Ideal Vacuum PVD 材料，铪颗粒 - Hf，纯度 99.95% (3N5)，铪熔点 2227 °C，颗粒尺寸 1 - 6 mm，100 克，热蒸发材料，电子束沉积材料，铪金属薄膜，零件编号：P1013584 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度铪颗粒 (99.95%)，尺寸为 1 x 6 mm，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 13.31 g/cc，熔点为 2,227 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (3,090 °C)。其热膨胀系数为 5.9 x 10-6/K，Z 比为 0.36。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。铪铪具有独特的性质，如高熔点、优异的耐腐蚀性和形成稳定氧化物的能力，是薄膜应用中的宝贵材料。铪的薄膜应用电子和微电子：栅极电介质：氧化铪 (HfO2) 广泛用于现代半导体器件中，作为晶体管中的高 k（高介电常数）栅极电介质材料。它取代了先进 CMOS 技术节点中的二氧化硅 (SiO2)，以减少栅极泄漏并进一步实现电子元件的小型化。电容器：HfO2 也用于电容器，其高介电常数允许在较小的体积内实现更大的电容，从而提高各种电子设备的性能。耐磨涂层：机械应用：铪薄膜用作在极端条件下工作的机械部件的耐磨涂层。这些薄膜通过提供坚硬耐用的表面，有助于延长这些部件的使用寿命。核应用：控制棒涂层：铪的中子吸收能力使其成为核反应堆的首选材料，可用于制作控制棒。铪或其合金的薄膜可用于控制棒，以提高其性能和使用寿命。光学应用：高折射率层：氧化铪薄膜用于光学涂层，特别是防反射涂层、镜子和透镜。其高折射率和在可见光和近红外区域的透明度使其成为这些应用的理想选择。激光涂层：HfO2 用于激光光学涂层，因为它能够承受高激光功率而不发生降解，确保高功率激光系统的耐用性和性能。铪独特的高介电常数、耐腐蚀性、高折射率和极端条件下的稳定性使其成为薄膜应用中用途广泛的材料。它广泛应用于电子、光学、防护涂层、核技术和催化领域，为这些领域的进步做出了重大贡献。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，钽颗粒 - Ta，纯度 99.95% (3N5)，钽熔点 3017 °C，6 x 6 毫米颗粒尺寸，100 克，热蒸发材料，电子束沉积材料，钽金属薄膜，零件编号：P1013583 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度钽颗粒（99.95%），尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 16.6 g/cc，熔点为 3,017 °C，蒸汽压为 10-4 Torr（2,590 °C）。其热膨胀系数为 6.3 x 10-6/K，Z 比为 0.262。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。钽钽是一种用途广泛的材料，由于其优异的性能，例如高耐腐蚀性、良好的导电性、生物相容性和高熔点，可用于薄膜应用。钽电子和微电子薄膜应用：阻挡层：钽广泛用作半导体器件中的扩散阻挡层，特别是集成电路中的铜互连。它可以防止铜扩散到硅和介电层中，从而降低器件的性能。钽在此角色中的有效性归因于其稳定性和耐高温性。电容器：钽薄膜用于生产钽电容器，钽电容器以其单位体积高电容和可靠性而闻名。这些电容器通常用于移动电话、计算机和汽车电子设备。耐腐蚀涂层：保护涂层：由于钽具有出色的耐腐蚀性，因此在材料暴露于腐蚀性化学物质的环境中（例如化学加工设备和医疗植入物），钽被用作薄膜涂层。钽涂层可保护底层材料免受腐蚀，从而大大延长其使用寿命。生物医学应用：生物相容性涂层：钽的生物相容性使其成为医疗植入物（例如骨科设备和支架）上薄膜涂层的理想选择。它不会与身体组织发生不良反应，其薄膜可促进骨骼整合和组织愈合，使其成为生物医学工程中的首选材料。光学应用：光学涂层：五氧化二钽 (Ta2O5) 薄膜用于光学涂层，用于光子设备中的抗反射涂层、波导和高折射率层等应用。这些薄膜因其高折射率、可见光谱中的透明度和耐用性而受到重视。耐磨涂层：硬涂层：钽薄膜用作工具和机械中的耐磨涂层，可提供坚硬耐用的表面，可承受高温和机械应力等极端条件。钽具有独特的性能组合，包括耐腐蚀性、高熔点、生物相容性和良好的导电性，使其在各个行业中都具有很高的价值。其在薄膜中的应用范围从微电子和光学到医疗植入物和保护涂层，突显了其在先进材料科学中的多功能性和重要性。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

理想真空钇 (Y) 颗粒，纯度 99.9% (3N)，熔点 1522 °C，热蒸发材料，钇薄膜 PVD 沉积材料，颗粒大小 1-6 毫米，100 克。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度钇片 (99.99%)，尺寸为 1 - 10 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些碎片的密度为 4.47 g/cc，熔点为 1,522 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,157 °C)。其热膨胀系数为 10.6 x 10-6/K，Z 比为 0.835。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。锌锌是一种多功能且有效的涂层材料，用于各个行业的薄膜，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并且适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。钇光学涂层的薄膜应用：氧化钇的透明度使其成为光学涂层的理想选择。电绝缘：氧化钇的绝缘性能有利于半导体和电子应用。磁性：YIG 薄膜因其在各种电子和微波应用中的磁性而受到高度重视。耐化学性：氧化钇膜具有出色的耐化学腐蚀和氧化性。钇薄膜因其独特的性能（包括热稳定性、耐化学性、磁性和光学透明度）而在各种先进应用中受到高度重视。它们在高温超导体、光学涂层、磁性设备和半导体行业中发挥着至关重要的作用。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

