Ideal Vacuum PVD 材料，锌粒 - Zn，纯度 99.99% (4N)，锌熔点 420 °C，1 – 10 毫米粒大小，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度锌粒（99.99%），尺寸为 1 - 10 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 7.14 g/cc，熔点为 420 °C，250 °C 时的蒸汽压为 10-4 Torr。其热膨胀系数为 30.2 x 10-6/K，Z 比为 0.514。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。锌锌是一种多功能且有效的涂层材料，用于各个行业的薄膜，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并且适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。薄膜锌传感器的应用：锌基薄膜由于其灵敏度和功能特性而用于气体传感器和生物传感器。电子：锌薄膜在电子工业中用于各种应用，包括作为印刷电路板 (PCB) 中的保护层和薄膜晶体管 (TFT) 的一部分。光伏：氧化锌 (ZnO) 薄膜用作光伏电池中的透明导电氧化物 (TCO)，这对于太阳能电池的功能至关重要。耐腐蚀性：锌提供出色的防腐蚀保护，尤其是对钢和铁。此特性归因于锌在暴露于大气中时能够形成氧化锌和碳酸锌保护层。附着力和延展性锌涂层能够很好地附着在各种基材上并表现出良好的延展性，这使它们能够承受机械变形而不会开裂。电化学特性：锌的电化学特性使其适用于各种电镀和电化学沉积工艺。总之，锌是一种用途广泛且有效的涂层材料，用于各种行业的薄膜中，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，镁颗粒 - Mg，纯度 99.99% (4N)，镁熔点 649 °C，颗粒尺寸 6 x 6 毫米，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度镁颗粒 (99.99%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 1.74 g/cc，熔点为 649 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (327 °C)。其热膨胀系数为 8.2 x 10-6/K，Z 比为 1.61。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。镁镁薄膜具有重量轻、强度高和导电性优异的良好组合，使其适用于各种高级应用。然而，要充分发挥其潜力，需要解决与氧化、腐蚀和沉积控制相关的挑战。镁薄膜储能应用：由于镁具有高能量密度，因此被开发用作电池电极和储氢材料。电子：镁薄膜因其导电性能和重量轻的特性而用于电子设备。航空航天和汽车工业：镁涂层用于减轻部件重量，提高燃油效率和性能。总之，镁薄膜结合了重量轻、强度高和导电性好等优点，适用于各种先进应用。然而，Mg 反应性高，易氧化，需要保护涂层或合金化来提高稳定性。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，钇片 - Y，纯度 99.9% (3N)，钇熔点 1522 °C，颗粒尺寸 1 - 6 mm，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013580 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度钇片（99.99%），尺寸为 1 - 10 mm，装在 PET 塑料瓶中运输。这些碎片的密度为 4.47 g/cc，熔点为 1,522 °C，蒸汽压为 10-4 Torr（1,157 °C）。其热膨胀系数为 10.6 x 10-6/K，Z 比为 0.835。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。锌锌是一种多功能且有效的涂层材料，用于各个行业的薄膜中，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。钇的薄膜应用光学涂层：氧化钇的透明度使其成为光学涂层的理想选择。电绝缘：氧化钇的绝缘性能在半导体和电子应用中非常有用。磁性：YIG 薄膜因其在各种电子和微波应用中的磁性而备受推崇。耐化学性：氧化钇薄膜具有出色的抗化学腐蚀和氧化性能。钇薄膜因其独特的性能（包括热稳定性、耐化学性、磁性和光学透明度）而在各种先进应用中备受推崇。它们在高温超导体、光学涂层、磁性设备和半导体行业中发挥着至关重要的作用。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

物理气相沉积颗粒，铜颗粒 - Cu，纯度 99.999%，原子量 63.546 amu，熔点 1,083 °C，6 x 6 毫米颗粒，100 克瓶装 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高质量的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。该产品是一瓶 100 克高纯度铜 (Cu) 颗粒 (99.999%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶或玻璃瓶中运输。这些颗粒的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,017°C)。其热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，它的 Z 比为 0.437。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最佳的购买价值。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。铜 铜是一种化学元素，符号为 Cu，原子序数为 29。它是一种红金色金属，具有极好的导电性和导热性。它的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，在 1,017°C 时的蒸汽压为 10-4 Torr。它的热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积中，它的 Z 比为 0.437。铜因其优异的导电性、热性能和粘附特性而被广泛用于薄膜工业。它可以使用电子束蒸发或电阻加热在坩埚、蒸发舟和金属丝篮中熔化和蒸发。以下是一些使用铜薄膜的例子。 薄膜 铜互连在微电子中的应用：铜薄膜用于集成电路和半导体器件中，由于其电阻低，可在元件之间创建高效的电气通路。涂层和电镀：铜薄膜在各种电子设备中用作导电层，为进一步沉积或电镀提供可靠、高效的导电表面。反射涂层：铜的高反射率使其适用于光学涂层和镜子，可提高依赖光反射的设备的效率。阻挡层：在多层薄膜结构中，铜可以充当扩散阻挡层，防止不同材料的混合，保持层的完整性和性能。传感器和催化剂：由于铜薄膜具有反应性表面特性，因此可用于气体传感器和化学反应的催化剂。靶背板：真空镀膜机中的溅射靶传统上粘合在铜背板上。总体而言，铜的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发颗粒。请查看下面的其他颗粒尺寸选项，如有任何疑问，请联系我们的销售团队。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。

