ExploraVAC PVD 박스 코팅기, 20인치 큐빅 스테인레스 스틸, 증기 금속 증착, 법의학 VMD, 금속 박막, 열 증발 증착, 동시 증착, 열 보트 4개, 자동 수동 작동 모드, 터치스크린 인터페이스

이 박스 진공 코터 시스템은 법의학 증기 금속 증착(VMD) 공정, 특히 실험실 환경에서 잠재 지문 개발을 위해 설계되었습니다. 챔버의 부피는 20 x 20 x 20인치 입방체이며 스테인리스 스틸로 만들어졌습니다. 증발 보트, 막대 또는 도가니용 등 4개의 열 증발 소스가 있습니다. 직물, 유리, 종이와 같은 평면 기판을 위한 6인치 회전 기판 홀더를 포함하여 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 이는 총알 탄피, 물잔, 칼, 문 손잡이 및 무기와 같은 불규칙한 샘플을 위한 수평 척 스핀들과 상호 교환 가능합니다. 기판 복사 히터 2개, Inficon QCM 센서 2개, 수동 및 자동 프로세스 모드를 갖춘 두께 컨트롤러가 내장되어 있습니다. 증착 공정은 순차적 또는 2포켓 동시 증착이 가능합니다. 다른 기능으로는 2개의 반응성 증착 가스 유입 포트, 중력 셔터가 있는 도어 뷰포트 및 인쇄물 현상을 관찰하기 위한 챔버 조명, 공압 소스 및 기판 셔터, 수냉식 전극 피드스루, 안전 장치 메커니즘, 스택 조명 및 경보 형태의 시각 및 청각 상태 표시기가 있습니다. .

시스템에는 모든 챔버 및 증착 프로세스 기능을 제어할 수 있는 온보드 Windows 컴퓨터에서 실행되는 만료되지 않는 기본 버전의 AutoExplor ^™ 소프트웨어가 장착된 내장형 15.5인치 터치 스크린 디스플레이가 포함되어 있습니다. 모든 전자 부품은 북미용 UL 인증을 받았습니다. 시스템에는 2개의 보트 소스 전원 공급 장치(4kW, 400A), 2개의 가변 전압(45A)이 있습니다. 직접 피상 보트 전력, 전압 및 부하 전류 측정 모듈과 디스플레이 장치가 하부 캐비닛에 설치된 시스템입니다.

이 시스템은 금, 구리, 니켈, 아연, 크롬, 알루미늄 등 VMD에 사용되는 일반 금속을 기화할 수 있습니다. 챔버는 Edwards nXDS20i 건식 스크롤 펌프로 러프 펌핑되고 Pfeiffer HiPace 300 터보 분자 펌프로 적절하게 조절된 기본 압력 3 x 10-7 Torr로 미세 펌핑됩니다.

귀하의 VMD 프로세스에 맞게 레시피를 맞춤화할 수 있습니다. 우리는 배송 전에 귀하의 프로세스를 철저히 테스트합니다. 요청 시 SOP에 대한 대면 또는 가상 교육도 제공됩니다. 우리 시스템에는 표준 1년 보증이 제공됩니다. 리드타임은 구매 주문 확정 후 90일입니다.

ExploraVAC PVD 박스 코팅기, 20인치:

• 내부 실드가 포함된 완전 밀폐형 20인치 용접 SS 진공 챔버
• 소스 4개, 1.0cc, 2 - 4'' 보트 - 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈륨, 막대, 도가니
• VMD 금속: Au, Zn, Cu, Ni, Ti, Cr, Al, Sn, Ag, In
• 회전식 기판 홀더/스핀들
• 공압식 셔터
• QCM 센서 2개
• 기판 복사 히터
• 중력 셔터가 있는 6'' 뷰포트가 있는 문
• 퀵 래치 전면 도어 클로저
• 뷰포트 LED 챔버 조명을 통해
• 15.5인치 LCD 터치스크린 디스플레이
• Edwards nXDS20i 건식 스크롤 진공 펌프
• 파이퍼 HiPace 300 터보 펌프
• 보트 피상 전력 측정 및 표시
• 증발기 소스 전력 - 4kVA, 400A
• 시각적 및 오디오 실행 상태 표시기
• 안전 장치 메커니즘

열 PVD 개요
그림 1. PVD 공정 중 보트 내 타겟 물질의 열 증발에 대한 개략도.

