ExploraVAC PVD 박스 코터, 20인치 큐빅 스테인리스 스틸, 증기 금속 증착, 포렌식 VMD, 금속 박막, 열 증발 증착, 공증착, 4개의 열 보트, 자동 수동 작동 모드, 터치스크린 인터페이스

이 박스형 진공 코팅 시스템은 법의학적 증기 금속 증착(VMD) 공정, 특히 실험실 환경에서 잠재 지문 개발을 위해 설계되었습니다. 챔버는 20 x 20 x 20인치의 체적을 가지고 있으며 스테인리스 스틸로 만들어졌습니다. 증발 보트, 막대 또는 도가니를 위한 4개의 열 증발 소스가 있습니다. 직물, 유리 및 종이와 같은 평평한 기판을 위한 6인치 회전 기판 홀더를 포함한 많은 기능이 장착되어 있습니다. 이것은 총알 케이스, 물잔, 칼, 문 손잡이 및 무기와 같은 불규칙한 샘플의 경우 수평 척 스핀들과 호환됩니다. 2개의 기판 플레이트 방사 히터, 2개의 Inficon QCM 센서, 수동 및 자동 공정 모드가 있는 내장 두께 컨트롤러가 있습니다. 증착 공정은 순차적이거나 2개의 포켓 공증착이 될 수 있습니다. 기타 기능으로는 반응성 증착 가스 유입 포트 2개, 중력 셔터가 있는 도어 뷰포트와 인쇄물 현상 관찰을 위한 챔버 조명, 공압 소스 및 기판 셔터, 수냉식 전극 피드스루, 고장 안전 메커니즘, 스택 조명 및 알람 형태의 시각 및 청각 상태 표시기 등이 있습니다.

이 시스템에는 만료되지 않는 기본 버전의 AutoExplor ^™ 소프트웨어가 장착된 15.5인치 터치 스크린 디스플레이가 내장되어 있으며, 모든 챔버 및 증착 공정 기능을 제어할 수 있는 온보드 Windows 컴퓨터에서 실행됩니다. 모든 전자 부품은 북미에서 UL 인증을 받았습니다. 이 시스템에는 2개의 보트 소스 전원 공급 장치(4kW, 400A), 2개의 바리악(45A)이 있습니다. 이 시스템은 직접 피상 보트 전원, 전압 및 부하 전류 측정 모듈과 하단 캐비닛에 디스플레이 장치가 설치되어 있습니다.

이 시스템은 VMD를 위해 금, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 알루미늄과 같은 일반적인 금속을 증발시킬 수 있습니다. 챔버는 Edwards nXDS20i 건식 스크롤 펌프로 거칠게 펌핑되고 Pfeiffer HiPace 300 터보 분자 펌프로 미세 펌핑되어 적절하게 조절되면 3 x 10-7 Torr의 기저 압력이 됩니다.

VMD 프로세스에 맞는 레시피를 맞춤 제작할 수 있습니다. 배송 전에 프로세스를 철저히 테스트 실행합니다. 요청 시 SOP에 대한 직접 또는 가상 교육도 제공됩니다. 당사 시스템에는 표준 1년 보증이 제공됩니다. 리드 타임은 구매 주문이 확인된 후 90일입니다.

ExploraVAC PVD 박스 코터, 20인치:

• 내부 실드가 있는 완전 밀폐형 20인치 용접 SS 진공 챔버
• 4개의 소스, 1.0cc, 2 - 4'' 보트 - 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈륨, 막대, 도가니
• VMD 금속: Au, Zn, Cu, Ni, Ti, Cr, Al, Sn, Ag, In
• 회전 기판 홀더/스핀들
• 공압 셔터
• 2개의 QCM 센서
• 기판 방사 히터
• 중력 셔터가 있는 6인치 뷰포트가 있는 도어
• 퀵래치 전면 도어 클로저
• 뷰포트 LED 챔버 조명을 통해
• 15.5인치 LCD 터치 스크린 디스플레이
• Edwards nXDS20i 건식 스크롤 진공 펌프
• 파이퍼 하이페이스 300 터보 펌프
• 겉보기 보트 전력 측정 및 표시
• 증발기 소스 전력 - 4kVA, 400A
• 시각적 및 청각적 실행 상태 표시기
• 실패 안전 메커니즘

열 PVD 개요
그림 1. PVD 공정 중 보트 내에서 대상 물질의 열 증발에 대한 개략도.