Ideal Vacuum PVD 材料，钛颗粒 - Ti，纯度 99.995% (4N5)，钛熔点 1660 °C，6 x 6 毫米颗粒尺寸，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度钛颗粒 (99.995%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 4.5 g/cc，熔点为 1,660 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,453 °C)。其热膨胀系数为 8.6 x 10-6/K，Z 比为 0.628。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最佳的购买价值。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。钛钛薄膜涂层在现代技术中必不可少，它兼具强度、耐性和兼容性，可满足不同行业的需求。钛薄膜的应用光学：防反射涂层、光学滤光片和镜头受益于钛薄膜，可提高光学性能。电子：由于其出色的电气性能，可用于半导体器件、电容器和电阻器。航空航天和汽车工业：发动机部件和排气系统使用钛涂层来承受高温并减少磨损。医疗设备：由于其生物相容性，可用于手术器械、牙科植入物和关节置换术。传感器：TiO2 薄膜因其灵敏度和稳定性而用于气体传感器和生物传感器。二氧化钛独特的光学、化学和电子特性组合使其成为薄膜涂层中不可或缺的材料。其应用遍及各个行业，可提高产品性能、耐用性和环境可持续性。随着研究的进展，TiO2 涂层有望变得更加有效和广泛使用。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

物理气相沉积颗粒，铜颗粒 - Cu，纯度 99.999%，原子量 63.546 amu，熔点 1,083 °C，6 x 6 毫米颗粒，250 克瓶装 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了，您的搜索到此结束。该产品是一瓶 250 克高纯度铜 (Cu) 颗粒 (99.999%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶或玻璃瓶中运输。这些颗粒的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，蒸汽压为 10-4 Torr（1,017°C）。其热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，其 Z 比为 0.437。我们使用极具竞争力的定价策略，以确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，下大宗订单的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，以确保客户下订单后当天发货。这种较短的交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们将匹配该价格。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。铜铜是一种化学元素，符号为Cu，原子序数为29。它是一种红金色金属，具有高度的电和热传导性。它的密度为8.92 g/cc，熔点为1083°C，在1,017°C时的蒸汽压为10-4 Torr。其热膨胀系数为16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，它的Z比为0.437。铜因其优异的电导率、热性能和粘附特性而被广泛应用于薄膜行业。它可以使用电子束蒸发或电阻加热在坩埚、蒸发舟和金属丝篮中熔化和蒸发。以下是一些使用铜薄膜的示例。薄膜 铜互连在微电子中的应用：铜薄膜由于电阻低，可用于集成电路和半导体器件，从而在元件之间建立有效的电气通路。 涂层和电镀：铜薄膜在各种电子设备中用作导电层，为进一步沉积或电镀提供可靠、高效的导电表面。 反射涂层：铜的高反射率使其适用于光学涂层和镜子，从而提高依赖光反射的设备的效率。 阻挡层：在多层薄膜结构中，铜可以充当扩散阻挡层，防止不同材料的混合，保持层的完整性和性能。 传感器和催化剂：由于铜薄膜具有反应性表面特性，因此可用于气体传感器和化学反应中的催化剂。 靶背板：真空镀膜机中的溅射靶传统上粘合在铜背板上。 总体而言，铜的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产用于各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发颗粒。请查看下面的其他颗粒尺寸选项，如有任何疑问，请联系我们的销售团队。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。

Ideal Vacuum PVD 材料，硅（P 型）片 - Si，99.999% (5N) 纯，1 - 10 毫米片，100 克瓶装，硅熔点 1,410 °C，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度硅（P 型）片（99.999%），尺寸为 1 - 10 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些片的密度为 2.32 g/cc，熔点为 1,410°C，蒸汽压为 1,337°C 时的 10-4 Torr。其热膨胀系数为 2.6 x 10-6/K，Z 比为 0.437。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。硅（P 型）P 型硅因其半导体特性而成为物理气相沉积 (PVD) 工艺中使用的关键材料。硅的物理、化学、电和热特性使其成为现代技术和工业中不可或缺的材料。P 型硅是一种半导体材料，已掺杂为其提供正电荷载体（空穴）的元素。这种类型的硅因其导电能力而在各种电子和光伏应用中至关重要。在薄膜应用中，P 型硅起着关键作用，尤其是在太阳能电池和晶体管中。掺杂元素：P 型硅通常掺杂元素周期表第 III 族的元素，例如硼、铝或镓。硼是最常用的掺杂剂。薄膜硅太阳能电池的应用：非晶硅 (a-Si) 太阳能电池：P 型硅通常用于制造非晶硅太阳能电池。这些电池具有一层薄薄的 P 型硅，与 N 型硅形成结，有助于分离光吸收产生的电荷载流子。薄膜晶体管 (TFT)：非晶硅 TFT：P 型硅可用于薄膜晶体管，薄膜晶体管是显示器和其他电子设备的重要组成部分。它们在灵活性和低成本制造方面具有优势。低温多晶硅 (LTPS) TFT：与非晶硅 TFT 相比，这些晶体管使用 P 型多晶硅，在更高的迁移率和更快的开关速度方面提供更好的性能。总体而言，p 型硅的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产用于各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。