Edwards iXH 100 HARSH 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 Hz 3 相
Edwards 零件号 AC010A121000。 Edwards iXH 100 是一个新型干泵系列,专为绿色制造和严酷化学工艺的加工而设计。使用非常低的能源,开发出高效罗茨机构,可将输入功率大幅降低至 1.3 kW,比上一代干泵低 60%,从而减少对环境的影响并降低拥有成本。气体阻隔技术和热设计改进使耐腐蚀性能比 iH 系列产品高出四倍。先进的粉末处理功能意味着 iXH 将为多层蚀刻工艺提供最大的可靠性并延长泵的使用寿命,并降低 CVD 工艺的功耗,尤其是使用 HARSH 化学品时。
Edwards iXH 100 系列泵结构紧凑、重量轻,加上极低的噪音和振动,使 iXH 成为 Edwards 系列中用途最广泛的化学干泵。 iXH 将改变您对干式真空泵技术的期望,提供真正的好处并增加正常运行时间,同时对环境影响最小。 iXH 泵设计用于大多数半导体工艺,同时显着降低输入功率。该型号没有用于提高性能的增压鼓风机泵。有关完整的说明手册,请参阅下载。
特点和优点:- 主要用于严酷的化学应用
- 峰值抽速 100 m3/h-1 (59 CFM)
- 极限压力 1.5 X 10-2 Torr
- 无需预防性维护
- 仅包含主泵
- 3/8 英寸快速连接注水器
- 水和电源连接配对半部
- 不锈钢水冷系统
- 多模式 44 slm 气体模块
应用:- 负载锁
- 转移
- 气象
- 光刻
- 物理气相沉积PVD工艺
- 物理气相沉积 PVD 预清洗
- 快速热退火RTA
- 剥离/灰化
- 蚀刻
- 植入源
- 高密度等离子体化学气相沉积 HDP CVD
- 快速热处理RTP
- 低于大气压化学气相沉积SACVD
- 钨化学气相沉积 WCVD
- 改良化学气相沉积 MCVD
- 等离子体增强化学气相沉积 PECVD
- 低压化学气相沉积 LPCVD