ExploraVAC PVD 箱式镀膜机，20 英寸立方体不锈钢，气相金属沉积，法医 VMD，金属薄膜，热蒸发沉积，共沉积，4 个热舟，自动手动操作模式，触摸屏界面该箱式真空镀膜机系统专为法医气相金属沉积 (VMD) 过程而设计，特别是在实验室环境中的潜在指纹开发。该腔室体积为 20 x 20 x 20 英寸立方体，由不锈钢制成。它有 4 个热蒸发源：用于蒸发舟、蒸发棒或坩埚。它配备了许多功能，包括一个 6 英寸旋转基材支架，用于织物、玻璃和纸张等平面基材。它可与水平夹头主轴互换，用于不规则样品，如子弹壳、水杯、刀、门把手和武器。它具有 2 个基板辐射加热器、2 个 Inficon QCM 传感器、内置厚度控制器，具有手动和自动处理模式。沉积过程可以是连续的，也可以是 2 个口袋共沉积。其他功能包括 2 个反应沉积气体入口、带重力快门和腔室照明的门视口，用于观察印刷品的发展、气动源和基板快门、水冷电极馈通、故障安全机制、堆栈灯和警报形式的视觉和音频状态指示器。该系统包括一个内置的 15.5 英寸触摸屏显示器，配备永不过期的 AutoExplor™ 软件基本版本，由机载 Windows 计算机运行，可以控制所有腔室和沉积过程功能。所有电子元件均通过北美 UL 认证。该系统有 2 个船源电源（4kW，400A），2 个变压器 - 45A。系统在下柜中安装了直接视在船功率、电压和负载电流测量模块和显示单元。该系统可以蒸发 VMD 的常见金属：金、铜、镍、锌、铬、铝。腔室由 Edwards nXDS20i 干式涡旋泵粗抽，由 Pfeiffer HiPace 300 涡轮分子泵精抽，在适当调节的情况下，基础压力为 3 x 10-7 Torr。我们可以为您的 VMD 工艺定制配方。我们会在发货前对您的工艺进行全面测试。我们还可根据要求提供 SOP 的现场或虚拟培训。我们的系统提供标准的一年保修。交货时间为采购订单确认后的 90 天。 ExploraVAC PVD 箱式镀膜机，20 英寸：全封闭 20 英寸焊接 SS 真空室，带内部屏蔽 4 个源，1.0 cc，2 - 4 英寸舟皿 - 钨、钼、钽、棒、坩埚 VMD 金属：金、锌、铜、镍、钛、铬、铝、锡、银、铟 旋转基片支架/主轴 气动快门 2 个 QCM 传感器 基片辐射加热器 带 6 英寸视窗的门，带重力快门 快速闩锁前门通过视窗关闭 LED 室照明 15.5 英寸 LCD 触摸屏显示器 Edwards nXDS20i 干式涡旋真空泵 Pfeiffer HiPace 300 涡轮泵 视在舟皿功率测量和显示 蒸发器源功率 - 4kVA，400A 视觉和音频运行状态指示器 故障安全机制 热 PVD 概览图1. PVD 工艺过程中靶材在舟皿中热蒸发的示意图。热蒸发物理气相沉积 (PVD) 是一种在真空环境中将薄膜材料沉积到基片上的简单方法。金属和非金属膜都可以通过此方法沉积。在沉积过程中，材料被加热直至熔化并蒸发，然后蒸汽升起并凝结到较冷的基片上，形成薄膜。某些材料（如 Cr）只是升华而不熔化，从而实现最佳沉积蒸汽压。蒸汽分子的平均自由程必须足够长，以避免与腔内残留气体发生碰撞。这是通过确保在开始蒸发之前基准压力降至计算阈值以下来实现的。我们的腔室由 Pfeiffer HiPace 涡轮分子泵在几分钟内将压力抽至 10-7 Torr 以下，在此气压下，蒸汽的平均自由程增加到 40 英寸以上，大约是沉积过程投射距离的四倍。这确保了我们系统高效且无污染地沉积。