열 증발 물리적 기상 증착(PVD)은 진공 환경에서 기판에 재료의 얇은 필름을 증착하는 데 사용되는 간단한 방법입니다. 금속 및 비금속 필름 모두 이 방법으로 증착할 수 있습니다. 증착 과정에서 재료는 녹아서 기화될 때까지 열로 가열됩니다. 그런 다음 증기가 올라와 더 차가운 기판에 응축되어 얇은 필름을 형성합니다. Cr과 같은 일부 재료는 녹지 않고 단순히 승화되어 최적의 증착 증기압을 달성합니다. 증기 분자의 평균 자유 경로는 챔버 내 잔류 가스와의 충돌을 피할 수 있을 만큼 충분히 길어야 합니다. 이는 증발을 시작하기 전에 기본 압력이 계산된 임계값 아래로 떨어지도록 함으로써 달성됩니다.

당사의 챔버는 Pfeiffer HiPace 터보 분자 펌프를 통해 몇 분 내에 10-7 Torr 미만으로 정밀 펌핑됩니다. 이 가스 압력에서 증기의 평균 자유 경로는 증착 공정보다 약 4배 더 큰 40인치 이상으로 증가합니다. 투사 거리. 이는 당사 시스템의 효율적이고 오염 없는 증착을 보장합니다. QCM 센서는 증착 속도와 필름 두께에 대한 피드백을 지속적으로 제공하기 위해 PVD 챔버에 통합된 일반적인 필름 두께 모니터입니다.

응용 분야: 법의학, VMD(진공 금속 증착)를 이용한 지문 인식 이미징
지문 이미징은 법 집행 기관과 기타 관련 정부 기관, 민간 조직이 법의학 범죄 수사에 활용하는 강력한 도구입니다. 진공 금속 증착(VMD)에서는 한 쌍의 금속 박막을 사용하여 범죄 현장에서 회수된 물질에 존재할 수 있는 잠재 지문을 코팅하고 현상합니다. 지문 잔여물은 주로 땀, 기름, 기타 신체 분비물과 같은 유기 화합물로 구성됩니다. 이러한 물질은 종이, 유리, 직물, 목재 및 금속 표면과 같은 기질과 물리적, 화학적으로 다른 층을 생성합니다. VMD에서는 일반적으로 첫 번째로 증착되는 필름이 금이고 그다음에 아연이 증착됩니다. 크롬, 은, 주석, 구리, 알루미늄도 잠재 지문을 생성하는 데 사용되었습니다. 그림 2. (a) VMD가 총알 껍질, 달러 지폐, 유리창, 패스트푸드 매장 종이 영수증에 개발한 잠재 지문. (b) 추가 법의학 분석을 위해 DNA를 추출할 수 있는 영역을 보여주는 개발된 지문의 현미경 이미지.

금속인 아연은 지문 잔여 유기 물질과 효과적으로 결합하지 않습니다. 따라서 잠재 지문 개발을 위한 VMD 기술에서는 주로 접착력을 강화하고 금이 지문 잔여물에 대해 고대비 배경을 생성하는 대비 개선을 위해 금 필름을 먼저 증착하는 경우가 많습니다. 300 – 400nm 범위에서 코팅된 필름을 자극하면 인쇄 마크의 시각적 결과가 가장 좋습니다. 두 번째 금속층(일반적으로 아연)이 증착되면 잔여물이 없는 부분에 더욱 강력하게 접착되어 지문의 능선을 강조하여 법의학 분석에 사용할 수 있는 명확하고 뚜렷한 패턴을 만듭니다. 금은 또한 화학적으로 불활성이며 지문 잔여물이나 후속 금속층과 반응하지 않습니다. 이는 잠재 지문의 무결성을 보존하여 정확하고 신뢰할 수 있는 발달과 DNA 복구를 보장하는 데 도움이 됩니다(그림 2(b).

그림 3. ExploraVAC PVD Box Coater의 구리 및 크롬 필름 스택을 사용하여 VMD가 개발한 창 유리의 지문. 대비를 향상시키기 위해 이미지 처리 소프트웨어로 이미지를 처리했습니다.

VMD는 물속에 던져진 무기처럼 수개월 동안 노화된 침구나 전시물과 같은 대형 증거물과 직물에 인쇄물을 현상할 수 있는 유일한 방법임이 지금까지 입증되었습니다. 따라서 이 도구는 새로 발견된 실제 전시물을 사용하여 미해결 범죄 사건을 해결하는 데 유용합니다.