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XEI Scientific Evactron E50 E-TC 净化器远程等离子源常用于 SEM、TEM、ALD 和 PVD 样品和基片制备

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  新的
零件号:
  P1013571
保修单:
  1-Year Limited Warranty

缺货   

销售: NT$977,201.20

XEI Scientific Evactron E50 E-TC 净化器远程等离子源常用于 SEM、TEM、ALD 和 PVD 样品和基片制备 977201.2
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货币: New Taiwan Dollar (TWD)

描述

XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污器远程等离子源常用于 SEM、TEM、ALD 和 PVD 样品和基材制备。

XEI Scientific Evactron E50 E-TC 净化系统包括:Evactron E50 E-TC 远程等离子体自由基源,带气体净化选项,Evactron E50 E-TC 机架式控制器,Evactron E50 E-TC 触摸板界面,系统用户手册和 Evactron E50 电缆组。这些是我们理想真空PlasmaVAC P50W等离子体清洁和净化系统的集成组件,是扫描 (SEM) 和透射 (TEM) 电子显微镜样品制备的理想产品。等离子清洁是一个至关重要的步骤,因为它可以去除样品表面的有机污染物,提高图像质量和分析准确性。

等离子清洗对于去除以下样品和基材中的碳氢化合物污染至关重要:
  • 扫描电子显微镜(SEM)
  • 透射电子显微镜 (TEM)
  • X 射线光电子能谱 (XPS)
  • X 射线光谱 (EDX)
  • 低温等离子聚焦离子束 (Cryo-PFIB)
  • 原子层沉积 (ALD)
  • 物理气相沉积 (PVD)
  • 极紫外光刻 (EUVL)

Evactron E50 E-TC表面处理规格:
  • XEI Scientific 远程等离子体源
  • 型号 Evactron E50 E-TC
  • 功率可在 35 至 75 瓦之间调节
  • 最大连续运行功率为 50 瓦
  • 射频频率为 13.56 MHz
  • 两种气体入口过滤器选项:3 nm 和 0.5 µm 孔径
  • 3 纳米孔径符合半导体行业 SEMI F38-0699 指令
  • 使用 O2、CDA、Ar/H2、Ar/O2、N2/H2 和 N2 气体进行测试。
  • 专用 Evactron 用户界面控制器
  • 用户设置存储
  • 配方、功率、周期和清洁时长

等离子清洗是一种广泛应用于显微镜(包括扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM))的技术,用于制备和净化样品。它可有效去除样品表面的有机污染物,提高图像质量和分析准确性。以下是等离子清洗 SEM 和 TEM 样品的工作原理:

1.等离子清洗的原理
等离子清洗使用等离子(一种高度电离的气体)来去除污染物。通过将高频电磁场施加到低压气体(通常是氧气、氩气或氢气)上来产生等离子。该过程会产生高反应性的离子、电子和中性物质。

2. 去除污染物
    在等离子清洗过程中:
  • 物理去除:等离子体中的高能离子轰击样品表面,以物理方式溅射掉污染物。
  • 化学反应:等离子体中的活性物质可与污染物发生化学反应。例如,氧自由基可氧化有机材料,将其转化为易于去除的挥发性化合物。

3. 在SEM和TEM中的应用
    对于 SEM 样品:
  • 净化:等离子清洗可去除指纹、油和空气中的颗粒物等有机残留物,这些残留物可能会遮挡细节或干扰电子束。
  • 改进成像:通过清洁表面,等离子处理可减少充电效应并增强 SEM 和 TEM 图像的分辨率和对比度。
  • 增强的分辨率和对比度:清洁的样品表面可以使电子和样品之间更好地相互作用,这对于在 SEM 和 TEM 中实现高分辨率和高对比度图像至关重要。
  • 涂层准备:通常在将导电涂层涂到非导电样品之前使用,确保涂层附着良好且均匀。

4. 使用等离子清洗的优点
  • 对样品温和:与化学清洗方法不同,等离子清洗通常不会破坏样品表面。
  • 快速高效:该过程可能需要几分钟到一个小时,具体取决于污染程度和样本大小。
  • 多功能:适用于多种材料,包括金属、陶瓷和生物样本。

宣传册

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Ideal Vacuum Products , LLC
5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, 新墨西哥 87109-5805 USA

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传真: (505) 872-9001
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