物理气相沉积颗粒，铜颗粒 - Cu，纯度 99.999%，原子量 63.546 amu，熔点 1,083 °C，6 x 6 毫米颗粒，100 克瓶装 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高质量的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。该产品是一瓶 100 克高纯度铜 (Cu) 颗粒 (99.999%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶或玻璃瓶中运输。这些颗粒的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,017°C)。其热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，它的 Z 比为 0.437。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最佳的购买价值。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。铜 铜是一种化学元素，符号为 Cu，原子序数为 29。它是一种红金色金属，具有极好的导电性和导热性。它的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，在 1,017°C 时的蒸汽压为 10-4 Torr。它的热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积中，它的 Z 比为 0.437。铜因其优异的导电性、热性能和粘附特性而被广泛用于薄膜工业。它可以使用电子束蒸发或电阻加热在坩埚、蒸发舟和金属丝篮中熔化和蒸发。以下是一些使用铜薄膜的例子。 薄膜 铜互连在微电子中的应用：铜薄膜用于集成电路和半导体器件中，由于其电阻低，可在元件之间创建高效的电气通路。涂层和电镀：铜薄膜在各种电子设备中用作导电层，为进一步沉积或电镀提供可靠、高效的导电表面。反射涂层：铜的高反射率使其适用于光学涂层和镜子，可提高依赖光反射的设备的效率。阻挡层：在多层薄膜结构中，铜可以充当扩散阻挡层，防止不同材料的混合，保持层的完整性和性能。传感器和催化剂：由于铜薄膜具有反应性表面特性，因此可用于气体传感器和化学反应的催化剂。靶背板：真空镀膜机中的溅射靶传统上粘合在铜背板上。总体而言，铜的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发颗粒。请查看下面的其他颗粒尺寸选项，如有任何疑问，请联系我们的销售团队。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。

物理气相沉积颗粒，铜颗粒 - Cu，纯度 99.999%，原子量 63.546 amu，熔点 1,083 °C，6 x 6 毫米颗粒，250 克瓶装 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了，您的搜索到此结束。该产品是一瓶 250 克高纯度铜 (Cu) 颗粒 (99.999%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶或玻璃瓶中运输。这些颗粒的密度为 8.92 g/cc，熔点为 1083°C，蒸汽压为 10-4 Torr（1,017°C）。其热膨胀系数为 16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，其 Z 比为 0.437。我们使用极具竞争力的定价策略，以确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，下大宗订单的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，以确保客户下订单后当天发货。这种较短的交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们将匹配该价格。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。铜铜是一种化学元素，符号为Cu，原子序数为29。它是一种红金色金属，具有高度的电和热传导性。它的密度为8.92 g/cc，熔点为1083°C，在1,017°C时的蒸汽压为10-4 Torr。其热膨胀系数为16.5 x 10-6/K，在薄膜沉积的背景下，它的Z比为0.437。铜因其优异的电导率、热性能和粘附特性而被广泛应用于薄膜行业。它可以使用电子束蒸发或电阻加热在坩埚、蒸发舟和金属丝篮中熔化和蒸发。以下是一些使用铜薄膜的示例。薄膜 铜互连在微电子中的应用：铜薄膜由于电阻低，可用于集成电路和半导体器件，从而在元件之间建立有效的电气通路。 涂层和电镀：铜薄膜在各种电子设备中用作导电层，为进一步沉积或电镀提供可靠、高效的导电表面。 反射涂层：铜的高反射率使其适用于光学涂层和镜子，从而提高依赖光反射的设备的效率。 阻挡层：在多层薄膜结构中，铜可以充当扩散阻挡层，防止不同材料的混合，保持层的完整性和性能。 传感器和催化剂：由于铜薄膜具有反应性表面特性，因此可用于气体传感器和化学反应中的催化剂。 靶背板：真空镀膜机中的溅射靶传统上粘合在铜背板上。 总体而言，铜的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产用于各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发颗粒。请查看下面的其他颗粒尺寸选项，如有任何疑问，请联系我们的销售团队。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。