QCM 传感器是一种常见的薄膜厚度监测器，集成在 PVD 腔室中，用于不断反馈沉积速率和薄膜厚度。应用：法医，使用真空金属沉积 (VMD) 进行指纹标记成像指纹成像是执法部门和其他相关政府机构和私人组织在法医刑事调查中使用的强大工具。在真空金属沉积 (VMD) 中，一对金属薄膜用于涂覆和形成可能存在于从犯罪现场恢复的材料上的潜在指纹。指纹残留物主要由有机化合物组成，例如汗液、油脂和其他身体分泌物。这些物质会形成一层在物理和化学上都不同于纸张、玻璃、织物、木材和金属表面等基材的薄膜。在 VMD 中，通常首先沉积的膜是金，然后是锌。铬、银、锡、铜、铝也已用于形成潜指纹。图 2. (a) VMD 在子弹壳、美元钞票、窗玻璃和快餐店纸质收据上形成的潜在指纹。(b) 形成的指纹的显微镜图像显示了可提取 DNA 进行进一步法医分析的区域。锌是一种金属，不能有效与指纹残留的有机材料结合。因此，在用于潜指纹形成的 VMD 技术中，通常首先沉积一层金膜，主要是为了增强附着力和改善对比度，其中金与指纹残留物形成高对比度背景。在 300 – 400nm 范围内激发涂层膜可获得最佳的印刷标记视觉效果。当第二层金属（通常是锌）沉积时，它会更牢固地粘附在没有残留物的区域，从而突出指纹的脊线，形成清晰独特的图案，可用于法医分析。黄金也是化学惰性的，不会与指纹残留物或后续的金属层发生反应。这有助于保持潜指纹的完整性，确保准确可靠的显影和 DNA 恢复（图 2(b)）。图 3. VMD 使用 ExploraVAC PVD 盒式镀膜机上的铜和铬膜堆栈在窗玻璃上显影的指纹。图像经过图像处理软件处理以提高对比度。迄今为止，VMD 已被证明是唯一能够在织物和大型证据（如床上用品或已陈化数月的展品，如被扔到水下的武器）上显影指纹的方法。这使得该工具在尝试使用新发现的实物展品来解决悬案时非常有用。物品类别多孔半多孔无孔杂项

ExploraVAC PVD VLTE 有机热蒸发器，20 英寸立方不锈钢，有机物低温蒸发器，有机染料 LTE 沉积，OLEDS 发射层的有机薄膜沉积，6 个热坩埚。该箱式真空镀膜机系统设计用于实验室环境中对温度敏感的有机和有机金属化合物进行真空低温蒸发和沉积。腔室体积为 20 x 20 x 20 英寸立方，由不锈钢制成。它有 6 个热蒸发坩埚，装载容量为 10 cc，总容量为 15 cc。它配备了许多功能，包括一个定制的 6 英寸旋转基板支架。它有 2 个 Inficon QCM 传感器和一个内置 Inficon STM-2 厚度控制器，具有手动和自动处理模式。如果需要，可以为基板支架添加辐射加热器。沉积过程可以是连续的，也可以是共沉积的。其他功能包括 2 个反应沉积气体入口、带重力快门和腔室照明的门视口以观察涂层进度、气动源和基材快门、故障安全机制、烟囱灯和警报形式的视觉和音频状态指示器。该系统包括一个内置的 15.5 英寸触摸屏显示器，配备永不过期的 AutoExplor™ 软件基本版本，由板载 Windows 计算机运行，可以控制所有腔室和沉积过程功能。所有电子元件均通过北美 UL 认证。该系统安装了直接视在坩埚线圈功率、电压和负载电流测量模块以及下柜中的显示单元。该系统可以蒸发常见的有机和有机金属材料，如 PMMA、AIQ3、CuPc、MAI、富勒烯 - C60 和苝衍生物，如 PTCDA 和 PDI。用于 SiO2、TiO2、Al2O3、GeO2 等介电材料沉积的各种有机基前体也可以蒸发。