射沉积）中的使用越来越广泛。在 PVD 涂层室（例如溅射系统）中，通常使用 3 位闸阀来控制涡轮分子泵和主工艺室之间的连接。这些闸阀可以精确控制真空系统，并可以隔离泵、保护室并调节抽气速度。典型的 3 位闸阀的三个位置是：

1. 完全打开位置：
最大电导率，最大涡轮抽气速度，用于初始抽空或在沉积过程中维持高真空。

2. 部分打开（节流位置）：
目的：在部分打开的位置，闸阀仅部分打开，从而节流腔室和涡轮泵之间的电导。当使用反应性气体（例如，反应溅射中的氧气或氮气）或当您需要微调压力以实现最佳薄膜生长时，节流非常重要。

此部分打开的位置在安装过程中手动设置并调整一次，并且可以随时更改以运行不同的工艺条件。

3. 完全关闭位置：
用途：在完全关闭的位置，闸阀将涡轮泵与主腔完全隔离。用例：此位置用于在腔体排气、负载锁腔样品加载等过程中或腔体暴露于大气压力时保护涡轮泵。它可防止污染物或大气进入涡轮泵，从而防止其受损。

规格：
规格和特点：