Ideal Vacuum PVD 材料，镁颗粒 - Mg，纯度 99.99% (4N)，镁熔点 649 °C，颗粒尺寸 6 x 6 毫米，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度镁颗粒 (99.99%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 1.74 g/cc，熔点为 649 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (327 °C)。其热膨胀系数为 8.2 x 10-6/K，Z 比为 1.61。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。镁镁薄膜具有重量轻、强度高和导电性优异的良好组合，使其适用于各种高级应用。然而，要充分发挥其潜力，需要解决与氧化、腐蚀和沉积控制相关的挑战。镁薄膜储能应用：由于镁具有高能量密度，因此被开发用作电池电极和储氢材料。电子：镁薄膜因其导电性能和重量轻的特性而用于电子设备。航空航天和汽车工业：镁涂层用于减轻部件重量，提高燃油效率和性能。总之，镁薄膜结合了重量轻、强度高和导电性好等优点，适用于各种先进应用。然而，Mg 反应性高，易氧化，需要保护涂层或合金化来提高稳定性。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，镍颗粒 - Ni，纯度 99.995% (4N5)，镍熔点 1453 °C，6 x 6 毫米颗粒尺寸，100 克，热蒸发材料，电子束沉积材料，镍金属薄膜，零件编号：P1013582 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度镍颗粒 (99.995%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 8.91 g/cc，熔点为 1,453 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,262 °C)。其热膨胀系数为 13.4 x 10-6/K，Z 比为 0.331。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。镍镍因其优异的性能（例如良好的导电性、耐腐蚀性、磁性以及形成坚固合金的能力）而广泛用于薄膜应用。镍的薄膜应用光学应用：反射涂层：由于镍薄膜具有良好的反射率和耐用性，因此在光学应用中用作镜子和其他光学设备的反射涂层。抗反射涂层：镍有时用于多层抗反射涂层，有助于控制光的反射和透射。电子和微电子：互连和触点：镍用作电子电路和半导体器件中的底层，为后续层（例如金或铜）提供良好的导电基础，并提高附着力。阻挡层：镍在微电子中充当扩散屏障，防止其他金属（如金或铜）迁移到半导体材料中，从而降低器件性能。磁性薄膜：磁性数据存储：镍铁合金，如坡莫合金 (NiFe)，用于数据存储设备（包括硬盘驱动器和磁传感器）的磁性薄膜。这些材料具有高磁导率，适合记录和读取磁信息。磁屏蔽：镍薄膜用于需要磁屏蔽的应用，保护敏感电子元件免受外部磁场的影响。催化：催化薄膜：镍薄膜用于催化应用，特别是在氢化反应和燃料电池中，镍的催化性能可提高反应速率和效率。薄膜中的合金镍合金：镍通常与薄膜中的其他金属合金化，以调整硬度、耐腐蚀性和磁性等特性。例如，镍铬合金具有耐腐蚀性，镍铁合金具有磁性。薄膜中的合金镍合金：镍通常与薄膜中的其他金属合金化，以调整硬度、耐腐蚀性和磁性等特性。例如，镍铬合金具有耐腐蚀性能，镍铁合金具有磁性。 耐腐蚀涂层 保护涂层：镍薄膜用作各种基材的保护涂层，以增强耐腐蚀性能，尤其是在恶劣环境中，例如海洋、航空航天和工业应用。 装饰涂层：镍还用于装饰涂层，通常采用电镀工艺，既能提供美观的表面，又能防腐蚀。 传感器和执行器：火车 仪表：镍薄膜用于应变计，应变计是测量物体应变的传感器。镍膜的电阻会随着机械变形而变化，从而可以精确测量应变。 MEMS 设备：镍因其机械性能和易于制造而用于微机电系统 (MEMS)，有助于提高这些小型设备的性能和可靠性。镍的多功能性和理想特性使其成为从电子产品到保护涂层和催化剂等各种薄膜应用中的关键材料。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，钛颗粒 - Ti，纯度 99.995% (4N5)，钛熔点 1660 °C，6 x 6 毫米颗粒尺寸，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。本产品是一瓶 100 克高纯度钛颗粒 (99.995%)，尺寸为 6 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 4.5 g/cc，熔点为 1,660 °C，蒸汽压为 10-4 Torr (1,453 °C)。其热膨胀系数为 8.6 x 10-6/K，Z 比为 0.628。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最佳的购买价值。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。钛钛薄膜涂层在现代技术中必不可少，它兼具强度、耐性和兼容性，可满足不同行业的需求。钛薄膜的应用光学：防反射涂层、光学滤光片和镜头受益于钛薄膜，可提高光学性能。电子：由于其出色的电气性能，可用于半导体器件、电容器和电阻器。