腔室由 Edwards nXDS20i 干式涡旋泵粗抽，由 Pfeiffer HiPace 300 涡轮分子泵精抽，在适当调节的情况下，基准压力为 3 x 10-7 Torr。沉积前，坩埚可加热至 100°C 以干燥样品。安装低温泵以捕获水分。每个陶瓷坩埚袋都包裹在加热线圈中，加热线圈带有 PID 温度控制器，以确保样品不会过热。我们可以为您的 VLTE 工艺定制配方。我们会在发货前对您的工艺进行全面测试。还可根据要求提供 SOP 的现场或虚拟培训。我们的系统提供标准的一年保修。交货时间为采购订单确认后的 90 天。 ExploraVAC PVD VLTE 有机热蒸发器：全封闭 20 英寸焊接 SS 真空室，带内部防护罩 6 个坩埚，15.0 cc，10 cc 负载容量 坩埚温度范围：30 – 800 °C 兼容氧化铝、氧化锆、钨、石墨、石英坩埚 旋转基片支架（定制） 气动快门 2 个 QCM 传感器 基片辐射加热器（可选） 带 6 英寸视口的门，带重力快门 快速闩锁前门通过视口关闭 LED 室照明 15.5 英寸 LCD 触摸屏显示器 Edwards nXDS20i 干式涡旋真空泵 Pfeiffer HiPace 300 涡轮泵 视在坩埚线圈功率测量和显示 最大线圈功率 - 160W 每个坩埚的 PID 温度控制 视觉和音频运行状态指示器 故障安全机制 PVD 热蒸发沉积概述图 1. PVD 工艺过程中舟皿中目标材料热蒸发的示意图。热蒸发物理气相沉积 (PVD) 是一种在真空环境中将材料薄膜沉积到基材上的简单方法。金属和非金属薄膜都可以通过此方法沉积。在沉积过程中，材料被加热直至熔化并蒸发，然后蒸汽升起并凝结到较冷的基材上，形成薄膜。某些材料（如 Cr）只是升华而不熔化，从而实现最佳沉积蒸汽压。蒸汽分子的平均自由程必须足够长，以避免与腔室中的残留气体发生碰撞。这是通过确保在开始蒸发之前基准压力降至计算阈值以下来实现的。我们的腔室由 Pfeiffer HiPace 涡轮分子泵在几分钟内抽至 10-7 Torr 以下，在此气压下，蒸汽的平均自由程增加到超过 40 英寸，大约是沉积过程投射距离的四倍。这确保了我们系统高效且无污染地沉积。QCM 传感器是一种常见的膜厚度监测器，集成在 PVD 腔室中，用于不断反馈沉积速率和膜厚度。有机材料沉积的 VLTE 原理真空低温蒸发 (VLTE) 是一种在相对较低的温度下在真空条件下将材料薄膜沉积到基板上的方法。源材料被加热到刚好蒸发而不会分解或反应的程度。对于有机材料，这种技术特别有用，因为许多有机化合物对高温敏感，如果暴露在过多的热量下会降解。在 VLTE 中，要沉积的材料在真空下的坩埚中加热，直到其蒸发或升华。与传统热蒸发不同，材料不直接接触加热元件。真空环境降低了材料的沸点，使其在较低温度下蒸发。然后，该蒸汽凝结在基板上，形成薄膜。对于有机材料，此过程受到严格控制，以防止分解并确保高质量的薄膜。VTLE 工艺的工作温度范围高达约 800°C，超过此温度，大多数热稳定有机化合物都会开始分解，从而改变薄膜涂层的化学结构，导致薄膜缺陷。VLTE 有机基薄膜涂层材料示例图 2。三(喹啉-8-醇)铝 AlQ3AlQ3 是一种黄色粉末，熔点为 410 – 430°C。AlQ3 通常用作 OLED 中的电子传输层。它促进电子从阴极到发射层的传输。 AlQ3 还可用作发射层材料，在电子和空穴复合时发光。它通常发出绿光。 图 3. 苝衍生物 苝衍生物是一类由苝衍生的有机化合物，由于其出色的电荷传输和发光特性，常用于有机光伏和光电探测器。苝衍生物的一个例子是苝四羧酸二酐 (PTCDA)。