열 증발 물리 기상 증착(PVD)은 진공 환경에서 기판에 재료의 얇은 필름을 증착하는 데 사용되는 간단한 방법입니다. 이 방법으로 금속 및 비금속 필름을 모두 증착할 수 있습니다. 증착 공정 동안 재료는 열적으로 가열되어 녹고 증발한 다음 증기가 떠올라 더 차가운 기판에 응축되어 얇은 필름을 형성합니다. Cr과 같은 일부 재료는 녹지 않고 단순히 승화하여 최적의 증착 증기압을 달성합니다. 증기 분자의 평균 자유 경로는 챔버의 잔류 가스와 충돌하지 않을 만큼 길어야 합니다. 이는 증발을 시작하기 전에 기본 압력이 계산된 임계값 아래로 떨어지도록 보장하여 달성됩니다.

저희 챔버는 Pfeiffer HiPace 터보 분자 펌프로 몇 분 안에 10-7 Torr 이하로 미세 펌핑되며, 이 가스 압력에서 증기의 평균 자유 경로는 증착 공정 던지기 거리보다 약 4배 더 큰 40인치 이상으로 증가합니다. 이를 통해 저희 시스템의 효율적이고 오염 없는 증착이 보장됩니다. QCM 센서는 PVD 챔버에 통합된 일반적인 필름 두께 모니터로 증착 속도와 필름 두께에 대한 피드백을 지속적으로 제공합니다.

응용 분야: 법의학, 진공 금속 증착(VMD)을 사용한 지문 마크 이미징
지문 이미징은 법 집행 기관 및 기타 관련 정부 기관과 민간 기관에서 법의학적 범죄 수사에 활용하는 강력한 도구입니다. 진공 금속 증착(VMD)에서 한 쌍의 금속 박막을 사용하여 범죄 현장에서 회수된 재료에 존재할 수 있는 잠재 지문을 코팅하고 개발합니다. 지문 잔류물은 주로 땀, 기름 및 기타 신체 분비물과 같은 유기 화합물로 구성됩니다. 이러한 물질은 종이, 유리, 직물, 목재 및 금속 표면과 같은 기질과 물리적, 화학적으로 다른 층을 만듭니다. VMD에서 일반적으로 먼저 증착되는 필름은 금이고 그 다음이 아연입니다. 크롬, 은, 주석, 구리, 알루미늄도 잠재 지문을 개발하는 데 사용되었습니다. 그림 2. (a) VMD가 총알 껍질, 달러 지폐, 창문 유리 및 패스트푸드 매장 영수증에서 개발한 잠재 지문. (b) 추가적인 법의학적 분석을 위해 DNA를 추출할 수 있는 영역을 보여주는 개발된 지문의 현미경 이미지.

아연은 금속이기 때문에 지문 잔여물 유기 물질과 효과적으로 결합하지 않습니다. 따라서 잠재 지문 현상을 위한 VMD 기술에서 주로 접착력을 높이고 대비를 개선하기 위해 금 필름을 먼저 증착하는 경우가 많습니다. 여기서 금은 지문 잔여물에 대해 고대비 배경을 만듭니다. 코팅된 필름을 300~400nm 범위에서 여기시키면 인쇄 표시의 가장 좋은 시각적 결과가 나옵니다. 두 번째 금속 층(일반적으로 아연)을 증착하면 잔여물이 없는 영역에 더 강하게 접착되어 지문의 융기가 강조되어 법의학적 분석을 위해 취할 수 있는 명확하고 뚜렷한 패턴이 생성됩니다. 금은 또한 화학적으로 불활성이며 지문 잔여물이나 후속 금속 층과 반응하지 않습니다. 이를 통해 잠재 지문의 무결성을 보존하여 정확하고 신뢰할 수 있는 현상 및 DNA 회수를 보장할 수 있습니다(그림 2(b).

그림 3. VMD가 ExploraVAC PVD Box Coater에서 구리와 크롬 필름 스택을 사용하여 개발한 창문 유리의 지문. 이미지는 대비를 개선하기 위해 이미지 처리 소프트웨어로 처리되었습니다.

VMD는 지금까지 직물과 침구 또는 물속에 던진 무기처럼 몇 달 동안 오래된 증거물과 같은 큰 증거물에 지문을 현상할 수 있는 유일한 방법으로 입증되었습니다. 이는 이 도구를 새로 발견된 물리적 증거물로 미제 사건을 해결하는 데 유용하게 만듭니다.