航空航天和汽车工业：发动机部件和排气系统使用钛涂层来承受高温并减少磨损。医疗设备：由于其生物相容性，可用于手术器械、牙科植入物和关节置换术。传感器：TiO2 薄膜因其灵敏度和稳定性而用于气体传感器和生物传感器。二氧化钛独特的光学、化学和电子特性组合使其成为薄膜涂层中不可或缺的材料。其应用遍及各个行业，可提高产品性能、耐用性和环境可持续性。随着研究的进展，TiO2 涂层有望变得更加有效和广泛使用。 Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和较短的交货时间提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单，以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，硅（P 型）片 - Si，99.999% (5N) 纯，1 - 10 毫米片，100 克瓶装，硅熔点 1,410 °C，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度硅（P 型）片（99.999%），尺寸为 1 - 10 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些片的密度为 2.32 g/cc，熔点为 1,410°C，蒸汽压为 1,337°C 时的 10-4 Torr。其热膨胀系数为 2.6 x 10-6/K，Z 比为 0.437。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。硅（P 型）P 型硅因其半导体特性而成为物理气相沉积 (PVD) 工艺中使用的关键材料。硅的物理、化学、电和热特性使其成为现代技术和工业中不可或缺的材料。P 型硅是一种半导体材料，已掺杂为其提供正电荷载体（空穴）的元素。这种类型的硅因其导电能力而在各种电子和光伏应用中至关重要。在薄膜应用中，P 型硅起着关键作用，尤其是在太阳能电池和晶体管中。掺杂元素：P 型硅通常掺杂元素周期表第 III 族的元素，例如硼、铝或镓。硼是最常用的掺杂剂。薄膜硅太阳能电池的应用：非晶硅 (a-Si) 太阳能电池：P 型硅通常用于制造非晶硅太阳能电池。这些电池具有一层薄薄的 P 型硅，与 N 型硅形成结，有助于分离光吸收产生的电荷载流子。薄膜晶体管 (TFT)：非晶硅 TFT：P 型硅可用于薄膜晶体管，薄膜晶体管是显示器和其他电子设备的重要组成部分。它们在灵活性和低成本制造方面具有优势。低温多晶硅 (LTPS) TFT：与非晶硅 TFT 相比，这些晶体管使用 P 型多晶硅，在更高的迁移率和更快的开关速度方面提供更好的性能。总体而言，p 型硅的多功能性和良好的物理和化学特性使其成为生产用于各种先进技术应用的薄膜的宝贵材料。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。

Ideal Vacuum PVD 材料，锌粒 - Zn，纯度 99.99% (4N)，锌熔点 420 °C，1 – 10 毫米粒大小，100 克，热蒸发材料，薄膜沉积材料，零件编号：P1013575 Ideal Vacuum Products, LLC。如果您正在为您的工艺寻找高品质的 PVD 蒸发材料，那么您来对地方了。本产品是一瓶 100 克高纯度锌粒（99.99%），尺寸为 1 - 10 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些颗粒的密度为 7.14 g/cc，熔点为 420 °C，250 °C 时的蒸汽压为 10-4 Torr。其热膨胀系数为 30.2 x 10-6/K，Z 比为 0.514。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您每次购买都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们拥有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单在下单当天发货。这种较短的交货时间深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到产品，提高满意度，同时满足他们紧急的库存需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。价格匹配保证我们致力于为您提供最物有所值的购买。如果您发现竞争对手的相同产品价格较低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。锌锌是一种多功能且有效的涂层材料，用于各个行业的薄膜，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并且适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。薄膜锌传感器的应用：锌基薄膜由于其灵敏度和功能特性而用于气体传感器和生物传感器。电子：锌薄膜在电子工业中用于各种应用，包括作为印刷电路板 (PCB) 中的保护层和薄膜晶体管 (TFT) 的一部分。光伏：氧化锌 (ZnO) 薄膜用作光伏电池中的透明导电氧化物 (TCO)，这对于太阳能电池的功能至关重要。耐腐蚀性：锌提供出色的防腐蚀保护，尤其是对钢和铁。此特性归因于锌在暴露于大气中时能够形成氧化锌和碳酸锌保护层。附着力和延展性锌涂层能够很好地附着在各种基材上并表现出良好的延展性，这使它们能够承受机械变形而不会开裂。电化学特性：锌的电化学特性使其适用于各种电镀和电化学沉积工艺。总之，锌是一种用途广泛且有效的涂层材料，用于各种行业的薄膜中，提供保护并延长底层材料的使用寿命。它能够形成防腐蚀保护屏障，并适用于各种沉积方法，使其成为现代材料科学和工程中的关键组成部分。Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。