PTCDA 是一种深红色粉末，熔点为 403°C。它用于有机场效应晶体管 (OFET)、有机光伏 (OPV) 和有机发光二极管 (OLED)。它具有高热稳定性、良好的电子迁移率和在可见光谱中的强吸收。用于为涂层提供红色颜料。 图 4. 富勒烯 - C60 富勒烯，例如 C60，颜色为深紫色，熔点约为 600°C（升华）。富勒烯通常用作有机光伏电池（OPV）中的电子受体。它们从供体材料中接受电子，从而促进有效的电荷分离和传输。它们具有高电子亲和力和迁移率，从而提高了太阳能电池的整体效率。C60 还广泛用于生产钙钛矿太阳能电池、光电探测器、有机发光二极管 (OLED) 和有机场效应晶体管 (OFET)。图 5. 聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)PMMA 是一种透明的热塑性聚合物，用于光学涂层和光刻中的抗蚀剂材料，熔点为 160°C。PMMA 广泛用作电子束光刻中的正性抗蚀剂。当暴露于电子束时，PMMA 会发生断链，使暴露区域更易溶于显影液。这允许在基板上创建高分辨率图案。PMMA 可用于通过暴露于紫外线在基板上形成图案，然后进行显影以去除暴露区域。它还可用作电子和光电子设备中的介电材料，其中 PMMA 充当导电层或组件之间的绝缘层。它具有提供良好电绝缘的优点，并且可以沉积成薄而均匀的层。PMMA 出色的光学清晰度和透光率使其适用于光学涂层。应用：有机材料低温蒸发 (VLTE)1. 有机光伏 (OPV)：有机薄膜用于太阳能电池中以吸收光并将其转化为电能。VLTE 允许精确沉积有源层，从而提高 OPV 的效率。2. 有机薄膜晶体管 (OTFT)：用于柔性电子产品和显示器。VLTE 提供高质量有机半导体层，以实现更好的设备性能。3. 传感器：有机材料可用于化学和生物传感器。VLTE 允许沉积可与目标分析物相互作用的敏感有机薄膜。4有机激光器：开发用于各种光学应用的有机半导体激光器。需要精确控制有机膜厚度和成分，可通过 VLTE 实现。5. 有机发光二极管 (OLED)：VLTE 用于在 OLED 中沉积有机层，这对于显示器和照明至关重要。它确保均匀的薄膜，这是高效发光和设备性能所必需的。简单 OLED（有机发光二极管）中的层排列可以从下到上描述如下：图 6. 有机发光二极管基本结构基板：这通常由玻璃或柔性塑料材料制成，为 OLED 提供机械支撑。阳极：透明层，通常由氧化铟锡 (ITO) 制成，允许光线穿过并将正电荷载流子（空穴）注入设备。空穴传输层 (HTL)：该层促进空穴从阳极传输到发射层。发射层 (EML)：OLED 的核心，光由此产生。这一层包含有机分子或聚合物，当在电极上施加电压时，它们会发光。电子传输层 (ETL)：这一层有助于电子从阴极传输到发射层。阴极：一种金属层，通常由铝或钙等材料制成，用于将电子注入设备。OLED（有机发光二极管）因其鲜艳的色彩、高对比度、灵活性和节能性而具有广泛的应用。主要应用包括：显示屏：智能手机：高端显示器。电视：卓越的画质。可穿戴设备：智能手表和健身追踪器。显示器：专业视觉工作。数字标牌：公共广告和信息显示器。柔性显示器：可折叠和可卷曲的屏幕。摘要真空低热蒸发是沉积有机薄膜的关键技术，在温度控制和薄膜均匀性方面具有优势。尽管存在与材料敏感性和工艺复杂性相关的挑战，但它在先进有机电子和光电子器件的生产中发挥着至关重要的作用。适当优化和控制沉积参数对于获得高质量的薄膜以及确保有机器件的性能和可靠性至关重要。